제품 개요


이 고온 하이브리드 열처리 시스템은 대용량 머플 퍼니스의 기능과 이중 튜브 분위기 시스템의 정밀도를 결합하여 실험실 효율성을 크게 향상시킵니다. 재료 과학 연구원 및 산업 R&D 부서를 위해 설계된 이 장비는 여러 대의 개별 장비가 필요 없는 다목적 솔루션을 제공합니다. 혁신적인 구조를 통해 메인 챔버에서는 산화 재료를 처리하고, 통합된 석영 튜브 내에서는 진공 또는 불활성 가스 조건에서 민감한 샘플을 동시에 처리할 수 있습니다.
이 장비의 핵심 가치는 다재다능함과 비용 효율성에 있습니다. 7.2L 박스 챔버와 2개의 2인치 처리 튜브를 통합함으로써, 이 시스템은 단일한 콤팩트한 공간 내에서 고처리량 실험과 복잡한 열처리 사이클을 가능하게 합니다. 표준 공기 소성(air-calcination)을 수행하든 제어된 분위기에서 민감한 어닐링을 수행하든, 이 장비는 재현 가능한 과학적 결과를 얻는 데 필요한 일관된 열 환경을 제공합니다.
이 시스템의 모든 구성 요소에는 신뢰성이 설계되어 있습니다. 고순도 알루미나 섬유 단열재부터 견고한 이중층 강철 구조에 이르기까지, 이 장치는 지속적인 고온 작동의 가혹함을 견딜 수 있도록 제작되었습니다. 산업용 조달 팀은 가동 중단이 허용되지 않고 정밀도가 가장 중요한 까다로운 산업 공정에 이 장비를 신뢰할 수 있습니다. 인터록 스위치 및 보호 래치와 같은 고급 안전 기능이 포함되어 있어 강렬한 열 사이클 동안 실험실 인원을 위한 안전한 작업 환경을 보장합니다.
주요 특징
- 혁신적인 하이브리드 구조: 7.2L 머플 퍼니스와 2개의 2인치 석영 처리 튜브를 결합하여 표준 분위기 소결과 제어된 분위기 처리를 동시에 수행할 수 있습니다.
- 정밀 PID 열 제어: 자동 튜닝 기능이 있는 비례-적분-미분(PID) 로직을 사용하는 고급 컨트롤러가 ±1°C의 정확도를 유지하며, 복잡한 램핑 및 유지 단계를 위한 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 제공합니다.
- 고효율 알루미나 단열: 가열 챔버는 고순도 알루미나 섬유 단열재로 라이닝되어 있어 에너지 효율을 극대화하는 동시에 빠른 가열 속도와 12" x 8" x 5" 작업 공간 전체에 걸친 뛰어난 온도 균일성을 보장합니다.
- 향상된 안전 프로토콜: 외부 쉘을 안전하게 만질 수 있도록 통합 냉각 팬이 장착된 견고한 이중층 구조를 특징으로 하며, 도어가 열리면 작동하는 전원 차단 인터록이 보완되어 있습니다.
- 고급 진공 기능: 이중 단면 진공 플랜지, 진공 게이지 및 K25 포트가 장착되어 있어, 기계식 펌프 사용 시 10e-3 torr, 터보 분자 펌프 시스템 사용 시 10e-5 torr 범위의 진공 수준을 달성할 수 있습니다.
- 다양한 분위기 제어: 이중 튜브 설계를 통해 불활성 가스를 주입하거나 진공 상태(< 3 PSI)를 유지할 수 있어 산화나 습기에 민감한 재료를 처리하는 데 이상적입니다.
- 광학 모니터링 창: 도어에 0.5인치 직경의 석영 유리 관찰 창이 통합되어 있어 열 환경을 저해하지 않고 실시간으로 샘플 변화를 시각적으로 모니터링할 수 있습니다.
- 비용 효율적인 유지보수: 모듈식 섬유 가열 구성 요소는 저비용으로 쉽게 교체할 수 있도록 설계되어 긴 작동 수명을 보장하고 산업 시설의 총 소유 비용을 절감합니다.
- 강력한 가스 관리: 챔버 상단에 설치된 전용 벤트 포트는 가스 흐름을 위한 안정적인 배출구 역할을 하여 유해 증기 축적을 방지하고 제어된 분위기 사이클을 지원합니다.
