1인치 및 2인치 공정 튜브용 PID 온도 컨트롤러 고온 수직 분할 튜브로

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1인치 및 2인치 공정 튜브용 PID 온도 컨트롤러 고온 수직 분할 튜브로

품목 번호: TU-C02

최고 작동 온도: 1100°C 튜브 직경 호환성: 외경 1인치 또는 2인치 온도 정확도: ±1°C
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제품 개요

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이 수직 분할로는 수직 방향이 필요한 응용 분야에 특화된 첨단 재료 연구를 위해 설계된 특수 열처리 솔루션입니다. 수직 구성을 활용하여 중력 공급 가스 흐름, 특수 샘플 위치 지정 및 굴뚝 효과 열역학을 활용하는 독특한 실험 설정을 가능하게 합니다. 이 시스템은 수평 방향으로는 부족한 촉매 개발, 나노구조 합성 및 섬세한 분말 또는 필름의 열처리에 집중하는 연구실에 필수적입니다.

이 장비의 핵심 가치는 빠른 접근과 높은 처리량을 위해 특별히 설계된 분할 커버 디자인에 있습니다. 연구자들은 직경 1인치부터 2인치까지 다양한 공정 튜브를 쉽게 통합할 수 있어 맞춤형 튜브형 반응기 구성에 매우 다용도 DIY 플랫폼이 됩니다. 이 장비는 까다로운 실험실 조건에서 안정적으로 작동하도록 설계되었으며 단기 실험부터 1000°C까지 장기 연속 공정에 일관된 열 환경을 제공합니다.

고순도 알루미나 섬유 단열재와 견고한 이중층 강철 구조의 조합을 통해 성능에 대한 신뢰를 보장합니다. 이 장치는 가장 엄격한 산업 R&D 공정에 필요한 안정성과 정밀도를 제공하며 재료 과학자들이 첨단 탄소 재료와 촉매의 구조적 질서화 및 흑연화에서 재현 가능한 결과를 얻을 수 있도록 보장합니다.

주요 특징

  • 수직 분할 커버 설계: 가열 챔버를 수직으로 열 수 있는 힌지 기반 분할 디자인을 특징으로 하며 복잡한 가스 공급 또는 진공 시스템을 분해하지 않고도 공정 튜브와 반응기를 쉽게 설치할 수 있습니다.
  • 고급 단열재: 고순도 Al2O3 섬유 단열재를 사용하여 셸을 통한 열 손실을 최소화하여 최대 에너지 절약을 달성하는 동시에 분당 최대 20°C의 빠른 가열 속도를 지원하는 낮은 열 질량을 가능하게 합니다.
  • 정밀 PID 제어 시스템: 통합 컨트롤러는 30개의 프로그래밍 가능 세그먼트를 특징으로 하며 전체 가열 범위에서 ±1°C의 온도 정확도를 유지하기 위해 정교한 자동 튜닝 기능과 PID 로직을 제공합니다.
  • 향상된 안전 구조: 공랭식 통합 이중층 강철 구조는 고온 작동 중에도 외부 케이싱을 안전한 온도로 유지하여 실험실 인력과 주변 장비를 보호합니다.
  • 특수 가열 요소: 몰리브덴이 도핑된 고성능 Fe-Cr-Al 합금 요소를 장착하여 최고 작동 온도인 1100°C에서도 긴 수명과 뛰어난 내산화성을 제공합니다.
  • 다용도 튜브 호환성: 내부 구조는 1"(25mm) 또는 2"(50mm) 외경 공정 튜브를 수용하도록 설계되어 다양한 스케일업 연구 프로젝트와 반응기 설계에 필요한 유연성을 제공합니다.
  • 지능형 보호 메커니즘: 내장 안전 프로토콜은 열전대 고장과 과열을 방지하고 자동으로 전원을 차단하여 시스템과 처리된 샘플이 손상되지 않도록 보장합니다.
  • 일정한 온도 안정성: 시스템은 ±1°C 편차로 60mm 정온 구역을 제공하도록 설계되었으며 이는 촉매와 반도체의 균일한 열처리에 매우 중요합니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
촉매 합성 질소 도핑 탄소에 안정적인 Co-N 클러스터 사이트를 형성하기 위한 고온 열처리 향상된 촉매 한계 전류 및 메탄올 내성
탄소 나노튜브 성장 수직 정렬 탄소 나노튜브 합성을 위한 수직 화학 기상 증착(CVD) 중력 보조 가스 흐름으로 인한 균일한 밀도 및 정렬
흑연화 전기 전도도 향상을 위해 1100°C에서 탄소 기반 재료의 구조적 질서화 재료 전도도 및 구조적 안정성 최적화
반도체 어닐링 수직 방향에서 반도체 웨이퍼 또는 박막의 제어된 열처리 일관된 도펀트 활성화 및 감소된 표면 오염
고체 배터리 R&D 깨끗한 튜브 환경에서 세라믹 전해질 및 전극 재료의 열처리 향상된 이온 전도도 및 계면 안정성
환경 테스트 고온 수직 기류 하에서 재료 내구성 및 내산화성 테스트 수직 산업 배기 및 열 환경의 현실적인 시뮬레이션
박막 증착 다양한 튜브 크기를 사용하는 DIY 원자층 증착(ALD) 또는 CVD 설정 지원 가스 체류 시간 및 증착 균일성에 대한 정밀 제어
분말 하소 중력을 통해 기체-고체 접촉이 최대화되는 분말의 수직 열처리 더 빠른 반응 동역학 및 최종 제품의 향상된 균질성

