제품 개요
이 고성능 열처리 시스템은 정밀한 대기 제어와 뛰어난 열 균일성이 필요한 첨단 재료 과학 연구 및 산업 R&D 응용을 위해 설계되었습니다. 분할 가능한 챔버 설계를 활용하여, 장비는 미리 정렬된 튜브 부품을 건드리지 않고도 시료에 빠르게 접근하고 복잡한 실험 설정을 원활하게 통합할 수 있습니다. 이 특정 장치는 최대 1200°C까지 작동하도록 설계되어, 고도의 합성이나 어닐링 공정에 필수적인 도구입니다.
이 시스템은 주로 반도체 제조, 금속공학 연구실, 나노기술 센터에서 사용되며, 이곳에서는 제어된 열 구배가 매우 중요합니다. 3존 구성은 상당한 가열 길이에 걸쳐 독립적인 온도 관리를 가능하게 하여, 연구자가 특정 성장 환경을 설정하거나 확장된 일정 온도 구간을 유지할 수 있는 유연성을 제공합니다. 이러한 적응성은 단순 소결부터 복잡한 화학 기상 증착(CVD) 워크플로까지 모든 작업을 처리할 수 있게 합니다.
까다로운 조건에서의 신뢰성을 위해 제작된 이 퍼니스는 이중층 강철 케이스와 고순도 섬유질 알루미나 단열재를 갖추고 있습니다. 냉각 팬이 포함되어 있어 작업자 안전을 위한 낮은 표면 온도를 유지하며, 견고한 발열체는 장기적인 일관성을 위해 설계되었습니다. 고진공 또는 특정 가스 분위기에서 작동하더라도, 이 장비는 고압 산업 환경에서 재현 가능한 과학적 결과에 필요한 안정성과 정밀성을 제공합니다.
주요 특징
- 독립형 다중 존 열 제어: 가열 챔버는 세 개의 개별 300mm 존으로 나뉘며, 각 존은 자체 디지털 컨트롤러로 관리되어 정밀한 열 구배 또는 625mm의 상당히 긴 일정 온도 구간을 생성할 수 있습니다.
- 고정밀 PID 제어: 3개의 마이크로프로세서 기반 자동 튜닝 PID 컨트롤러가 ±1°C의 정확도를 제공하여 안정적인 처리 온도를 보장하고 민감한 램프 사이클 동안 오버슈트를 방지합니다.
- 혁신적인 분할 챔버 구조: 분할 가능한 설계는 손쉬운 청소, 빠른 냉각, 간편한 튜브 교체를 가능하게 하며, 특히 섬세한 시료 배치를 포함하는 복잡한 실험 설정에 유리합니다.
- 향상된 대기 무결성: SS 304 스테인리스강 진공 밀봉 플랜지와 이중 고온 실리콘 O-링을 갖추어, 시스템은 높은 진공 수준(터보펌프 사용 시 최대 10-5 torr)을 유지하고 다양한 가스 환경을 지원합니다.
- 프리미엄 발열체: 몰리브덴이 도핑된 Fe-Cr-Al 합금 발열체를 사용하여, 최대 1100°C까지의 연속 운전에서 효율적인 열 전달과 뛰어난 내구성을 제공합니다.
- 견고한 안전 설계: 과열 보호 및 열전대 파손 경보가 통합되어 무인 운전이 가능하며, 분할 커버에는 퍼니스를 열 때 전원이 차단되도록 인터록 보호가 포함되어 있습니다.
- 에너지 효율적 단열: 고순도 섬유질 알루미나 단열재는 열 손실을 최소화하고 전력 소비를 줄이며, 냉각 팬이 장착된 이중층 강철 케이스는 안전한 외부 온도를 유지합니다.
- 정교한 프로그래밍: 각 온도 컨트롤러는 30개의 프로그램 세그먼트를 제공하여 사용자가 복잡한 가열, 냉각, 유지 프로파일을 정의해 정교한 재료 변화를 구현할 수 있습니다.
