제품 개요

이 고온 열처리 시스템은 정밀한 분위기 및 온도 제어가 필요한 실험실과 산업 연구 시설을 위한 공학의 정점이라 할 수 있습니다. 이 장비는 이중 구역 분할 튜브 구성으로 설계되어, 첨단 재료 합성, 화학 기상 증착(CVD), 복잡한 소결 공정에 적합한 다목적 플랫폼을 제공합니다. 분할 힌지 구조를 활용하여 반응 챔버에 손쉽게 접근할 수 있으며, 가공 튜브의 신속한 교체와 사전 조립된 구성품 또는 섬세한 시료 배치가 필요한 복잡한 실험 세팅을 용이하게 합니다. 이 장비의 핵심 가치는 견고한 실리콘 카바이드 발열 기술의 지원을 받아 최대 1500°C까지 높은 안정성의 열 환경을 유지할 수 있다는 점에 있습니다.
이 시스템은 야금, 반도체 개발, 항공우주 재료 시험에서 중요한 역할을 수행하도록 설계되었습니다. 진공 밀봉 환경과 제어된 가스 분위기 사이를 최소한의 가동 중단으로 전환할 수 있는 뛰어난 유연성을 제공합니다. 이중 구역 구성은 열처리 사이클의 구체적인 요구 사항에 따라 정교한 열 구배를 생성하거나 확장된 균일 온도 구역을 유지할 수 있게 합니다. 이러한 적응성은 엄격하고 반복 가능한 조건에서 고온 화학 및 물리학의 경계를 확장하는 연구자들에게 핵심적인 도구가 되게 합니다.
신뢰성은 이 퍼니스 설계의 핵심입니다. 프리미엄급 S형 열전대와 고급 PID 계측 장치를 사용하여, 1400°C에서 장시간 연속 운전하더라도 일관된 성능을 보장합니다. 견고한 스테인리스 스틸 진공 밀봉 플랜지와 고순도 알루미나 가공 튜브는 내구성과 열충격 저항성을 고려해 선택되어, 까다로운 R&D 환경에서도 긴 수명을 보장합니다. 모든 구성품은 현대 산업 조달팀과 재료 과학자들의 엄격한 기준을 충족하는 안정적이고 안전하며 정밀 제어 가능한 열 환경을 제공하도록 세심하게 통합되어 있습니다.
주요 특징
- 분할 힌지 가공 챔버: 혁신적인 분할 설계로 퍼니스 본체를 세로 방향으로 열 수 있어, 복잡한 가스 또는 진공 라인을 해체할 필요 없이 알루미나 튜브에 즉시 접근하여 시료 적재, 세척 및 신속 냉각을 쉽게 수행할 수 있습니다.
- 독립형 이중 구역 열 제어: 각각 고유의 PID 컨트롤러와 S형 열전대를 갖춘 두 개의 서로 다른 가열 구역을 통해 특정 온도 구배를 생성하거나, 더 큰 처리량 요구에 맞는 확장된 균일 고온 구역을 구현할 수 있습니다.
- 고성능 SiC 발열체: 16개의 1500°C 등급 실리콘 카바이드 로드로 구동되어 빠른 승온 속도와 고온에서의 장기 안정성을 달성하며, 산화성 또는 까다로운 환경에서 일반 금속 발열체보다 우수한 성능을 제공합니다.
- 정밀 PID 계측: 두 개의 30단계 프로그래머블 컨트롤러가 가열 속도, 유지 시간 및 냉각 프로파일을 정밀하게 관리하며, 과열 및 열전대 단선 보호 기능이 내장되어 공정 무결성을 보장합니다.
- 고급 진공 및 분위기 기능: 통합 밸브와 압력 게이지가 포함된 스테인리스 스틸 진공 밀봉 플랜지를 갖추고 있으며, 분자 펌프와 함께 사용할 경우 10E-5 torr까지의 진공 수준을 지원하고 제어된 가스 유량 처리도 가능합니다.
- 고순도 알루미나 가공 튜브: 표준 80mm 외경 세라믹 튜브는 고온 구조적 무결성을 위해 설계되었으며, 클린룸 수준의 공정에 적합한 우수한 내화학성과 열안정성을 제공합니다.
- 포괄적인 안전 시스템: 과온 경보 및 자동 차단 기능이 포함되어 있어 무인 운전이 가능하며, 작업자와 민감한 재료 시료를 열 이상으로부터 보호합니다.