기술 사양

매개변수 사양 세부 정보 (TU-C02)
최대 온도 1100 °C (1시간 미만)
연속 작동 온도 1000 °C
가열 속도 최대 20 °C / 분
전력 1200W (110 VAC 또는 208-240VAC 단상)
가열 구역 길이 8인치 (200 mm)
정온 구역 2.3인치 (60 mm) (±1°C)
가열 요소 몰리브덴 도핑 Fe-Cr-Al 합금
튜브 호환성 1인치 (25 mm) 또는 2인치 (50 mm) 외경 공정 튜브
컨트롤러 유형 30개 프로그래밍 가능 세그먼트 PID 자동 제어
온도 정확도 ± 1 °C
열전대 K형
단열재 고순도 Al2O3 섬유 단열재
구조 공랭식 이중층 강철
배송 중량 80 파운드
배송 크기 40인치(길이) x 30인치(너비) x 30인치(높이)
인증 CE 인증 (NRTL/CSA 옵션으로 제공 가능)

저희를 선택하는 이유

  • 비교할 수 없는 열 정밀도: 이 시스템은 온도 안정성이 메탄올 내성에 직접적인 영향을 미치는 질소 도핑 탄소 촉매 형성과 같은 민감한 화학 반응에 필요한 안정적인 열 환경을 제공하도록 설계되었습니다.
  • 산업 등급 신뢰성: 이중 쉘 냉각 구조와 고급 도핑 가열 요소로 제작된 이 장치는 성능 저하 없이 까다로운 R&D 환경에서 연속 작동하도록 설계되었습니다.
  • 다용도 연구 플랫폼: 수직 분할 디자인은 최고의 유연성을 제공하며 연구자들이 튜브를 빠르게 교체하고 다양한 DIY 반응기 구성과 재료 과학 실험에 맞춰 로를 적용할 수 있습니다.
  • 안전 및 규정 준수: 옵션 NRTL/CSA 인증과 완전히 CE 인증을 받은 이 시스템은 산업 및 학술 연구실 환경에 대한 최고 안전 표준을 충족합니다.
  • 전문가 기술 지원: 모든 장치는 1년 제한 보증과 평생 기술 지원이 뒷받침되어 열 공정이 중단 없이 최적화된 상태를 유지할 수 있도록 보장합니다.

맞춤형 견적을 받거나 이 수직 분할로가 귀하의 특정 연구 워크플로우에 어떻게 통합될 수 있는지 논의하려면 오늘 기술 영업 팀에 문의하세요.

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