제품 개요
이 고성능 열처리 시스템은 고급 재료 연구 및 산업 R&D를 위해 특별히 설계된 실험실 열처리 기술의 기준을 제시합니다. 분할 힌지 구조 내의 2존 가열 구성을 활용하여 정밀한 온도 프로파일링과 급속 냉각이 가능하며, 고온 분위기 소결, CVD 실험 및 진공 어닐링을 위한 필수 자산입니다. 이 제품의 핵심 가치는 독립적인 가열 구역에 대한 개별 제어의 유연성을 제공하면서도 예외적으로 균일한 온도 필드를 유지하는 능력에 있습니다.
까다로운 실험실 환경을 위해 설계된 이 시스템은 재료 과학 연구소, 항공우주 연구 시설 및 반도체 개발 연구실에서 자주 사용됩니다. 복잡한 화학 기상 증착(CVD)을 수행하든 단순한 분위기 환원 공정을 수행하든, 이 장비는 높은 재현성과 정밀도를 보장합니다. 이중 벽 구조는 효율적인 공랭을 촉진하여 내부 챔버가 극한 온도에 도달하더라도 외부 표면은 안전하게 유지되도록 설계되어 성능과 작업자 안전을 모두 고려했습니다.
엔지니어와 구매 팀은 이 장비의 견고한 구조와 고급 열 부품을 신뢰할 수 있습니다. 일본산 다결정 알루미나 섬유 단열재부터 탄화규소(SiC) 발열체에 이르기까지 모든 세부 사항이 수명과 에너지 효율성을 위해 최적화되었습니다. 이 시스템은 신소재 합성이나 엄격한 열 응력 테스트를 수행하기 위한 안정적이고 제어 가능한 환경을 제공하여 가장 까다로운 실험 조건에서도 일관된 연구 결과를 보장합니다.
주요 특징
- 2존 독립 제어: 이 시스템은 각각 전용 컨트롤러와 열전대를 갖춘 두 개의 별도 가열 구역을 제공하여 사용자가 특정 온도 구배를 생성하거나 길고 균일한 정온 영역을 유지할 수 있도록 합니다.
- 정밀 PID 온도 관리: 고급 40단계 디지털 컨트롤러를 사용하여 저온, 중온, 고온 범위에 맞게 조정된 6개의 PID 매개변수로 전문가급 정확도를 제공하며 오버슈트를 방지합니다.
- 우수한 단열 성능: 챔버는 고순도 다결정 알루미나 섬유로 제작되어 뛰어난 보온성, 높은 반사율, 열팽창 및 수축에 대한 저항성을 제공하여 에너지 소비를 크게 줄입니다.
- 고성능 SiC 발열체: 탄화규소 발열체는 빈번한 고온 사이클링 조건에서도 균일한 온도 필드와 긴 작동 수명을 보장하도록 전략적으로 배치되었습니다.
- 통합 안전 보호 시스템: 커버를 열면 자동으로 전원을 차단하는 오버트래블 리미트 스위치가 장착되어 있으며, 과열 및 과전류 보호 기능이 있어 안전한 작동을 보장합니다.
- 진공 및 분위기 범용성: 스테인리스 스틸 이중 링 밀봉 플랜지를 갖추고 있어 분자 펌프와 결합 시 10-4 Pa 수준의 진공도를 달성할 수 있으며, 제어된 분위기 처리를 위한 다양한 가스 흐름 구성을 지원합니다.
- 유압식 지지대가 포함된 분할형 챔버 설계: 유압 리프터를 사용하여 분할형 퍼니스 본체를 쉽게 열 수 있어 튜브의 급속 냉각이나 샘플 배치 및 유지보수를 위한 편리한 접근이 가능합니다.
- 고급 데이터 통신: 통합된 485 통신 인터페이스를 통해 장비를 컴퓨터에 연결하여 실시간 모니터링, 데이터 로깅 및 전용 소프트웨어를 통한 가열 곡선 생성이 가능합니다.
