알루미나 튜브와 수냉 플랜지를 갖춘 고온 1700C 6존 분할 튜브 퍼니스

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알루미나 튜브와 수냉 플랜지를 갖춘 고온 1700C 6존 분할 튜브 퍼니스

품목 번호: TU-81

최대 온도: 1700°C 가열 구역: 6개 구역 (총 가열 길이 1400 mm) 온도 제어 정밀도: ±1°C
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제품 개요

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이 고온 열처리 시스템은 실험실 엔지니어링의 정점이라 할 수 있으며, 최대 1700°C의 온도를 뛰어난 정밀도로 6개의 독립 제어 가열 존에 걸쳐 구현하도록 특별히 설계되었습니다. 분할 힌지 구조의 퍼니스 본체와 고순도 알루미나 처리 튜브를 통합하여 시료 적재를 간편하게 하고 반응 챔버에 빠르게 접근할 수 있습니다. 이러한 이중 목적 설계는 극한의 고온과 모듈식 튜브 구성을 모두 필요로 하는 연구 환경에서 필수적인 도구가 되며, 복잡한 실험 구성을 쉽고 효율적으로 관리할 수 있게 합니다.

주로 재료과학 부서, 산업 R&D 센터, 반도체 제조 연구실에서 사용되며, 화학 기상 증착(CVD), 결정 성장, 고급 세라믹 소결과 같은 정교한 열처리에서 뛰어난 성능을 발휘합니다. 1400 mm의 가열 길이를 유지할 수 있는 시스템의 능력은 고처리량 가공 또는 정밀한 열 구배 형성을 가능하게 합니다. 견고한 구조는 재료 순도와 열 일관성이 최종 제품의 성공에 중요한 항공우주, 에너지 저장, 전자 분야와 같은 까다로운 산업에 맞게 설계되었습니다.

엄격한 작동 조건에서 장기적인 신뢰성을 위해 설계된 이 시스템은 프리미엄 등급 MoSi2 가열 요소와 이중층 연강 케이스를 사용합니다. 통합 냉각 팬을 통해 외부 표면이 안전한 작동 온도로 유지되어 작업자와 주변 실험실 인프라를 보호합니다. 6개의 개별 PID 컨트롤러가 열 프로파일을 세밀하게 관리하므로, 가장 민감한 공정도 매번 반복 가능하고 높은 신뢰도의 결과로 실행될 수 있다는 확신을 연구자에게 제공합니다.

주요 특징

  • 6개의 독립 가열 존: 퍼니스는 각각 개별 PID 유닛으로 제어되는 6개의 서로 다른 가열 존(200, 200, 300, 300, 200, 200 mm)으로 구성되어 있으며, 최대 10°C/cm의 정밀한 열 구배를 만들 수 있습니다.
  • 고급 분할 본체 설계: 분할 챔버 구조를 통해 처리 튜브의 삽입과 제거가 용이하며, 사전 조립된 실험 장치나 공정 사이클 간 빠른 냉각에 필수적입니다.
  • 고순도 알루미나 처리 튜브: Ø60 mm x 1800 mm 알루미나 튜브는 극한 온도에서 뛰어난 내화학성과 구조적 안정성을 제공하여 민감한 재료 합성을 위한 깨끗한 환경을 보장합니다.
  • MoSi2 가열 요소: 1800°C 등급 몰리브덴 디실리사이드 요소를 사용하여, 저급 가열 부품에서 흔히 나타나는 열화 없이 빠른 승온과 지속적인 고온 성능을 구현합니다.
  • 수냉 진공 플랜지: 이 시스템에는 최대 작동 온도에서도 밀봉 무결성을 유지하는 포괄적인 수냉 플랜지 세트가 포함되어 있어 박막 증착에 필요한 수준까지의 고진공 공정을 지원합니다.
  • 정밀 PID 온도 제어: 6개의 컨트롤러 각각은 50개의 프로그래머블 세그먼트를 제공하며, 0.3°C 해상도와 ±1°C 정확도로 가장 엄격한 실험실 기준을 충족합니다.
  • 향상된 안전 인터록: 내장 과열 및 열전대 단선 경보는 자동 차단 기능을 제공하여 장비와 공정 튜브를 열 폭주나 하드웨어 고장으로부터 보호합니다.
  • 통합 데이터 수집: RS485 직렬 통신과 LabVIEW 기반 소프트웨어를 통해 사용자는 원격으로 온도 프로파일을 모니터링하고, 데이터를 기록하며, 중앙 워크스테이션에서 복잡한 레시피를 관리할 수 있습니다.
  • 열 효율 구조: 강제 공랭 방식의 이중층 강철 케이스는 외부 쉘 온도를 70°C 이하로 유지하여 실험실 환경의 열 부하를 최소화하고 에너지 효율을 향상시킵니다.
  • 포괄적인 균일성: 모든 존이 동기화되었을 때 ±5°C에서 1000 mm의 균일 온도 구역을 제공하여 대량 처리나 긴 시료 소결에 이상적입니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
CVD / PECVD 제어된 분위기에서 고품질 탄소 나노튜브, 그래핀, 박막 코팅을 합성합니다. 정밀한 가스 유량과 온도 제어로 우수한 박막 균일성을 달성합니다.
결정 성장 6존 구배 제어를 활용하여 용융 또는 기상 단계에서 단결정 성장을 촉진합니다. 정확한 10°C/cm 구배를 통해 고순도 결과를 위한 제어된 결정화 속도를 구현합니다.
세라믹 소결 제어된 공기 또는 진공 환경에서 고급 세라믹 및 내화물의 고온 치밀화를 수행합니다. 1700°C 성능으로 가장 까다로운 기술 세라믹도 처리할 수 있습니다.
열 구배 시험 단일 축에서 가변 온도 조건으로 재료를 시험하여 구조 변화를 관찰합니다. 독립 존을 통해 실제 열 스트레스를 모사하는 복잡한 온도 프로파일을 구현할 수 있습니다.
어닐링 및 템퍼링 특수 합금과 반도체 웨이퍼의 열처리를 통해 내부 응력을 완화하고 기계적 특성을 조정합니다. 우수한 열 균일성으로 뒤틀림을 방지하고 일관된 구조적 안정성을 보장합니다.
고체상 합성 다단계 가열 사이클에서 배터리 양극/음극 재료의 소성 및 합성을 수행합니다. 넓은 처리 용량과 모듈식 튜브 옵션으로 다양한 배치 크기를 수용합니다.
대기 연구 질소, 아르곤 또는 산소와 같은 특정 가스 환경에서 재료 반응을 연구합니다. 수냉 플랜지와 기밀 씰이 높은 순도를 유지하고 오염을 방지합니다.

