제품 개요
이 고온 분할형 튜브 퍼니스는 첨단 재료 과학 및 산업 R&D를 위한 정밀 공학의 정점에 해당합니다. 최대 1500°C까지 작동하도록 설계된 이 장비는 분리 가능한 독특한 알루미나 튜브 챔버를 갖추고 있어 시료에 신속하게 접근할 수 있으며 복잡한 실험 장치와도 쉽게 통합할 수 있습니다. 고성능 실리콘 카바이드(SiC) 가열 요소와 다양한 튜브 구성을 결합하여, 소결, 어닐링, 화학 기상 증착과 같은 핵심 공정에 필요한 안정적인 열 환경을 제공합니다.
이 장비의 핵심 가치는 진공 및 제어 분위기 조건 모두에 대한 적응성에 있습니다. 고품질 스테인리스강 진공 실링 플랜지와 고순도 알루미나 튜브를 갖춘 이 장비는 반도체 제조, 항공우주 재료 개발, 촉매 연구 등 다양한 산업 분야에서 엄격한 열처리를 지원합니다. 분할 구조는 주변 시료 세팅이나 가스 연결을 건드리지 않고도 공정 튜브를 자주 삽입 및 제거해야 하는 연구자들에게 특히 유리합니다.
중장비 산업 및 실험실 사용을 위해 설계된 이 퍼니스는 공랭 기술을 활용하는 이중층 강철 케이싱 내부에 제작되어 외부 온도를 안전하게 유지합니다. 섬유질 알루미나 단열재부터 고급 PID 컨트롤러에 이르기까지 모든 구성 요소는 장기적인 신뢰성과 일관성을 보장하도록 선택되었습니다. 이 시스템은 정밀성과 안전이 타협될 수 없는 까다로운 열처리 프로토콜을 위해 조달 팀과 실험실 관리자에게 견고하고 높은 가용성을 갖춘 솔루션을 제공합니다.
주요 특징
- 분할형 챔버 구조: 길이 방향 분할 설계는 공정 구역에 비할 데 없는 접근성을 제공합니다. 이를 통해 작업자는 전체 조립체를 분해하지 않고도 알루미나 튜브를 쉽게 설치 또는 제거하고, 내부 열전대를 관리하거나, 시료 위치를 조정할 수 있어 실험 간 다운타임을 크게 줄일 수 있습니다.
- 고급 실리콘 카바이드(SiC) 가열 요소: 고급 1500급 SiC 로드는 효율적이고 균일한 복사열을 제공합니다. 이 요소들은 급격한 열 사이클을 견디고 고온 안정성을 유지하도록 특별히 구성되어 있어, 장비가 핵심 산업 공정을 위해 정격 최고 온도에 안정적으로 도달할 수 있도록 합니다.
- 정밀 PID 온도 제어: 통합 디지털 컨트롤러는 비례-적분-미분 로직과 자동 튜닝 기능을 갖추고 있습니다. 승온, 냉각, 유지용 30개의 프로그래밍 가능한 구간을 통해 +/- 1°C 정확도를 제공하며, 민감한 재료 합성에 필요한 반복 가능한 열 사이클을 구현합니다.
- 통합 안전 인터록 보호: 바쁜 실험실 환경에서 작업자 안전을 보장하기 위해, 이 시스템은 내장 인터록 메커니즘을 갖추고 있습니다. 이 안전 기능은 퍼니스 커버가 열릴 때마다 가열 요소로의 전원을 자동 차단하여 고전압이나 극심한 열 복사에 의한 우발적 노출을 방지합니다.
- 고성능 진공 실링 플랜지: 각 장비에는 밸브와 게이지가 장착된 스마트 스테인리스강 진공 플랜지 한 쌍이 포함됩니다. 이 구성은 고진공 환경과 가압 가스 흐름 조건 간의 원활한 전환을 가능하게 하며, 다양한 분위기 제어 요구를 지원합니다.
- 이중층 공랭 강철 케이싱: 퍼니스 하우징은 내부 공랭 팬 시스템으로 설계되었습니다. 이 이중벽 구조는 내부 챔버가 1500°C에 도달하는 동안에도 외부 표면을 60°C 이하로 유지하여 작업자와 주변의 민감한 실험실 장비를 보호합니다.
- 산업용 열 절연: 고순도 섬유질 알루미나 단열재를 사용하여 열 손실을 최소화하고 에너지 효율을 극대화합니다. 내면의 특수 내화 코팅은 반복되는 고온 사이클 동안 열화에 저항하여 단열재의 수명을 더욱 연장합니다.
- 다양한 분위기 제어: 이 장비는 다양한 가스 환경에 최적화되어 있습니다. 터보분자 펌프를 사용할 경우 10^-5 torr까지 진공을 유지하거나 불활성 가스 흐름을 수용할 수 있어, 흑연화, 탄화 및 특수 산화 연구에 이상적인 플랫폼입니다.
