제품 개요
이 고온 열처리 시스템은 까다로운 재료 과학 및 산업 R&D 환경에 맞춤화된 인체공학적 설계와 엔지니어링 효율성의 정점을 보여줍니다. 모터 구동식 하부 로딩 메커니즘을 사용하여 섬세하거나 무거운 샘플을 원활하게 취급할 수 있으며, 작업자가 노 내부의 방해를 최소화하면서 최대한의 정밀도로 재료를 로딩 및 언로딩할 수 있도록 보장합니다. 이 제품의 핵심 가치는 고진공 기능과 통합 급속 냉각 시스템을 결합하여 사이클 시간을 크게 단축하고, 일반 머플로나 튜브로에서는 불가능한 퀜칭 공정을 가능하게 한다는 점입니다.
첨단 야금, 세라믹 소결 및 반도체 연구를 목표로 하는 이 시스템은 제어된 환경을 조성하는 데 탁월합니다. 고진공 상태에서 작동하든 불활성 가스를 사용한 특정 분위기에서 작동하든, 이 장비는 엄격한 분위기 무결성을 유지합니다. 고순도 석영 가열 챔버와 수냉식 진공 플랜지의 조합은 처리 환경을 오염 물질로부터 보호하는 동시에 고온 작동의 스트레스로부터 장치의 구조적 구성 요소를 보호합니다.
신뢰성은 이 로의 모든 구성 요소에 설계되어 있습니다. 외부 표면을 차갑게 유지하는 이중층 강철 케이싱부터 고강도 Fe-Cr-Al 발열체에 이르기까지, 이 시스템은 전문 실험실 환경에서 지속적이고 반복 가능한 성능을 발휘하도록 제작되었습니다. 이 장치는 고부하 사이클 작동에 필요한 견고한 빌드 품질을 제공하여 연구원과 생산 엔지니어가 매번 일관된 열 프로파일을 실행할 수 있다는 확신을 줍니다.
주요 특징
- 모터 구동식 하부 로딩 샘플 스테이지: 정밀 엘리베이터 시스템을 통해 가열 구역으로 샘플을 진동 없이 제어하며 이동할 수 있습니다. 이러한 인체공학적 설계는 깨지기 쉬운 기판이나 대형 샘플 배치를 취급하는 데 필수적이며, 수동 취급 오류 가능성을 줄이고 작업장 안전을 향상시킵니다.
- 급속 불활성 가스 퀜칭 시스템: 전략적으로 배치된 4개의 가스 분사 튜브와 통합 냉각 챔버를 갖추고 있어 샘플 온도를 빠르게 낮출 수 있습니다. 이 기능은 특정 냉각 곡선이 필요한 야금 공정이나 사이클 간 대기 시간을 단축하여 기업 생산성을 높이는 데 매우 중요합니다.
- 전기 복사 차폐 도어: 샘플 스테이지가 내려갈 때 특수 슬라이딩 도어가 챔버 내부의 열을 보존합니다. 이 열 차단막은 열 손실을 방지하고 내부 구성 요소를 열 충격으로부터 보호하며, 언로딩 단계에서 작업자를 적외선 복사로부터 보호합니다.
- 듀얼 채널 온도 모니터링: 이 시스템에는 두 개의 독립적인 30단계 프로그래밍 가능 컨트롤러가 포함되어 있습니다. 하나는 고정밀 PID 로직으로 로 발열체를 관리하고, 다른 하나는 실제 샘플 스테이지 온도를 모니터링하여 처리 중인 재료의 열 이력에 대한 실시간 데이터를 제공합니다.
- 고순도 석영 열 챔버: 8.5인치 내경의 석영 챔버는 진공 또는 분위기 처리를 위한 초청정 환경을 제공합니다. 석영의 투명도는 설정 중 육안 검사를 가능하게 하며, 재료의 우수한 내열 충격성은 급격한 온도 변화에서도 장기적인 내구성을 보장합니다.
- 수냉식 구조적 무결성: 고성능 스테인리스 스틸 진공 플랜지는 통합 수냉식 채널을 특징으로 합니다. 이는 1200°C 작동 중 O-링 씰의 열화를 방지하여 안정적인 진공 씰을 유지하고 하드웨어의 서비스 수명을 크게 연장합니다.
- 포괄적인 진공 관리: 이 시스템은 10-4 torr까지 측정 가능한 2단 로터리 베인 펌프와 피라니 진공 게이지와 함께 제공됩니다. 이러한 완전한 통합을 통해 추가 외부 구성 요소 없이 진공 브레이징 또는 가스 제거 응용 분야에 즉시 배치할 수 있습니다.
