제품 개요
이 고성능 분할형 튜브 열처리 시스템은 재료 과학 및 산업 R&D 연구소를 위한 공학적 정점을 보여줍니다. 듀얼 존 가열 구성과 분할형 힌지 섀시를 통합하여 연구원들은 최대 1200°C의 빠른 가열 속도를 달성하면서도 정밀한 열 구배를 생성할 수 있는 유연성을 확보할 수 있습니다. 이 장치의 핵심 가치는 두 개의 별도 구역에서 독립적인 온도 프로파일을 관리할 수 있다는 점이며, 이는 복잡한 화학 기상 증착(CVD) 공정 및 고순도 재료 합성에 매우 중요합니다. 나노와이어 성장이나 첨단 세라믹 소성 등 어떤 용도로 사용하든, 이 시스템은 반복 가능한 과학적 결과를 얻는 데 필요한 안정성과 제어력을 제공합니다.
이 장비는 반도체 연구, 야금 및 나노 기술 분야의 다양한 응용을 위해 특별히 설계되었습니다. 고순도 융합 석영 공정 튜브와 정교한 진공 밀봉 어셈블리를 활용하여 제어된 분위기 또는 진공 조건 하에서 열처리를 위한 최적의 환경을 제공합니다. 대상 고객은 열 균일성을 타협하지 않으면서 신뢰할 수 있고 로딩이 쉬운 퍼니스를 요구하는 학계 연구원 및 산업 엔지니어입니다. 산업용 등급의 제작 품질은 이 장치가 1100°C에서 지속적으로 작동할 수 있음을 보장하며, 가동 시간과 정밀도가 중요한 까다로운 실험실 환경에서 든든한 일꾼 역할을 합니다.
이 시스템에 대한 신뢰는 고급 마이크로프로세서 기반 제어 시스템과 견고한 구조 설계에 의해 뒷받침됩니다. 이중 레이어 강철 케이싱과 고순도 섬유질 알루미나 단열재의 조합은 에너지 효율을 극대화하는 동시에 외부 표면을 안전하게 유지합니다. 몰리브덴이 도핑된 Fe-Cr-Al 합금 발열체부터 정밀 가공된 스테인리스 스틸 플랜지에 이르기까지 모든 구성 요소는 고온 사이클링의 가혹함을 견딜 수 있도록 선택되었습니다. 이 장치는 단순한 퍼니스가 아니라 일관되고 고정밀한 성능으로 차세대 재료 혁신을 지원하도록 설계된 포괄적인 열 솔루션입니다.
주요 특징
- 듀얼 존 독립 온도 제어: 이 시스템은 각각 전용 열전대와 PID 컨트롤러를 갖춘 두 개의 독립적으로 제어되는 가열 구역을 특징으로 합니다. 이를 통해 설정값을 동기화하여 급격한 열 구배를 생성하거나 확장된 항온 구역을 만들 수 있어 CVD 및 기상 수송 실험에 타의 추종을 불허하는 유연성을 제공합니다.
- 정밀 마이크로프로세서 기반 PID 조절: 두 개의 디지털 컨트롤러가 각각 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트로 가열 공정을 관리합니다. 이를 통해 가열 속도, 냉각 속도 및 유지 시간을 세심하게 제어할 수 있으며, 자동 튜닝 기능을 사용하여 온도 오버슈트를 방지하고 ±1°C의 안정성을 보장합니다.
- 최적화된 분할형 섀시 설계: 퍼니스 본체는 힌지 방식의 분할 개방 메커니즘으로 설계되어 석영 튜브와 샘플 영역에 빠르게 접근할 수 있습니다. 이 설계는 기존 일체형 튜브 퍼니스에 비해 튜브 설치, 샘플 로딩 및 더 빠른 냉각 시간을 용이하게 합니다.
- 고급 진공 밀봉 어셈블리: 각 장치에는 고온 실리콘 O-링이 이중으로 장착된 304 스테인리스 스틸 진공 플랜지 한 쌍이 기본으로 제공됩니다. 어셈블리에는 니들 밸브, 압력 게이지 및 KF25 포트가 포함되어 있으며, 기계식 펌프로 10^-2 torr, 분자 펌프 시스템으로 10^-5 torr의 진공 수준에 도달할 수 있습니다.
