제품 개요
이 고온 열처리 시스템은 분위기와 열 프로파일을 절대적으로 제어해야 하는 연구원 및 산업 엔지니어를 위해 특별히 설계된 실험실 장비의 중요한 진보를 나타냅니다. 정밀 구동 하부 로딩 메커니즘을 활용하여 작업자에 대한 열충격을 최소화하고 가열 챔버 내에서 섬세한 샘플의 안정적인 위치 지정을 보장합니다. 이 구성은 샘플 방향과 분위기 순도가 실험 성공에 중요한 고정밀 재료 합성 작업에 특히 유리합니다.
다양성과 고처리량 R&D를 위해 설계된 이 시스템은 다양한 가스 환경에서 까다로운 열처리 공정을 위한 강력한 플랫폼을 제공합니다. 진공 또는 제어된 양압 상태에서 작동하든, 이 장치는 통합 냉각 및 밀봉 시스템을 통해 탁월한 안정성을 유지합니다. 이는 신뢰성과 반복 가능한 성능이 성공의 기본 요건인 첨단 재료 과학, 반도체 개발 및 항공우주 야금 분야에 이상적인 선택입니다.
장기적인 작동 일관성에 중점을 둔 이 시스템은 고순도 석영 튜브부터 특수 가열 요소에 이르기까지 프리미엄 부품을 사용하여 제작되었습니다. 수직 방향과 자동화된 스테이지를 통해 24시간 자율 작동이 필요한 환경을 포함하여 현대적인 실험실 워크플로우에 원활하게 통합될 수 있습니다. 전문가는 이 장치를 통해 정밀한 열 구배와 깨끗한 환경을 제공받아 모든 배치가 산업 연구 및 개발의 엄격한 표준을 충족하도록 보장할 수 있습니다.
주요 특징
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자동 하부 로딩 시스템: 정밀하게 설계된 수직 리프트 메커니즘은 부드럽고 진동 없는 샘플 로딩 및 언로딩을 가능하게 합니다. 이 자동화된 스테이지는 사용자를 고온 구역으로부터 멀리 떨어뜨려 작업자 안전을 향상시킬 뿐만 아니라, 여러 배치에 걸쳐 반복 가능한 결과를 얻을 수 있도록 일관된 샘플 배치를 보장합니다.
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고순도 6인치 석영 튜브: 이 시스템은 150mm 외경의 용융 석영 튜브를 처리 챔버로 사용합니다. 석영은 탁월한 열충격 저항성과 화학적 불활성을 제공하여 민감한 고온 반응 중 오염을 방지합니다. 또한 투명성 덕분에 열처리 주기 동안 샘플을 시각적으로 모니터링할 수 있습니다.
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듀얼 존 온도 제어: 독립적으로 제어되는 두 개의 가열 구역(각 175mm)을 갖춘 이 장치는 열 구배 관리에서 뛰어난 유연성을 제공합니다. 이 설정은 특정 온도 프로파일이나 ±2°C의 정확도로 최대 120mm까지 확장된 균일한 고온 구역이 필요한 응용 분야에 필수적입니다.
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첨단 터치스크린 인터페이스: 중앙 집중식 PLC 터치스크린 패널을 통해 작업자는 가열/냉각 속도, 유지 시간 및 가스 압력 매개변수를 포함한 복잡한 열처리 주기를 프로그래밍할 수 있습니다. 원버튼 실행 기능은 작동을 단순화하고 수동 프로그래밍 오류의 위험을 줄입니다.
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수냉식 밀봉 플랜지: 고급 SS304 스테인리스 스틸 플랜지에는 통합 수냉식 재킷이 장착되어 있습니다. 이 기능은 실리콘 O-링을 열화로부터 보호하여 로가 1200°C의 최고 온도에서 작동할 때도 높은 무결성의 진공 밀봉을 유지합니다.
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통합 질량 유량 제어(MFC): 이 로에는 고정밀 질량 유량 컨트롤러(1-1000 sccm)가 표준 장비로 포함되어 있습니다. 이를 통해 공정 가스를 정확하게 투입할 수 있어 전체 처리 과정 동안 석영 튜브 내부의 분위기가 일정하고 제어된 상태로 유지됩니다.
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자동화 및 PC 통합: 이 시스템에는 기본 DB9 PC 포트와 특수 소프트웨어가 장착되어 있어 원격 작동 및 데이터 로깅이 가능합니다. 고급 산업 응용 분야의 경우, 이 장치를 로봇 팔과 통합하여 완전 자율적인 24/7 처리 셀을 구축할 수 있습니다.
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강력한 가열 요소: 고품질 FeCrAlMo 와이어를 사용하는 가열 요소는 긴 수명과 빠른 열 반응을 위해 설계되었습니다. 이 요소들은 1200°C까지 안정적인 열을 생성하며 산화에 강하여 까다로운 실험실 환경에서도 긴 서비스 수명을 보장합니다.
