진공 플랜지와 80mm 알루미나 튜브를 갖춘 1500C 2존 분할 튜브 퍼니스

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진공 플랜지와 80mm 알루미나 튜브를 갖춘 1500C 2존 분할 튜브 퍼니스

품목 번호: TU-64

최대 작동 온도: 1500°C 처리 튜브 치수: 80 mm O.D. x 1000 mm L 알루미나 온도 제어: 30세그먼트 프로그래밍이 포함된 듀얼 존 PID
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제품 개요

제품 이미지 1

이 고온 열처리 시스템은 정밀한 분위기 및 온도 제어가 필요한 실험실과 산업 연구 시설을 위한 공학의 정점이라 할 수 있습니다. 이 장비는 이중 구역 분할 튜브 구성으로 설계되어, 첨단 재료 합성, 화학 기상 증착(CVD), 복잡한 소결 공정에 적합한 다목적 플랫폼을 제공합니다. 분할 힌지 구조를 활용하여 반응 챔버에 손쉽게 접근할 수 있으며, 가공 튜브의 신속한 교체와 사전 조립된 구성품 또는 섬세한 시료 배치가 필요한 복잡한 실험 세팅을 용이하게 합니다. 이 장비의 핵심 가치는 견고한 실리콘 카바이드 발열 기술의 지원을 받아 최대 1500°C까지 높은 안정성의 열 환경을 유지할 수 있다는 점에 있습니다.

이 시스템은 야금, 반도체 개발, 항공우주 재료 시험에서 중요한 역할을 수행하도록 설계되었습니다. 진공 밀봉 환경과 제어된 가스 분위기 사이를 최소한의 가동 중단으로 전환할 수 있는 뛰어난 유연성을 제공합니다. 이중 구역 구성은 열처리 사이클의 구체적인 요구 사항에 따라 정교한 열 구배를 생성하거나 확장된 균일 온도 구역을 유지할 수 있게 합니다. 이러한 적응성은 엄격하고 반복 가능한 조건에서 고온 화학 및 물리학의 경계를 확장하는 연구자들에게 핵심적인 도구가 되게 합니다.

신뢰성은 이 퍼니스 설계의 핵심입니다. 프리미엄급 S형 열전대와 고급 PID 계측 장치를 사용하여, 1400°C에서 장시간 연속 운전하더라도 일관된 성능을 보장합니다. 견고한 스테인리스 스틸 진공 밀봉 플랜지와 고순도 알루미나 가공 튜브는 내구성과 열충격 저항성을 고려해 선택되어, 까다로운 R&D 환경에서도 긴 수명을 보장합니다. 모든 구성품은 현대 산업 조달팀과 재료 과학자들의 엄격한 기준을 충족하는 안정적이고 안전하며 정밀 제어 가능한 열 환경을 제공하도록 세심하게 통합되어 있습니다.

주요 특징

  • 분할 힌지 가공 챔버: 혁신적인 분할 설계로 퍼니스 본체를 세로 방향으로 열 수 있어, 복잡한 가스 또는 진공 라인을 해체할 필요 없이 알루미나 튜브에 즉시 접근하여 시료 적재, 세척 및 신속 냉각을 쉽게 수행할 수 있습니다.
  • 독립형 이중 구역 열 제어: 각각 고유의 PID 컨트롤러와 S형 열전대를 갖춘 두 개의 서로 다른 가열 구역을 통해 특정 온도 구배를 생성하거나, 더 큰 처리량 요구에 맞는 확장된 균일 고온 구역을 구현할 수 있습니다.
  • 고성능 SiC 발열체: 16개의 1500°C 등급 실리콘 카바이드 로드로 구동되어 빠른 승온 속도와 고온에서의 장기 안정성을 달성하며, 산화성 또는 까다로운 환경에서 일반 금속 발열체보다 우수한 성능을 제공합니다.
  • 정밀 PID 계측: 두 개의 30단계 프로그래머블 컨트롤러가 가열 속도, 유지 시간 및 냉각 프로파일을 정밀하게 관리하며, 과열 및 열전대 단선 보호 기능이 내장되어 공정 무결성을 보장합니다.
  • 고급 진공 및 분위기 기능: 통합 밸브와 압력 게이지가 포함된 스테인리스 스틸 진공 밀봉 플랜지를 갖추고 있으며, 분자 펌프와 함께 사용할 경우 10E-5 torr까지의 진공 수준을 지원하고 제어된 가스 유량 처리도 가능합니다.
  • 고순도 알루미나 가공 튜브: 표준 80mm 외경 세라믹 튜브는 고온 구조적 무결성을 위해 설계되었으며, 클린룸 수준의 공정에 적합한 우수한 내화학성과 열안정성을 제공합니다.
  • 포괄적인 안전 시스템: 과온 경보 및 자동 차단 기능이 포함되어 있어 무인 운전이 가능하며, 작업자와 민감한 재료 시료를 열 이상으로부터 보호합니다.
  • PC 통신 및 원격 모니터링: 내장 RS485 통신 포트를 통해 외부 소프트웨어(옵션)와 원활하게 통합할 수 있으며, 데이터 로깅, 원격 레시피 관리, 실시간 공정 플로팅을 통해 품질 관리를 지원합니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
화학 기상 증착(CVD) 진공 상태에서 기판 위에 고품질 박막과 탄소 나노튜브를 증착합니다. 튜브 길이 전체에 걸쳐 균일한 박막 성장을 위한 정밀한 온도 구배 제어.
세라믹 소결 첨단 세라믹 분말을 고온에서 치밀한 구조 부품으로 치밀화합니다. 세라믹 재료에서 최대 밀도와 강도를 보장하는 안정적인 1500°C 성능.
반도체 어닐링 성장 후 열처리를 통해 결정 격자를 복구하고 실리콘 또는 SiC 웨이퍼의 도펀트를 활성화합니다. 오염과 결함을 방지하기 위한 제어된 냉각 속도와 고순도 분위기.
대기 분위기 재료 합성 불활성 또는 환원성 가스 하에서 재료를 처리하여 화학 반응과 상 변화를 연구합니다. 정밀한 분위기 조성을 위한 3 PSI 안전 모니터링이 통합된 가스 플랜지.
구배 열처리 야금 분석을 위해 시료의 서로 다른 부분을 서로 다른 속도로 냉각 또는 가열합니다. 이중 구역 독립 제어로 뚜렷하고 반복 가능한 열 구배 생성 가능.
배터리 연구 리튬이온 기술용 전극 재료(음극/양극)의 하소 및 열처리. 80mm 튜브와 이중 구역 전반의 일관된 열 균일성을 통한 높은 처리량.