- 고효율 단열: 에너지 절약형 고순도 섬유질 알루미나 라이너와 특수 Al2O3 코팅을 사용하여 열 손실을 최소화하고 내부 구성 요소의 수명을 연장합니다. 이 단열재는 빠른 승온 시간과 긴 유지 주기 동안 우수한 열 보존력을 보장합니다.
- 향상된 안전 및 냉각 시스템: 이중 레이어 강철 케이스 설계는 두 개의 고속 냉각 팬을 통합하여 낮은 표면 온도를 유지합니다. 통합된 안전 프로토콜에는 과열 방지, 열전대 단선 방지 및 무인 작동을 위한 가청 경보가 포함됩니다.
- 다양한 공정 튜브 옵션: 이 시스템은 60mm, 80mm 또는 100mm 외경의 융합 석영 튜브를 지원합니다. 이러한 범용성을 통해 실험실은 별도의 퍼니스 시스템에 투자할 필요 없이 처리량을 확장하거나 다양한 샘플 크기를 수용할 수 있습니다.
- 고성능 발열체: 발열체는 Mo가 도핑된 특수 Fe-Cr-Al 합금으로 제작되었으며, 산화 저항성과 1200°C에 가까운 온도에서도 기계적 무결성을 유지하는 능력 때문에 특별히 선택되었습니다.
- 디지털 연결 및 데이터 로깅: RS485 통신 포트가 기본으로 제공되어 PC를 통해 시스템을 작동할 수 있습니다. 옵션 소프트웨어 모듈을 사용하면 프로파일을 편집하고, 실시간 데이터를 기록하며, 열처리 레시피를 원격으로 관리하여 더 나은 감사 추적 및 연구 문서화가 가능합니다.
- 강력한 분위기 제어: 세라믹 열 블록과 고품질 밀봉 구성 요소를 포함하여 퍼니스가 진공 또는 저압(<0.2 bar) 불활성 가스 환경(예: 질소 또는 아르곤)에서 작동할 수 있도록 하여 고순도 처리를 보장합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| CVD 나노 재료 합성 | 화학 기상 증착을 통한 탄소 나노튜브, 그래핀 및 기타 2D 재료 준비. | 효율적인 전구체 수송 및 증착을 위한 정밀한 열 구배 제어. |
| 반도체 어닐링 | 전기적 특성을 수정하기 위한 실리콘 웨이퍼 및 화합물 반도체 재료의 열처리. | 매우 균일한 온도 분포 및 빠른 냉각 성능. |
| 박막 증착 | 기상 수송 또는 증발 기술을 통한 고순도 박막 성장. | 제어된 진공 환경으로 성장 중 산화 및 오염 방지. |
| 세라믹 소결 | 밀도를 높이기 위한 기술 세라믹 및 압전 재료의 고온 처리. | 프로그래밍 가능한 램프/소크 세그먼트로 균열 방지를 위한 특정 소결 프로파일 가능. |
| 열 구배 테스트 | 상변화나 안정성을 관찰하기 위해 재료 샘플에 온도 차이를 적용. | 듀얼 존 독립 제어로 반복 가능하고 안정적인 열 구배 구현. |
| 소성 공정 | 휘발성 성분을 제거하거나 화학적 변화를 유도하기 위한 재료의 열분해. | 긴 유지 시간을 위한 우수한 분위기 제어 및 에너지 효율적인 작동. |
| 야금 R&D | 결정립 성장 및 기계적 특성을 연구하기 위해 다양한 열 조건에서 합금 샘플 테스트. | 견고한 발열체와 내구성 있는 석영 튜브가 가혹한 사이클링을 견딤. |
| 배터리 재료 연구 | 리튬 이온 및 전고체 배터리용 양극/음극 재료의 합성 및 테스트. | 고순도 알루미나 라이닝으로 열처리 중 금속 오염 방지. |
기술 사양
| 특징 | TU-30-60 | TU-30-80 | TU-30-100 |
|---|---|---|---|
| 최대 온도 | 1200°C (< 1시간) | 1200°C (< 1시간) | 1200°C (< 1시간) |