- PC 통신 및 원격 모니터링: 내장 RS485 통신 포트를 통해 외부 소프트웨어(옵션)와 원활하게 통합할 수 있으며, 데이터 로깅, 원격 레시피 관리, 실시간 공정 플로팅을 통해 품질 관리를 지원합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 화학 기상 증착(CVD) | 진공 상태에서 기판 위에 고품질 박막과 탄소 나노튜브를 증착합니다. | 튜브 길이 전체에 걸쳐 균일한 박막 성장을 위한 정밀한 온도 구배 제어. |
| 세라믹 소결 | 첨단 세라믹 분말을 고온에서 치밀한 구조 부품으로 치밀화합니다. | 세라믹 재료에서 최대 밀도와 강도를 보장하는 안정적인 1500°C 성능. |
| 반도체 어닐링 | 성장 후 열처리를 통해 결정 격자를 복구하고 실리콘 또는 SiC 웨이퍼의 도펀트를 활성화합니다. | 오염과 결함을 방지하기 위한 제어된 냉각 속도와 고순도 분위기. |
| 대기 분위기 재료 합성 | 불활성 또는 환원성 가스 하에서 재료를 처리하여 화학 반응과 상 변화를 연구합니다. | 정밀한 분위기 조성을 위한 3 PSI 안전 모니터링이 통합된 가스 플랜지. |
| 구배 열처리 | 야금 분석을 위해 시료의 서로 다른 부분을 서로 다른 속도로 냉각 또는 가열합니다. | 이중 구역 독립 제어로 뚜렷하고 반복 가능한 열 구배 생성 가능. |
| 배터리 연구 | 리튬이온 기술용 전극 재료(음극/양극)의 하소 및 열처리. | 80mm 튜브와 이중 구역 전반의 일관된 열 균일성을 통한 높은 처리량. |
기술 사양
| 매개변수 그룹 | 사양 세부사항 | 기술 값 (TU-64) |
|---|---|---|
| 전원 시스템 | 전원 입력 | 6 KW |
| 작동 전압 | 208V - 240V AC, 단상, 50/60Hz | |
| 권장 차단기 | 40 Amp | |
| 열 성능 | 최대 작동 온도 | 1500°C (단시간) |
| 연속 작동 온도 | 1400°C | |
| 권장 가열 속도 | ≤ 분당 5°C | |
| 온도 정확도 | +/- 1°C | |
| 균일 구역(이중 구역 동기화) | 200 mm (+/- 2°C) | |
| 가열 구성 | 발열체 | SiC 로드 16개 (직경 14mm x 가열 길이 150mm) |
| 열전대 | 내장 S형 2개 | |
| 가열 구역 길이 | 총 390 mm (20mm 간격을 포함한 두 개의 200mm 구역) | |
| 튜브 및 플랜지 | 표준 튜브 재질 | 알루미나 세라믹 튜브 |
| 표준 튜브 치수 | 80 mm O.D. x 74 mm I.D. x 1000 mm 길이 | |
| 선택 튜브 재질 | 멀라이트(진공 상태에서 최대 1300°C) | |
| 진공 플랜지 재질 | 듀얼 밸브와 압력 게이지가 있는 스테인리스 스틸 | |
| 환경 제어 | 진공 수준(기계식 펌프) | 10E-2 Torr |
| 진공 수준(분자 펌프) | 10E-5 Torr | |
| 최대 가스 압력 | < 0.02 Mpa / 0.2 Bar / 3 PSI | |
| 제어 인터페이스 | 프로그래밍 | PID 자동, 구역당 30세그먼트 |
| 데이터 통신 | RS485 포트(선택 사항으로 PC/WiFi 제어 가능) | |
| 안전 기능 | 과온 경보, 열전대 단선 보호 |
이 퍼니스를 선택해야 하는 이유
- 이중 상 구역을 위한 정밀 공학: 이 장비의 이중 구역 구성은 연구자들에게 복잡한 열 프로파일을 관리할 수 있는 드문 능력을 제공하며, 구배에 민감한 실험에서 일반적인 단일 구역 퍼니스보다 훨씬 더 다재다능합니다.
- 우수한 열 효율과 내구성: 고급 실리콘 카바이드 발열체와 프리미엄 알루미나 세라믹 튜브를 사용하여, 24/7 산업 R&D의 혹독한 조건에서도 성능 저하 없이 견딜 수 있도록 설계되었습니다.
- 원활한 통합과 확장성: 내장 RS485 통신과 옵션인 PC 기반 LabVIEW 제어 시스템을 통해, 이 퍼니스는 레시피 관리와 데이터 추적성을 위한 더 큰 자동화 실험실 네트워크에 통합될 수 있습니다.
- 안전을 우선한 운전 설계: 3 PSI 압력 완화 모니터링부터 자동 과온 차단까지, 시스템의 모든 측면은 장시간 열 사이클 동안 안심할 수 있도록 설계되었습니다.
- 검증된 규격 준수와 지원: 모든 장치는 CE 인증을 받았으며 국제 표준에 따라 제작되었고, 특정 가스 공급 또는 진공 요구 사항에 맞는 맞춤화를 제공할 수 있는 신속한 기술 지원팀이 뒷받침합니다.
고유한 튜브 직경, 통합 가스 공급 시스템 또는 특수 진공 펌핑 스테이션을 포함한 맞춤 구성이 필요한 경우, 종합 견적 및 프로젝트 상담을 위해 기술 영업팀에 문의해 주십시오.
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