분위기 제어 머플 로 1700°C 최고 온도 80L 대용량 진공 불활성 가스 박스형 전기로

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분위기 제어 머플 로 1700°C 최고 온도 80L 대용량 진공 불활성 가스 박스형 전기로

품목 번호: TU-QF11

최대 작동 온도: 1700°C 챔버 용량: 80 리터 (410 x 410 x 500 mm) 분위기 호환성: 불활성, 산소, 진공 (<0.5 torr), 5% H2
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제품 개요

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이 고온 열처리 시스템은 재료 과학 연구 및 산업용 R&D를 위한 공학적 정점입니다. 엄격하게 제어된 환경에서 정밀한 열처리를 수행할 수 있도록 설계되었으며, 연구원과 엔지니어는 최대 1700ºC의 온도에서 소결, 어닐링 및 하소 작업을 수행할 수 있습니다. 가스 밀폐형 강철 챔버와 고급 가열 기술을 통합하여 불활성 가스, 산소 또는 진공 조건에서 작업할 수 있는 유연성을 제공하며, 열처리 과정 전반에 걸쳐 민감한 재료가 원치 않는 산화나 오염으로부터 보호되도록 보장합니다.

이 장비의 핵심 가치는 80리터의 대형 챔버 용량에 있으며, 이는 실험실 규모의 실험과 파일럿 규모의 생산 사이의 간극을 메워줍니다. 첨단 세라믹, 반도체 개발, 야금, 배터리 소재 합성 등 다양한 분야에서 널리 활용됩니다. 견고한 구조 덕분에 최대 100kg까지 적재할 수 있어, 높은 처리량과 대형 시료 처리가 운영 효율성을 위해 필수적인 중공업 분야의 다재다능한 작업 장비로 적합합니다.

까다로운 산업 환경을 위해 제작된 이 시스템은 신뢰성과 성능의 일관성을 최우선으로 합니다. 고급 1800등급 섬유질 알루미나 단열재와 고성능 발열체를 사용하여 빠른 가열 속도와 탁월한 열 균일성을 보장합니다. 고급 공랭식 및 수랭식 메커니즘이 통합되어 씰과 구조 부품의 무결성을 보호하며, 장시간 고온 사이클 중에도 장비가 최고의 성능을 유지할 수 있다는 확신을 사용자에게 제공합니다. 이 시스템은 단순한 전기로가 아니라 가장 엄격한 재료 처리 과제를 해결하기 위한 포괄적인 열처리 솔루션입니다.

주요 특징

  • 고급 다중 분위기 제어 기능: 가스 밀폐형 분위기 제어 강철 챔버를 갖추고 있어 산소, 불활성 가스(아르곤 또는 질소 등) 및 진공 조건에서 원활하게 작동하며, 가열 중 화학적 환경을 완벽하게 제어할 수 있습니다.
  • 우수한 가열 기술: 고품질 이규화 몰리브덴(MoSi2) 발열체를 장착하여 빠른 열 상승을 달성하고 최대 1700ºC까지 안정적인 온도를 유지하여 고내화성 재료에 대해 일관된 결과를 보장합니다.
  • 정밀 열 관리: 고급 PID 온도 컨트롤러는 0.1ºC 해상도와 ±1ºC 정확도로 50개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 제공하여 특정 재료 요구 사항에 맞춘 복잡한 가열 및 냉각 프로파일을 설정할 수 있습니다.
  • 고성능 단열: 챔버는 1800등급 섬유질 알루미나 단열재로 내장되어 있어 뛰어난 내열성을 제공하고 열 손실을 최소화하며, 내부 구조의 전반적인 에너지 효율성과 수명 향상에 기여합니다.
  • 강력한 진공 무결성: KF25 진공 포트와 정교한 밀폐 시스템을 갖추어 0.5 torr 미만의 진공 수준을 달성할 수 있으며, 이는 대기 중의 수분이나 산소에 민감한 재료를 처리하는 데 필수적입니다.
  • 이중 구역 온도 모니터링: 이중 B형 열전대를 사용하여 전체 작동 범위에서 매우 정확한 온도 피드백을 보장하며, 중요한 고온 단계에서 중복성과 안전성을 제공합니다.
  • 통합 안전 및 냉각: 고온 작동 중 전면 도어 씰을 보호하기 위해 수랭식 시스템과 내부 공랭식 시스템이 통합되어 주요 부품의 열적 저하를 방지합니다.
  • 중량물 적재 용량: 강화된 챔버 바닥은 최대 100kg의 재료를 지탱할 수 있도록 설계되어, 단열재의 구조적 무결성을 손상시키지 않으면서 대규모 산업용 배치나 무거운 세라믹 부품을 처리하는 데 적합합니다.
  • 정교한 가스 흐름 제어: 통합된 플로트 유량계(1-12 L/min)와 1/4" 압축 피팅을 통해 챔버로 공급되는 가스를 정밀하게 조절할 수 있어 높은 재현성으로 제어된 환경 처리가 가능합니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
첨단 세라믹 소결 알루미나, 지르코니아, 탄화규소 등 기술 세라믹의 고온 소성. 정밀한 열 제어를 통해 최대 밀도와 우수한 기계적 특성 보장.
반도체 어닐링 불활성 또는 진공 조건에서 반도체 웨이퍼 및 박막의 열처리. 산화를 방지하고 완제품의 고순도 전기적 특성 보장.
분말 야금 제어된 분위기에서 금속 분말 및 합금을 소결하여 복잡한 구조 부품 형성. 금속 산화를 피하면서 우수한 결합력과 구조적 무결성 제공.
촉매 합성 화학 R&D를 위해 특정 가스 흐름 하에서 촉매 재료 준비 및 하소. 촉매 활성 및 표면적 최적화를 위한 재현 가능한 화학적 환경 제공.
배터리 소재 연구 리튬 이온 및 전고체 배터리용 양극 및 음극 재료의 열처리. 특수 분위기 하에서 상전이 및 결정 구조 제어에 필수적.
유리 용융 및 청징 고순도와 정밀한 온도가 요구되는 특수 유리 배합의 소량 용융. 안정적인 고온 환경을 통해 균일한 용융물을 얻고 기포 제거.
항공우주 재료 테스트 제트 엔진 부품용 고온 합금 및 복합재의 스트레스 테스트 및 열처리. 극한의 열 조건을 시뮬레이션하여 재료 내구성 및 내열성 검증.
원자력 에너지 연구 시뮬레이션된 원자로 온도 및 분위기 하에서 내화 재료 및 연료 테스트. 안정성 한계에서의 재료 거동 분석을 위한 안전하고 제어된 환경 제공.