적용 분야
| 적용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 촉매 흑연화 | 초고온에서 페놀 수지 탄소와 촉매를 처리하여 비정질 탄소를 흑연 구조로 전환합니다. | 우수한 열장 균일성을 통해 Ni-Zn-B 촉매 효율을 보장합니다. |
| 화학 기상 증착(CVD) | 반도체 응용을 위한 실리콘 기판 위에 고품질 박막 및 3C-SiC 박막을 성장시킵니다. | 가스 흐름과 온도 구배를 정밀하게 제어하여 일관된 막 두께를 확보합니다. |
| 세라믹 소결 | 세라믹 분말을 고온에서 치밀하고 고성능의 구조 부품으로 치밀화합니다. | 열 변동을 최소화하여 균열을 방지하고 재료 밀도를 향상시킵니다. |
| 배터리 재료 R&D | 전극 재료를 제어된 불활성 분위기에서 열처리하여 전기화학적 특성을 향상시킵니다. | 고신뢰성 진공 실링을 통해 민감한 분말의 산화를 방지합니다. |
| 반도체 어닐링 | 제어된 가열을 통해 실리콘 웨이퍼 및 기타 기판의 물리적·전기적 특성을 조절합니다. | 빠른 냉각 기능으로 도펀트 확산 프로파일을 정밀하게 제어할 수 있습니다. |
| 항공우주 복합재 | 1500°C 열 프로파일을 엄격히 준수해야 하는 첨단 합금 및 복합재의 열처리. | 견고한 SiC 요소가 대형 시료 적재에 필요한 고출력 출력을 제공합니다. |
기술 사양
| 매개변수 | TU-63-2 (2" Variant) | TU-63-3 (3" Variant) |
|---|---|---|
| 모델 식별자 | TU-63-2 | TU-63-3 |
| 표준 알루미나 튜브 크기 | 50mm OD x 40mm ID x 1000mm L | 76mm OD x 67mm ID x 1000mm L |
| 가열 요소 유형 | 16 pcs SiC Rods (1500 Grade) | 16 pcs SiC Rods (1500 Grade) |
| 최고 온도 | 1500°C (< 1 hour) | 1500°C (< 1 hour) |
| 연속 운전 온도 | 1400°C | 1400°C |
| 가열 속도 | Max 10°C/min (Tube dependent) | Max 10°C/min (Tube dependent) |
| 냉각 속도 | < 5°C/min (Alumina specific) | < 5°C/min (Alumina specific) |
| 온도 정확도 | +/- 1°C | +/- 1°C |
| 총 가열 구역 길이 | 390 mm | 390 mm |
| 정온 구역 | 150 mm (+/- 2°C) | 150 mm (+/- 2°C) |
| 전압 요구 사항 | 208 - 240VAC Single Phase | 208 - 240VAC Single Phase |
| 전력 소비 | 6.0 KW | 6.0 KW |
| 열전대 유형 | S-Type | S-Type |
| 진공 수준 성능 | 10^-2 torr (Mechanical) / 10^-5 torr (Turbo) | 10^-2 torr (Mechanical) / 10^-5 torr (Turbo) |
| 누설률 | < 5 mtorr / min | < 5 mtorr / min |
| 압력 모니터링 | Mechanical Gauge (-0.1 to 0.15Mpa) | Mechanical Gauge (-0.1 to 0.15Mpa) |
| 인증 | CE Certified (UL/CSA available) | CE Certified (UL/CSA available) |
이 분할형 튜브 퍼니스를 선택해야 하는 이유
- 검증된 장기 신뢰성: 1500급 SiC 가열 요소와 수직 로드 설치로 설계되어, 이 시스템은 성능 저하 없이 지속적인 산업 사용의 혹독함을 견딜 수 있도록 만들어졌습니다.
- 향상된 운영 안전성: 열 위험으로부터 사용자를 보호하는 통합 인터록 시스템부터 이중층 냉각 케이싱까지, 모든 설계 요소는 연구자를 위한 안전한 작업 환경을 우선시합니다.
- 정밀 제조 기준: 고순도 섬유질 알루미나와 특수 내화 코팅의 사용은 퍼니스가 열적 무결성을 유지하도록 하여 유지보수 빈도와 총 소유 비용을 줄여줍니다.
- 다목적 플랜지 설계: 스마트 스테인리스강 플랜지 시스템은 고진공 무결성과 사용 편의성을 위해 설계되어, 서로 다른 분위기 공정 모드 간의 빠른 전환을 가능하게 합니다.
- 맞춤형 제어 옵션: 표준 30구간 PID 제어를 넘어, 이 시스템은 현대 R&D 실험실의 특정 문서화 요구 사항을 충족하기 위해 컴퓨터 데이터 로깅 및 PC 통신 포트로 업그레이드할 수 있습니다.
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