| 연속 작동 온도 | 100°C ~ 1100°C | 100°C ~ 1100°C | 100°C ~ 1100°C |
| 가열 구역 길이 | 듀얼: 196mm/구역 (총 432mm) | 듀얼: 196mm/구역 (총 432mm) | 듀얼: 196mm/구역 (총 432mm) |
| 항온 구역 | 구역당 150mm (±1°C) | 구역당 150mm (±1°C) | 구역당 150mm (±1°C) |
| 석영 튜브 치수 | 60mm O.D. x 1000mm L | 80mm O.D. x 1000mm L | 100mm O.D. x 1000mm L |
| 최대 가열 속도 | ≤ 20°C / 분 | ≤ 20°C / 분 | ≤ 20°C / 분 |
| 온도 정확도 | ±1°C | ±1°C | ±1°C |
| 발열체 | Mo 도핑 Fe-Cr-Al 합금 | Mo 도핑 Fe-Cr-Al 합금 | Mo 도핑 Fe-Cr-Al 합금 |
| 전력 | 3 KW | 3 KW | 3 KW |
| 전압 | AC 208-240V, 단상 | AC 208-240V, 단상 | AC 208-240V, 단상 |
| 플랜지 유형 | SS 304 진공 플랜지 (60mm) | SS 304 진공 플랜지 (80mm) | SS 304 진공 플랜지 (100mm) |
| 진공 수준 | 10^-2 torr (기계식) / 10^-5 (분자식) | 10^-2 torr (기계식) / 10^-5 (분자식) | 10^-2 torr (기계식) / 10^-5 (분자식) |
| 열전대 | K-타입 2개 (TCK8S3B) | K-타입 2개 (TCK8S3B) | K-타입 2개 (TCK8S3B) |
| 온도 컨트롤러 | 듀얼 30-세그먼트 프로그래밍 가능 | 듀얼 30-세그먼트 프로그래밍 가능 | 듀얼 30-세그먼트 프로그래밍 가능 |
| 준수 사항 | CE 인증 | CE 인증 | CE 인증 |
| 치수 (LxWxH) | 표준 벤치탑 | 표준 벤치탑 | 표준 벤치탑 |
1200C 듀얼 존 분할형 튜브 퍼니스를 선택해야 하는 이유
- 입증된 장기 신뢰성: Mo 도핑 합금 발열체 및 고순도 섬유질 알루미나와 같은 프리미엄 구성 요소로 제작된 이 시스템은 가혹한 R&D 환경에서 수년간 일관된 사용을 위해 설계되었습니다.
- 우수한 열 정밀도: 듀얼 존 구성을 통해 매우 구체적인 열 프로파일링이 가능하며, 연구원들에게 민감한 재료 합성 및 CVD 공정에 필요한 정확한 조건을 제공합니다.
- 정밀 제조: 진공 밀봉 스테인리스 스틸 플랜지부터 마이크로프로세서 기반 PID 제어에 이르기까지, 이 퍼니스의 모든 측면은 최대의 작동 일관성을 위해 엄격한 산업 표준에 따라 제조됩니다.
- 유연하고 확장 가능한 설계: 다양한 튜브 직경 옵션과 분할 개방형 섀시를 갖춘 이 장비는 변화하는 프로젝트 요구 사항에 적응하며, 모든 실험실을 위한 다재다능하고 미래 지향적인 투자입니다.
- 포괄적인 안전 규정 준수: CE 인증 및 옵션인 NRTL/CSA 업그레이드를 특징으로 하며, 고급 냉각 아키텍처와 통합된 결함 방지 메커니즘을 통해 작업자의 안전을 최우선으로 합니다.
당사의 기술 팀은 귀하의 특정 열처리 요구 사항에 맞는 이상적인 구성을 선택하거나 맞춤형 솔루션을 설계하도록 지원할 준비가 되어 있습니다. 자세한 견적을 원하시거나 엔지니어링 전문가와 귀하의 응용 요구 사항을 논의하려면 지금 바로 문의하십시오.
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