2인치 튜브 및 진공 펌프가 장착된 1200C 최대 컴팩트 자동 슬라이딩 PECVD 퍼니스

제품 개요

이 고성능 열처리 시스템은 첨단 재료 연구 및 박막 개발을 위해 특별히 설계된 컴팩트한 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 솔루션입니다. 강력한 RF 플라즈마 발생기와 정밀 분할 튜브 퍼니스를 통합함으로써, 본 장비는 기존 CVD 공정보다 훨씬 낮은 온도에서 우수한 박막 품질을 구현할 수 있게 합니다. 핵심 가치는 독특한 슬라이딩 메커니즘에 있으며, 이를 통해 가열 구역을 시료 위치로 빠르게 이동시켜 즉각적인 고온 노출과 가속 냉각 사이클을 가능하게 하여 미세구조와 상 형성에 대한 전례 없는 제어를 제공합니다.

주로 실험실 R&D 및 산업 재료 과학용으로 설계된 이 시스템은 실리콘 산화막, 질화막, 비정질 실리콘 등 다양한 박막 증착에 이상적입니다. 이러한 다용도성은 반도체, 태양광, 나노기술 분야를 전문으로 하는 연구실의 핵심 장비로 자리매김하게 합니다. 컴팩트한 크기 덕분에 전문급 재료 합성에 필요한 고진공 및 고온 성능을 희생하지 않으면서도 기존 실험실 환경에 원활하게 통합될 수 있습니다.

신뢰성은 이 장비 설계의 핵심입니다. 견고한 13.56 MHz RF 발생기와 고순도 석영 처리 튜브를 포함한 산업용 등급 부품으로 제작되어, 까다로운 가동 조건에서도 일관된 성능을 제공합니다. 고진공 플랜지와 2단 진공 펌프의 통합은 민감한 화학 기상 증착 공정을 위한 깨끗하고 제어된 환경을 보장하여, 연구자가 복잡한 다단계 실험 절차를 반복 가능한 정확도로 수행할 수 있도록 합니다.

주요 특징

• 통합 자동 슬라이딩 메커니즘: 퍼니스는 중부하 정밀 레일 시스템에 장착되어 가열 구역을 빠르게 이동시킬 수 있습니다. 이 설계는 시료의 즉각적인 가열 및 냉각을 가능하게 하며, 이는 결정립 성장 제어와 준안정 상의 급랭에 매우 중요합니다.
• 고효율 RF 플라즈마 생성: 13.56 MHz에서 작동하는 300W RF 발생기를 갖추어 안정적인 플라즈마 방전을 생성합니다. 이를 통해 기판 온도를 낮춘 상태에서도 화학 반응이 진행되어 열에 민감한 재료를 보호하고 증착막의 열 스트레스를 줄입니다.
• 정밀 온도 관리: 이 장비는 30단계 프로그래밍 가능한 디지털 PID 컨트롤러로 제어되는 300와트 가열 시스템을 사용합니다. 이를 통해 ±1°C의 정확도를 보장하며, 램프, 소크, 냉각 단계를 포함한 복잡한 열 프로파일을 자동으로 실행할 수 있습니다.
• 우수한 진공 무결성: 이중 O-링 씰이 적용된 스테인리스 스틸 304 진공 플랜지를 갖추어 3 x 10E-3 torr의 고진공 상태를 달성합니다. 디지털 피라니 게이지와 고품질 니들 밸브의 포함으로 처리 분위기를 세밀하게 제어할 수 있습니다.
• 분할 퍼니스 설계: 퍼니스 본체는 분할 힌지 구조로 설계되어 시료의 손쉬운 장착 및 제거, 처리 튜브의 빠른 교체, 그리고 슬라이딩 메커니즘을 사용하지 않을 때 더 빠른 자연 냉각을 가능하게 합니다.
• 향상된 화학양론 제어: 플라즈마 출력, 가스 유량, 압력을 조절함으로써 사용자는 증착 재료의 화학 조성과 박막 응력을 정밀하게 제어할 수 있어, 특수 코팅 응용에 매우 유연한 도구가 됩니다.
• 강화된 안전 및 규격 준수: 이 시스템은 CE 인증을 받았으며, 진공 펌프용 오일 미스트 제거 장치와 민감한 증착 사이클 중 원치 않는 산화를 방지하기 위한 산소 모니터링 옵션과 같은 보호 기능을 포함합니다.

응용 분야

기술 사양

이 PECVD 시스템을 선택해야 하는 이유

• 탁월한 열적 유연성: 자동 슬라이딩 레일과 플라즈마 강화 증착의 조합은 표준 퍼니스보다 더 넓은 실험 범위를 제공하여, 신속 열 처리와 저온 화학 반응을 모두 지원합니다.
• 정밀 엔지니어링: 13.56 MHz RF 발생기부터 스테인리스 스틸 진공 어셈블리까지 모든 구성품은 장기 운전 동안 엄격한 산업 공차를 유지할 수 있도록 선정되었습니다.
• 포괄적 통합: 이 시스템은 퍼니스, 플라즈마 발생기, 진공 펌프, 모니터링 하드웨어를 포함한 완전한 솔루션으로 제공되어 설치 시간을 줄이고 구성품 호환성을 보장합니다.
• 확장 가능 및 맞춤화 가능: 다중 채널 가스 혼합 스테이션, 액체 기화 시스템, 고급 소프트웨어 제어 옵션을 통해 특정 연구 예산과 기술 요구 사항에 맞게 맞춤 구성할 수 있습니다.
• 검증된 신뢰성: 실험실 표준을 뛰어넘도록 제작된 이 장비는 글로벌 서비스 네트워크와 고품질 제조에 대한 약속으로 지원되며, 귀하의 R&D 투자가 보호되도록 보장합니다.

지금 기술 영업팀에 문의하여 견적을 요청하거나, 귀하의 특정 박막 증착 요구 사항에 맞게 이 PECVD 시스템을 어떻게 맞춤화할 수 있는지 상담해 보십시오.