- 고급 안전 및 규정 준수: CE 표준을 충족하도록 제작된 이 로는 자동 PID 자동 튜닝, 과열 방지 및 열전대 단선 방지 기능을 포함합니다. 통합 공랭식 이중 쉘 케이싱은 최대 작동 온도에서도 외부 표면을 안전하게 만질 수 있도록 합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 진공 브레이징 | 산소가 없는 환경에서 최대 1000°C의 온도에서 특수 금속 부품 접합. | 변형을 최소화한 고강도, 산화 방지 접합. |
| 고순도 세라믹 소결 | 오염을 방지하기 위해 고순도 석영 챔버 내에서 세라믹 분말을 압축. | 완제품의 재료 밀도 및 구조적 무결성 향상. |
| 불활성 가스 퀜칭 | 고속 불활성 가스 흐름을 사용하여 금속 샘플을 급속 냉각하여 결정 구조 변경. | 합금의 경도 및 기계적 특성에 대한 정밀 제어. |
| 진공 어닐링 | 표면 산화 없이 정밀 가공된 부품 또는 박막의 열 응력 완화. | 밝은 표면 마감을 유지하고 2차 연마 단계 제거. |
| 박막 처리 | 제어된 환경 압력 및 특정 가스 흐름 하에서 코팅된 기판의 열처리. | 일관된 필름 접착력 및 최적화된 전자적 특성. |
| 재료 특성 분석 | 1200°C에 도달하는 온도에서 새로운 합금 또는 복합 재료의 거동 연구. | 정확한 R&D 데이터 수집을 위한 매우 반복 가능한 열 프로파일. |
기술 사양
| 매개변수 | TU-C31 설명 / 값 |
|---|---|
| 재료 식별자 | TU-C31 |
| 입력 전원 | 208-240 VAC, 단상, 50/60 Hz |
| 최대 소비 전력 | 3600 W (20A 전용 회로 필요) |
| 최대 작동 온도 | ≤ 1200°C (불활성 가스) / ≤ 1000°C (진공/연속) |
| 가열 속도 | 분당 최대 20°C |
| 발열체 | 몰리브덴이 도핑된 Fe-Cr-Al |
| 온도 정확도 | 작동 범위 전반에서 ± 1.0°C |
| 표준 온도 균일성 | 900°C에서 유효 가열 구역 내 ± 5.0°C |
| 온도 컨트롤러 | RS485 통신을 지원하는 듀얼 30단계 프로그래밍 가능 PID 컨트롤러 |
| 석영 챔버 치수 | 9" 외경 x 8.5" 내경 x 13.4" 길이 (230 x 218 x 340 mm) |
| 유효 가열 구역 | 8.5" 내경 x 8.5" 깊이 (218 x 216 mm) |
| 가열 챔버 용량 | ~8.6 리터 |
| 진공 시스템 | KF25 포트 및 앵글 밸브가 있는 2단 로터리 베인 펌프 |
| 진공 측정 | 피라니 게이지(최대 10-4 torr) 및 기계식 게이지 포함 |
| 옵션 고진공 | Pfeiffer 33 L/s 터보 펌프 사용 가능 (최대 10-5 torr) |
| 분위기 제어 | 1/4" 가스 입구/출구가 있는 내장형 5L 유량계 |
| 수냉식 | 플랜지 보호를 위한 16L/min 순환식 냉각기 포함 |
| 안전 보호 | 과열, 열전대 단선 및 자동 PID 보호 |
| 인증 | CE 인증 (요청 시 NRTL/CSA 가능) |
TU-C31을 선택해야 하는 이유
- 우수한 열 관리: 이 시스템은 온도 제어에 고유한 듀얼 모니터 접근 방식을 사용하여 로 분위기와 실제 샘플 스테이지 간의 차이를 항상 파악하고 관리함으로써 더 정확한 재료 과학 결과를 도출합니다.
- 정밀 엔지니어링 및 빌드 품질: 수냉식 SS304 플랜지에서 고순도 석영 가열 챔버에 이르기까지 모든 요소는 산업 연구의 엄격함을 견딜 수 있도록 선택되었습니다. 이 설계는 열 누출을 최소화하고 씰 및 발열체와 같은 소모품의 수명을 극대화합니다.
- 효율성 중심 설계: 통합 가스 분사 시스템과 하부 로딩 엘리베이터는 단순한 편의 기능이 아니라 운영 효율성의 상당한 발전을 의미합니다. 더 빠른 샘플 퀜칭과 더 쉬운 로딩을 가능하게 함으로써 연구원은 데이터 품질을 저하시키지 않으면서 교대 근무당 더 많은 샘플을 처리할 수 있습니다.
- 턴키 진공 솔루션: 많은 모듈식 시스템과 달리 이 장치는 대용량 냉각기와 2단 진공 펌프를 포함한 포괄적인 솔루션으로 배송됩니다. 이를 통해 모든 구성 요소가 완벽하게 작동하도록 사전 구성되어 설정 시간과 기술적 마찰을 줄입니다.
- 다목적 연구 플랫폼: 1000°C에서의 진공 처리와 1200°C에서의 불활성 가스 처리 간 전환 기능은 이 장비를 모든 실험실을 위한 다기능 자산으로 만듭니다. 변화하는 연구 목표나 진화하는 산업 생산 요구 사항에 적응하는 데 필요한 유연성을 제공합니다.
저희 엔지니어링 팀은 귀하의 특정 열처리 요구 사항을 지원할 준비가 되어 있습니다. 자세한 견적을 원하시거나 귀하의 고유한 응용 매개변수에 맞게 이 시스템을 맞춤화하는 방법에 대해 논의하려면 지금 바로 문의해 주십시오.
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