기술 사양

매개변수 그룹 사양 세부사항 기술 값 (TU-64)
전원 시스템 전원 입력 6 KW
작동 전압 208V - 240V AC, 단상, 50/60Hz
권장 차단기 40 Amp
열 성능 최대 작동 온도 1500°C (단시간)
연속 작동 온도 1400°C
권장 가열 속도 ≤ 분당 5°C
온도 정확도 +/- 1°C
균일 구역(이중 구역 동기화) 200 mm (+/- 2°C)
가열 구성 발열체 SiC 로드 16개 (직경 14mm x 가열 길이 150mm)
열전대 내장 S형 2개
가열 구역 길이 총 390 mm (20mm 간격을 포함한 두 개의 200mm 구역)
튜브 및 플랜지 표준 튜브 재질 알루미나 세라믹 튜브
표준 튜브 치수 80 mm O.D. x 74 mm I.D. x 1000 mm 길이
선택 튜브 재질 멀라이트(진공 상태에서 최대 1300°C)
진공 플랜지 재질 듀얼 밸브와 압력 게이지가 있는 스테인리스 스틸
환경 제어 진공 수준(기계식 펌프) 10E-2 Torr
진공 수준(분자 펌프) 10E-5 Torr
최대 가스 압력 < 0.02 Mpa / 0.2 Bar / 3 PSI
제어 인터페이스 프로그래밍 PID 자동, 구역당 30세그먼트
데이터 통신 RS485 포트(선택 사항으로 PC/WiFi 제어 가능)
안전 기능 과온 경보, 열전대 단선 보호

이 퍼니스를 선택해야 하는 이유

  • 이중 상 구역을 위한 정밀 공학: 이 장비의 이중 구역 구성은 연구자들에게 복잡한 열 프로파일을 관리할 수 있는 드문 능력을 제공하며, 구배에 민감한 실험에서 일반적인 단일 구역 퍼니스보다 훨씬 더 다재다능합니다.
  • 우수한 열 효율과 내구성: 고급 실리콘 카바이드 발열체와 프리미엄 알루미나 세라믹 튜브를 사용하여, 24/7 산업 R&D의 혹독한 조건에서도 성능 저하 없이 견딜 수 있도록 설계되었습니다.
  • 원활한 통합과 확장성: 내장 RS485 통신과 옵션인 PC 기반 LabVIEW 제어 시스템을 통해, 이 퍼니스는 레시피 관리와 데이터 추적성을 위한 더 큰 자동화 실험실 네트워크에 통합될 수 있습니다.
  • 안전을 우선한 운전 설계: 3 PSI 압력 완화 모니터링부터 자동 과온 차단까지, 시스템의 모든 측면은 장시간 열 사이클 동안 안심할 수 있도록 설계되었습니다.
  • 검증된 규격 준수와 지원: 모든 장치는 CE 인증을 받았으며 국제 표준에 따라 제작되었고, 특정 가스 공급 또는 진공 요구 사항에 맞는 맞춤화를 제공할 수 있는 신속한 기술 지원팀이 뒷받침합니다.

고유한 튜브 직경, 통합 가스 공급 시스템 또는 특수 진공 펌핑 스테이션을 포함한 맞춤 구성이 필요한 경우, 종합 견적 및 프로젝트 상담을 위해 기술 영업팀에 문의해 주십시오.

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