기술 사양

사양 항목 TU-81의 세부 매개변수
모델 식별자 TU-81
전기 입력 208-240 VAC, 3상, 50/60Hz, 100 A, 30 kVA (380V - 480V 옵션 제공)
최대 온도 1700°C (< 60분)
연속 작동 온도 800°C - 1600°C
진공 작동 온도 진공 조건에서 < 1450°C
가열 속도 < 10°C / 분
가열 존 6존: 200 + 200 + 300 + 300 + 200 + 200 mm
총 가열 길이 1400 mm
균일 온도 구역 길이 1000 mm @ ± 5°C (1400°C에서 존 동기화 시)
정온 구역 800 mm @ ± 5°C
열 구배 독립 존 프로그래밍을 통해 최대 10°C / cm 구현 가능
가열 요소 1800°C 등급 MoSi2 가열 요소
처리 튜브 알루미나 튜브 Ø60 mm (외경) × Ø51 mm (내경) × 1800 mm (길이)
진공 플랜지 수냉 진공 플랜지 1세트 포함
제어 시스템 6개의 PID 프로그래머블 컨트롤러, 각 50세그먼트
정확도 & 해상도 ± 1°C 정확도; 0.3°C 온도 해상도
열전대 B형
통신 인터페이스 RS485 직렬 포트; LabVIEW 기반 소프트웨어(MTS03) 포함
내부 압력 < 3 psig
외함 구조 통합 냉각 팬이 있는 이중층 연강 케이스
안전 기준 CE 인증; 요청 시 NRTL(UL61010) 또는 CSA 제공 가능

고온 1700C 6존 분할 튜브 퍼니스를 선택해야 하는 이유

  • 뛰어난 열적 유연성: 1700°C의 최고 성능과 6존 독립 제어의 조합으로, 연구자들은 하나의 장비에서 균일 가열과 복잡한 구배 프로파일을 매끄럽게 전환할 수 있습니다.
  • 입증된 신뢰성과 제작 품질: 고급 MoSi2 요소와 이중 셸 냉각 설계로 제작되어, 산업 R&D 및 제조에 필요한 강도 높은 사이클 타임을 견딜 수 있습니다.
  • 정밀 중심의 결과: 업계 최고 수준의 제어 정확도와 통합 LabVIEW 소프트웨어를 통해 사용자는 복잡한 열 레시피를 자동화하고 중요한 연구 문서의 데이터 무결성을 보장할 수 있습니다.
  • 모듈식 및 맞춤 대응 가능: 당사의 엔지니어링 팀은 특수 플랜지 구성부터 다양한 전원 규격까지 폭넓은 맞춤 옵션을 제공하여, 시스템이 기존 실험실 인프라와 완벽하게 통합되도록 합니다.
  • 포괄적인 규격 준수 및 지원: 각 장비는 CE 인증을 받았으며 UL 및 CSA 표준 옵션을 제공하고, 신속한 기술 지원팀이 최대 가동 시간과 운전 안전을 보장합니다.

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