제품 개요

이 고성능 열처리 시스템은 온도 프로파일과 구배(gradient)에 대한 정밀한 제어가 필요한 첨단 재료 과학 및 산업 R&D 애플리케이션을 위해 설계되었습니다. 독특한 7존 가열 구조를 활용하여 연구자들은 매우 긴 항온 구역을 설정하거나 매우 구체적인 단계적 열 구배를 형성할 수 있습니다. 이러한 다재다능함 덕분에 이 장비는 표준 단일 존 퍼니스로는 필요한 공간적 온도 해상도를 제공할 수 없는 화학 기상 증착(CVD), 결정 성장, 정밀 어닐링 사이클과 같은 복잡한 공정에 필수적인 도구가 됩니다.
현대 실험실 환경의 엄격한 요구 사항을 고려하여 설계된 이 시스템은 시료 로딩 및 튜브 유지보수가 용이하도록 대구경 석영 공정 튜브와 분할형 퍼니스 디자인을 통합했습니다. 가열 챔버와 전자 제어 장치를 분리하여 구성 요소의 장기적인 신뢰성을 보장하며, 기존 실험실 워크플로우나 글로브박스 환경으로의 통합을 간소화합니다. 대상 산업 분야로는 일관성과 반복성이 필수적인 반도체 제조, 배터리 기술 개발, 고성능 세라믹 연구 등이 있습니다.
까다로운 연중무휴(24/7) 산업 및 학술 사이클을 위해 제작된 이 장치는 타의 추종을 불허하는 열 안정성과 작업자 안전을 제공합니다. 견고한 구조 공학은 고급 고순도 섬유질 알루미나 단열재와 결합되어 에너지 효율을 극대화하는 동시에 외부 표면 온도를 작업자가 안전하게 유지하도록 합니다. 사용자는 열 환경의 무결성이 결과 데이터의 품질과 직접적으로 연관되는 중요한 실험에서 이 장비를 신뢰할 수 있습니다.
주요 특징
- 7개의 독립적인 가열 존: 이 장비는 독립적으로 프로그래밍할 수 있는 7개의 개별 150mm 존을 특징으로 합니다. 이를 통해 35인치의 거대한 항온 구역 또는 총 42인치의 가열 길이에 걸친 정밀한 열 구배를 생성할 수 있어, 증기 수송 및 국부 가열 실험에 타의 추종을 불허하는 유연성을 제공합니다.
- 대구경 공정 챔버: 5인치(130mm) 외경 석영 튜브를 표준으로 하며, 상당한 배치 크기나 대규모 부품 열처리를 수용하도록 설계되었습니다. 또한 1인치에서 4인치까지 다양한 튜브 크기를 지원하는 다재다능한 설계로 실험실이 특정 프로젝트 요구 사항에 맞게 시스템을 조정할 수 있습니다.
- 공압 리프트 지지 메커니즘: 사용 편의성을 보장하고 작업자의 피로를 방지하기 위해 분할형 커버는 고하중 압축 공기 스프링으로 지지됩니다. 이를 통해 튜브 교체나 시료 로딩 시 부드럽고 제어된 개폐가 가능하며, 우발적인 충격으로부터 섬세한 석영 구성 요소를 보호합니다.
- 고급 터치스크린 PID 제어: 시스템은 7개 존을 동시에 조절하는 중앙 집중식 터치스크린 인터페이스를 통해 관리됩니다. 사용자는 최대 10개의 고유한 열처리 프로그램을 저장할 수 있으며, 각 프로그램은 30개의 세그먼트를 포함하여 서로 다른 실험 배치 간의 절대적인 반복성을 보장합니다.
- 고급 열 금속 공학: 몰리브덴이 도핑된 1300ºC 등급 Fe-Cr-Al 합금 요소를 사용하여 표준 가열 와이어보다 빠른 가열 속도와 우수한 수명을 제공합니다. 이러한 고급 요소는 고온 작동 시 산화 및 열 피로에 대한 저항성 때문에 특별히 선택되었습니다.
- 효율성 중심 단열: 내부는 에너지 절약형 고순도 섬유질 알루미나로 라이닝되어 있습니다. 이 고성능 내화 재료는 열 손실을 최소화하고 통합 공랭 기술이 적용된 이중 레이어 강철 케이스를 통해 차가운 외부 쉘을 유지할 수 있게 합니다.
- 간소화된 진공 밀봉: 스테인리스 스틸 퀵 어셈블리 플랜지와 부식 방지 디지털 진공 게이지가 장착되어 있어 신속한 진공 설정 및 해체가 가능합니다. 니들 밸브와 K25 포트가 포함되어 있어 진공 펌프 및 가스 공급 매니폴드와 즉시 통합할 수 있습니다.
- 내구성 있는 안전 프로토콜: 과열 및 열전대 단선에 대한 내장 보호 기능은 기술적 결함 발생 시 시스템을 자동으로 종료하여 장비와 챔버 내부의 귀중한 시료를 모두 보호합니다.