기술 사양

매개변수 상세 사양 (TU-QF11)
모델 식별자 TU-QF11
전원 공급 480VAC, 3상, 50/60 Hz
정격 출력 26 kVA
챔버 치수 410 mm x 410 mm x 500 mm (16" x 16" x 20")
챔버 용량 80 리터
최대 적재량 100 Kg
단열재 1800등급 섬유질 알루미나 단열재
발열체 MoSi2 발열체 (8개)
최대 온도 (공기 중) 1700 °C (연속)
최대 온도 (불활성) 1500 °C (연속)
최대 온도 (5% H2) 1500 °C (연속)
최대 온도 (진공) 1400 °C (연속)
온도 컨트롤러 50개 프로그래밍 가능 세그먼트 PID 컨트롤러
온도 정확도 ±1 °C
온도 해상도 0.1 °C
열전대 유형 이중 B-Type
진공 포트 KF25
진공 수준 < 0.5 torr
챔버 압력 < 3 psig
가스 피팅 1/4" 압축 튜브 입구/출구
가스 흐름 제어 플로트 유량계 (1-12 L/min)
냉각 요구 사항 전면 씰용 수랭식 (Push-to-connect Ø12 mm)
통신 인터페이스 DB9 RS-485 직렬 포트
규정 준수 CE 인증

분위기 제어 머플 로를 선택해야 하는 이유

  • 타협 없는 정밀도: 이 시스템은 정확한 열 프로파일을 제공하도록 설계되어 연구 및 생산 공정의 반복성과 신뢰성을 매번 보장합니다.
  • 견고한 산업용 구조: 중부하용 강철 분위기 챔버부터 고급 MoSi2 발열체에 이르기까지, 모든 부품은 극한 온도에서 연속 작동을 견딜 수 있는 능력에 따라 선택되었습니다.
  • 다재다능한 분위기 제어: 공정에 고진공, 불활성 아르곤 차폐, 또는 제어된 산소 환경이 필요하든, 이 장비는 변화하는 연구 요구 사항에 적응할 수 있는 유연성을 제공합니다.
  • 검증된 장기 신뢰성: 당사의 열처리 시스템은 전 세계 주요 연구 기관 및 산업 제조업체에서 사용되고 있으며, 까다로운 조건에서의 내구성과 일관된 성능으로 명성을 얻고 있습니다.
  • 확장 준비가 완료된 설계: 80L 챔버와 100kg 적재 용량을 갖춘 이 장비는 재료 분야의 혁신을 소규모 실험실 성공에서 본격적인 산업 응용으로 전환하는 데 이상적인 위치에 있습니다.

공식 견적을 원하시거나 귀하의 특정 재료 처리 요구 사항을 충족하기 위해 이 분위기 제어 열처리 시스템을 어떻게 맞춤화할 수 있는지 논의하려면 지금 기술 엔지니어링 팀에 문의하십시오.

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