- 맞춤형 처리량: 동일한 온도에서 여러 조성의 고처리량 어닐링을 위해 최대 12개의 소형 석영 튜브를 사용할 수 있는 기능을 포함하여 특수 구성을 지원합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 세라믹 소결 | 7.2L 메인 챔버에서 세라믹 분말의 고온 소성. | 우수한 온도 균일성으로 일관된 밀도와 구조적 무결성 보장. |
| 반도체 어닐링 | 불활성 가스 하의 석영 튜브 내에서 실리콘 또는 화합물 반도체 웨이퍼 처리. | 중요한 열 변형 단계에서 산화 및 오염 방지. |
| 배터리 재료 R&D | 진공 또는 제어된 아르곤 분위기에서 양극/음극 재료의 합성 및 테스트. | 민감한 리튬 화합물의 열화를 방지하기 위한 분위기 조건의 정밀 제어. |
| 분말 야금 | 제어된 환경에서 금속 분말을 소결하여 고밀도 부품 제작. | 이중 튜브 기능으로 서로 다른 합금 조성의 병렬 테스트 가능. |
| 촉매 특성 분석 | 특정 가스 흐름 하에서 촉매의 열 안정성 및 활성 테스트. | 통합 벤트 포트와 분위기 제어 튜브로 복잡한 가스-고체 반응 촉진. |
| 탄소 나노튜브 성장 | 화학 기상 증착(CVD) 공정에 튜브 퍼니스 섹션 활용. | 고순도 석영 환경과 안정적인 1200°C 성능으로 고품질 CNT 성장 지원. |
| 박막 처리 | 코팅된 기판의 열처리를 통해 접착력 및 결정 구조 개선. | 관찰 창을 통해 가열 주기 중 필름 변화를 시각적으로 확인 가능. |
| 치과 재료 테스트 | 지르코니아 및 기타 치과용 수복 재료의 고온 처리. | 깨끗한 알루미나 섬유 환경으로 교차 오염 방지 및 심미적 순도 유지. |
기술 사양
| 매개변수 | TU-HC04 상세 정보 |
|---|---|
| 모델 번호 | TU-HC04 |
| 퍼니스 유형 | 하이브리드 머플 / 이중 튜브 퍼니스 |
| 챔버 치수 | 12" D x 8" W x 5" H (300 x 200 x 120 mm) |
| 챔버 용량 | 7.2 리터 |
| 처리 튜브 | 2" O.D. x 12" L 석영 튜브 2개 (포함) |
| 튜브 재질 | 고순도 석영 (한쪽 끝 밀폐형) |
| 외부 치수 | 535mm (W) x 635mm (D) x 670mm (H) |
| 최대 온도 | 1200°C (연속) |
| 가열 속도 | 최대 30°C / 분 (권장: 10°C / 분) |
| 냉각 속도 | 권장 < 10°C / 분 |
| 온도 안정성 | 1000°C에서 ± 0.5°C |
| 제어 정확도 | ± 1°C |
| 온도 컨트롤러 | 30개 세그먼트 지원 FA-YD518P-AG PID |
| 통신 포트 | 기본 DB9 PC 통신 포트 |
| 가열 요소 | 교체 가능한 섬유 가열 모듈 |
| 단열재 | 고순도 알루미나 섬유 |
| 진공 수준 | 10e-3 torr (기계식 펌프) / 10e-5 torr (터보 펌프) |
| 진공 플랜지 | 진공 게이지 및 K25 포트가 있는 단면 진공 플랜지 |
| 가스 포트 | 열전대 또는 전기 테스트를 위한 플랜지 상의 예비 1/4" ID 포트 |
| 전력 출력 | 3.5 KW |
| 전압 | 208 - 240V 단상; 50/60 Hz |
| 안전 기능 | 도어 인터록, 보호 래치, 이중층 냉각 쉘 |
| 관찰 창 | 0.5" 직경 석영 유리 |
| 인증 | CE 인증 (요청 시 NRTL/UL61010 또는 CSA 가능) |
TU-HC04를 선택해야 하는 이유
TU-HC04 하이브리드 퍼니스는 귀중한 벤치 공간을 희생하지 않으면서 최대의 기능을 추구하는 실험실을 위한 최고의 투자입니다. 표준 머플 퍼니스와 달리, 이 장치는 대용량 7.2L 산화 챔버와 2개의 독립적인 분위기 제어 석영 튜브라는 세 가지 고유한 처리 영역의 유연성을 제공합니다. 이러한 다재다능함 덕분에 연구원들은 일반적으로 여러 대의 장비가 필요한 병렬 실험을 수행할 수 있어 프로젝트 일정을 크게 단축할 수 있습니다.
시스템의 열 관리에서 엔지니어링의 우수성이 입증됩니다. 고순도 알루미나 섬유 단열재와 이중 쉘 냉각 구조를 사용하여 내부 온도가 1200°C에 도달하더라도 외부 온도는 안전하게 유지되며 실험실 환경은 쾌적하게 유지됩니다. 또한, 고처리량 스크리닝을 위해 최대 12개의 소형 튜브로 장치를 맞춤화할 수 있는 기능은 재료 과학의 변화하는 요구 사항에 맞는 솔루션을 제공하려는 당사의 의지를 보여줍니다.
모든 TU-HC04는 엄격한 품질 관리 표준에 따라 제조되며 CE 인증을 받았으며, 가장 높은 국제 안전 요구 사항을 충족하기 위해 UL 또는 CSA 준수 옵션을 제공합니다. 교체 가능한 가열 모듈과 견고한 구조를 갖춘 이 시스템은 장기적인 작동 일관성과 최소한의 유지보수 중단을 위해 설계되었습니다.
공식 견적을 받거나 귀하의 특정 R&D 요구 사항에 맞는 맞춤형 열 솔루션에 대해 논의하려면 지금 기술 영업팀에 문의하십시오.
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