애플리케이션
| 애플리케이션 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 화학 기상 증착 (CVD) | 고온에서 가스 전구체를 사용하여 탄소 나노튜브, 그래핀 및 박막 성장. | 큰 튜브 직경과 다중 존 제어로 대형 기판 위에 균일한 박막 증착 보장. |
| 물리 기상 수송 (PVT) | 제어된 열 구배를 통해 뜨거운 소스에서 차가운 기판으로 재료 이동. | 7개의 독립적인 존을 통해 결정 성장에 필요한 온도 기울기를 미세 조정 가능. |
| 재료 어닐링 | 특수 합금 및 반도체 웨이퍼의 열 응력 완화 및 결정립 크기 제어. | 분할형 튜브 디자인으로 빠른 냉각 사이클 및 진공/가스 환경 내 시료 회수 용이. |
| 기술 세라믹 소결 | 세라믹 분말을 밀도 높고 기능적인 실험실 구성 요소로 고온 압축. | 높은 열 균일성으로 균열 방지 및 대형 시료 전반에 걸쳐 일관된 밀도 보장. |
| 배터리 전극 개발 | 제어된 대기 조건 하에서 양극/음극 재료의 하소 및 합성. | 우수한 대기 제어 및 정밀 PID 튜닝으로 처리 중 화학적 안정성 유지. |
| 고체 상태 합성 | 장시간 고온 노출을 통한 복합 산화물 및 금속 간 화합물 합성. | 1100°C에서 안정적인 연속 작동으로 성능 저하 없이 다일 처리 사이클 가능. |
기술 사양
| 사양 카테고리 | 매개변수 세부 정보 (TU-50) |
|---|---|
| 모델 식별 | TU-50 7존 분할형 튜브 퍼니스 |
| 최대 작동 온도 | 1200 °C (단기 1시간 미만) |
| 연속 작동 온도 | 1100 °C (가스 흐름 시) / 1000 °C (진공 1 torr 미만) |
| 최대 가열 속도 | ≤ 10 °C / 분 |
| 가열 존 구성 | 7개의 독립 존; 각 150mm (6"); 총 길이 1050mm (42") |
| 등온 구역 길이 | 최대 35" (875mm) 항온 구역 (+/- 2 °C 이내) |
| 공정 튜브 치수 | 석영 튜브: 130mm 외경 x 122mm 내경 x 2000mm 길이 (5" x 79") |
| 호환 튜브 범위 | 1" ~ 5" 직경의 공정 튜브 수용 |
| 가열 요소 재질 | 몰리브덴 도핑된 1300ºC 등급 Fe-Cr-Al 합금 |
| 전원 요구 사항 | AC 208-240V 단상, 50/60 Hz; 최대 8.5 KW (50A 차단기) |
| 온도 컨트롤러 | 터치스크린 디지털 유닛; 7채널 PID 제어; 10개 프로그램 / 30개 세그먼트 |
| 정확도 및 정밀도 | +/- 1 ºC 정확도; 7개의 K-타입 열전대 (존당 1개) |
| 진공 시스템 구성 요소 | 퀵 클램프가 있는 SS 플랜지; 니들 밸브; K25 포트; 디지털 진공 게이지 |
| 냉각 및 쉘 디자인 | 공랭식 이중 레이어 강철 케이스 (표면 온도 60 °C 미만) |
| 준수 및 안전 | CE 인증; 통합 과열 및 센서 단선 보호 |
| 통신 | 데이터 기록 소프트웨어가 포함된 내장 RS485 포트 |
이 7존 퍼니스를 선택해야 하는 이유
- 산업용 정밀도: 7존 아키텍처는 분할형 튜브 퍼니스에서 사용할 수 있는 최고 수준의 공간적 열 제어 기능을 제공하여, 온도 균일성을 타협할 수 없는 연구자들에게 선호되는 선택입니다.
- 운영 효율성: 퀵 플랜지, 에어 스프링 보조 리프팅, 포괄적인 터치스크린 제어의 조합은 설정 및 공정 모니터링에 필요한 시간을 단축하여 실험실의 처리량을 증가시킵니다.
- 프리미엄 재료 구성: 몰리브덴 도핑된 가열 요소부터 고순도 알루미나 단열재에 이르기까지, 모든 구성 요소는 고온 서비스의 엄격함을 견디고 총 소유 비용을 최소화하도록 선택되었습니다.
- 유연한 통합: 진공 처리, 대기 제어 합성 또는 다채널 CVD를 수행하든, 이 시스템은 표준화된 플랜지 포트와 옵션인 가스 공급 호환성을 통해 쉬운 확장을 지원합니다.
- 검증된 안정성 및 신뢰성: CE 인증과 열 격리에 중점을 둔 설계를 바탕으로, 이 장비는 수천 시간의 작동 동안 고성능을 유지하여 연구 데이터가 매년 일관되게 유지되도록 보장합니다.
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