- 신뢰할 수 있는 전력 전자 장치: 독일산 사이리스터(SCR) 및 위상 변이 트리거를 포함한 프리미엄 부품으로 제작되어 안정적인 전류 공급을 보장하고 전기 서지로부터 발열체를 보호합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 화학 기상 증착 (CVD) | 가열된 튜브 내에서 가스 전구체를 반응시켜 박막 및 나노 재료 성장. | 정밀한 구역 제어로 균일한 막 두께 보장. |
| 열분해 연구 | 불활성 분위기에서 폐타이어나 바이오매스와 같은 유기 재료의 열분해. | 2존 제어로 국부적 탄화를 방지하고 오일/가스 수율 최적화. |
| 분위기 소결 | 산화를 방지하기 위해 환원성 또는 불활성 가스 하에서 세라믹/금속 분말 소결. | 신뢰할 수 있는 플랜지 밀봉으로 높은 분위기 순도 유지. |
| 진공 어닐링 | 저압 환경에서 금속 부품이나 웨이퍼의 응력 완화. | 고진공 성능으로 표면 오염 방지. |
| 촉매 테스트 | 특정 온도 구배 하에서 촉매 재료의 효율성 평가. | 독립적인 구역으로 한 번의 통과로 다양한 반응 단계 구현. |
| 세라믹 동시 소성 | 복잡한 램프/소크 사이클이 필요한 다층 세라믹 부품의 동시 소성. | 40단계 프로그래밍으로 정교한 열 프로파일 구현. |
| 반도체 도핑 | 고온에서 반도체 웨이퍼 내로 도펀트 확산. | 공정 튜브 내 우수한 온도 균일성. |
기술 사양
| 매개변수 | TU-GS15-I | TU-GS15-II | TU-GS15-III |
|---|---|---|---|
| 튜브 외경 | 60 mm | 80 mm | 100 mm |
| 튜브 길이 | 1000 mm | 1000 mm | 1000 mm |
| 최대 작동 온도 | 1400°C | 1400°C | 1400°C |
| 연속 작동 온도 | 1350°C | 1350°C | 1350°C |
| 가열 구역 | 2존 (각 260mm) | 2존 (각 260mm) | 2존 (각 260mm) |
| 정온 영역 길이 | 구역당 100mm | 구역당 100mm | 구역당 100mm |
| 가열 속도 | ≤30°C / min | ≤30°C / min | ≤30°C / min |
| 온도 정확도 | +/- 1°C | +/- 1°C | +/- 1°C |
| 열전대 유형 | S 타입 | S 타입 | S 타입 |
| 발열체 | 탄화규소 (SiC) | 탄화규소 (SiC) | 탄화규소 (SiC) |
| 온도 컨트롤러 | Shimaden FP93 (40단계) | Shimaden FP93 (40단계) | Shimaden FP93 (40단계) |
| 튜브 재질 | 알루미나 세라믹 | 알루미나 세라믹 | 알루미나 세라믹 |
| 챔버 재질 | 다결정 98% 알루미나 섬유 | 다결정 98% 알루미나 섬유 | 다결정 98% 알루미나 섬유 |
| 트리거 | 위상 변이 트리거 | 위상 변이 트리거 | 위상 변이 트리거 |
| 전체 치수 | 1420 x 490 x 855 mm | 1420 x 490 x 855 mm | 1420 x 490 x 855 mm |
| 진공도 | 10-1 ~ 10-4 Pa (펌프 사양에 따름) | 10-1 ~ 10-4 Pa (펌프 사양에 따름) | 10-1 ~ 10-4 Pa (펌프 사양에 따름) |
이 퍼니스를 선택해야 하는 이유
- 비교할 수 없는 열 정밀도: 2존 구성과 일본산 PID 컨트롤러의 결합으로 민감한 재료 합성을 위한 세계 최고 수준의 안정성과 정확도를 제공합니다.
- 산업용 내구성: SiC 발열체와 고밀도 알루미나 섬유로 제작되어 대량 처리 산업 연구소 및 학술 연구실에서 연속 작동하도록 설계되었습니다.
- 고급 안전 프로토콜: 기계식 리미트 스위치부터 전자식 누전 보호 장치까지, 작업자와 시설을 운영 위험으로부터 보호하도록 설계되었습니다.
- 맞춤형 분위기 제어: 고진공 플랜지와 옵션인 디지털 유량계를 포함하여 수소, 아르곤 또는 진공 작업 시 매우 최적화된 환경을 제공합니다.
- 전문 엔지니어링 지원: 포괄적인 문서, 제어 소프트웨어 및 기술 지원을 제공하여 이 장비가 귀하의 워크플로우에 원활하게 통합되도록 보장합니다.
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