적용 분야
| 적용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 2D 재료 합성 | 특정 열 단계와 가스 유량을 사용한 Ta 및 Nb 도핑 MoS2 합성. | 에지 구조와 도핑 밀도를 정밀하게 제어. |
| 나노와이어 성장 | Ga2O3의 어닐링(400°C) 및 성장(700-860°C) 단계를 독립적으로 설정. | 촉매 합금화와 축 방향 성장 형태를 최적화. |
| 확산 어닐링 | Fe-Ni-Cu 합금의 1000°C 고온 균질화. | 열 균일성을 통해 확산 속도 편차를 제거. |
| 첨단 세라믹 소결 | 진공 또는 불활성 가스 하에서 세라믹 전구체의 제어된 열처리. | 산화를 방지하고 고밀도 재료 결과를 보장. |
| CVD / PECVD 공정 | 박막의 화학 기상 증착을 위한 열 반응기로 사용. | 전체 증착 구역에 걸쳐 안정적인 온도장 제공. |
| 금속공학 연구 | 빠른 냉각과 정밀한 유지 시간이 필요한 상변태 연구. | 분할 설계로 빠른 담금질과 쉬운 시료 제거 가능. |
| 반도체 도핑 | 제어된 순도 조건에서 실리콘 웨이퍼 또는 기타 기판으로의 도펀트 확산. | 고급 석영 및 SS 플랜지로 유지되는 청정 환경. |
기술 사양
| 매개변수 | TU-36-80 | TU-36-101 | TU-36-125 |
|---|---|---|---|
| 석영 튜브 크기(외경 x 내경 x 길이) | 80 x 72 x 1400 mm | 101 x 92 x 1400 mm | 130 x 120 x 1400 mm |
| 최대 가열 온도 | 1200°C | 1200°C | 1200°C |
| 연속 온도 | 1100°C | 1100°C | 1100°C |
| 최대 온도(진공) | 1000°C | 1000°C | 1000°C |
| 가열 구역 길이 | 900 mm (300mm x 3) | 900 mm (300mm x 3) | 900 mm (300mm x 3) |
| 일정 온도 구간 | 625 mm (25") | 625 mm (25") | 625 mm (25") |
| 온도 정확도 | ± 1°C | ± 1°C | ± 1°C |
| 가열 속도(최대) | 20°C / min | 20°C / min | 20°C / min |
| 전압 | 208-240V 단상 | 208-240V 단상 | 208-240V 단상 |
| 최대 전력 | 7.0 KW | 7.0 KW | 7.0 KW |
| 온도 컨트롤러 | 3x 30세그먼트 PID | 3x 30세그먼트 PID | 3x 30세그먼트 PID |
| 진공 수준 | 10-2 ~ 10-5 Torr | 10-2 ~ 10-5 Torr | 10-2 ~ 10-5 Torr |
| 플랜지 재질 | SS 304 | SS 304 | SS 304 |
| 통신 | RS-485 | RS-485 | RS-485 |
| 규격 준수 | CE 인증 | CE 인증 | CE 인증 |
왜 우리의 3존 분할 튜브 퍼니스를 선택해야 하나요
- 검증된 열 균일성: 3개의 독립 제어 가열 구역을 활용하여, 이 시스템은 단일 구역 대안보다 훨씬 더 길고 안정적인 균일 온도 영역을 제공하여 대량 배치에서도 일관된 결과를 보장합니다.
- 산업용 신뢰성: 프리미엄 Fe-Cr-Al 발열체와 이중벽 강철 섀시로 제작되어 24/7 산업 및 연구 운영에 적합하며, 장기 내구성을 통해 낮은 총소유비용을 제공합니다.
- 정밀 엔지니어링: 마이크로프로세서 기반 자동 튜닝 PID 컨트롤러의 통합으로 가장 복잡한 30세그먼트 열 프로파일도 ±1°C 정확도로 실행되어 고순도 합성에 필수적입니다.
- 다목적 통합: PC 제어, Eurotherm 컨트롤러, 다양한 진공 펌프 구성에 대한 옵션 업그레이드를 통해 이 퍼니스는 어떤 재료 과학 워크플로의 특정 요구사항에도 맞게 맞춤 구성할 수 있습니다.
- 안전 및 규격 준수: 표준 기능에는 과열 경보, 열전대 고장 보호, CE 인증이 포함되어 있어 장비가 실험실 사용을 위한 국제 안전 기준을 충족합니다.
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1200°C 고온 5인치 분할형 진공 튜브 퍼니스 (12인치 가열 구간 및 분리형 PID 컨트롤러 포함)
이 고성능 1200°C 분할형 진공 튜브 퍼니스로 정밀한 열처리를 구현하십시오. 대형 5인치 석영 튜브, 12인치 가열 구간, 분리형 PID 컨트롤러를 갖춘 이 NRTL 인증 시스템은 첨단 재료 연구 및 산업 R&D 분야에서 신뢰할 수 있는 결과를 보장합니다.
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