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포괄적인 안전 및 모니터링: 상부 플랜지에는 디지털 진공 게이지, 기계식 압력 게이지 및 보조 열전대가 포함되어 있습니다. 이 다층 모니터링 시스템은 내부 환경에 대한 실시간 피드백을 제공하여 매개변수가 설정값에서 벗어날 경우 즉각적인 조정을 가능하게 합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 첨단 세라믹 소결 | 세라믹 분말을 고밀도 구조 부품으로 고온 압축. | 정밀한 분위기 제어로 산화를 방지하고 재료 순도 유지. |
| 화학 기상 증착(CVD) | 가스상 반응을 통해 다양한 기판 위에 박막 및 나노 재료 성장. | 균일한 가열 구역으로 대량 배치에서도 일관된 막 두께와 품질 보장. |
| 반도체 어닐링 | 실리콘 웨이퍼 또는 화합물 반도체의 열처리를 통한 전기적 특성 변경. | 빠른 냉각 기능과 고순도 환경으로 원치 않는 도펀트 이동 방지. |
| 야금 및 합금 | 보호 질소 또는 아르곤 분위기에서 특수 금속 합금의 용해 및 열처리. | 하부 로딩으로 열충격 최소화 및 무거운 도가니 취급 용이. |
| 배터리 재료 연구 | 차세대 에너지 저장을 위한 양극 또는 음극 재료의 하소 및 합성. | 24/7 자율 작동 기능으로 연구 처리량 대폭 증가. |
| 치과 및 생체 재료 | 치과용 세라믹 및 생체 적합성 임플란트의 특수 열처리. | 투명 석영 튜브를 통해 재료의 물리적 상태를 시각적으로 확인 가능. |
| 진공 브레이징 | 고진공 또는 불활성 환경에서 충전 금속을 사용한 금속 부품 접합. | 고무결성 밀봉 플랜지가 옵션 펌프와 함께 10⁻⁵ Torr 수준의 진공 유지. |
기술 사양
| 범주 | 매개변수 | TU-C32 사양 |
|---|---|---|
| 모델 식별 | 제품 품번 | TU-C32 |
| 전원 공급 | 전압 | 220VAC +/- 10%, 50/60Hz, 단상 |
| 정격 출력 | 최대 6.0 kW | |
| 열 성능 | 최대 작동 온도 | 1200°C (30분 이내 지속) |
| 장기 온도 | 1100°C 연속 | |
| 가열 속도 | 10°C / 분 (권장) | |
| 온도 정확도 | ±1°C (표준); ±0.1°C로 업그레이드 가능 | |
| 가열 구성 | 가열 요소 | 고성능 FeCrAlMo 와이어 |
| 가열 구역 | 듀얼 존 (175 mm + 175 mm) | |
| 총 가열 길이 | 350 mm | |
| 항온 구역 | 120 mm (±2°C 이내) | |
| 제어 시스템 | 인터페이스 | 터치스크린 PLC 프로그래밍 가능 패널 |
| 컨트롤러 | 50단계 온도 컨트롤러 2개 | |
| 열전대 | K-타입 센서 2개 | |
| PC 연결 | 원격 작동 소프트웨어가 포함된 DB9 포트 | |
| 챔버 구조 | 튜브 재질 | 고순도 용융 석영 |
| 튜브 치수 | 150 mm OD x 144 mm ID x 600 mm 길이 | |
| 샘플 스테이지 | 130 mm 직경 석영 플레이트 (맞춤형 가능) | |
| 밀봉 및 가스 | 플랜지 재질 | SS304 스테인리스 스틸 (수냉식) |
| 가스 제어 | 1-1000 sccm 질량 유량 컨트롤러(MFC) 포함 | |
| 압력 모니터링 | 디지털 진공 게이지 및 기계식 압력 게이지 | |
| 가스 포트 | G1/4 이중 페룰 입구; KF 25 진공 포트 | |
| 냉각 및 진공 | 워터 칠러 | 16L/분 재순환 칠러 포함 |
| 진공 수준 (옵션) | 10⁻² Torr (기계식) / 10⁻⁵ Torr (분자식) | |
| 안전 인증 | 인증 옵션 | NRTL 인증 진공 펌프 사용 가능 |
TU-C32를 선택해야 하는 이유
이 로 시스템에 투자하면 복잡한 열처리를 위한 다재다능하고 고성능인 솔루션을 시설에 제공할 수 있습니다. 듀얼 존 가열과 자동 하부 로딩의 조합은 일반적인 튜브로에서는 달성하기 어려운 수준의 정밀도와 반복성을 제공합니다. 견고한 엔지니어링은 장비가 지속적인 산업 연구의 엄격함을 견딜 수 있도록 보장하며, 가동 중지 시간 감소와 고품질 결과물을 통해 안정적인 투자 수익을 제공합니다.
또한, 이 시스템은 확장성을 염두에 두고 설계되었습니다. 외부 컴퓨터 및 로봇 시스템과 인터페이스할 수 있는 능력은 연구실의 필요에 따라 단일 장치 연구 도구에서 고처리량 자율 생산 라인의 일부로 전환될 수 있음을 의미합니다. 전용 워터 칠러와 질량 유량 컨트롤러가 기본으로 포함되어 있어 부품 수명과 공정 안정성을 우선시하는 완벽하고 즉시 사용 가능한 솔루션을 제공하겠다는 의지를 반영합니다.
우리의 탁월함에 대한 약속은 하드웨어를 넘어섭니다. 우리는 포괄적인 지원을 제공하며, 샘플 스테이지나 가스 공급 장치와 같은 부품을 귀하의 특정 응용 분야 요구 사항에 맞게 맞춤화할 수 있는 능력을 갖추고 있습니다. 민감한 반도체를 다루든 첨단 야금 합금을 다루든, 이 시스템은 최첨단 혁신에 필요한 열 성능과 분위기 순도를 제공합니다. 귀하의 특정 공정 요구 사항을 논의하거나 시설을 위한 맞춤형 견적을 요청하시려면 지금 문의하십시오.
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