제품 개요


이 고성능 3존 튜브 퍼니스는 재료 과학 연구 및 산업 R&D의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계된 열처리 기술의 정점입니다. 24인치 구간에 걸쳐 독립적으로 제어되는 3개의 가열 구역을 활용함으로써, 연구원들에게 열 구배 및 핫존 안정성에 대한 탁월한 제어 기능을 제공합니다. 이 시스템의 핵심 가치는 극도의 재현성으로 복잡한 화학 기상 증착(CVD) 및 어닐링 공정을 용이하게 하여, 실험 결과가 실험실에서 파일럿 생산까지 일관되고 확장 가능하도록 보장하는 데 있습니다.
주로 반도체 제조, 야금 및 첨단 세라믹 분야에서 사용되는 이 장치는 전기 촉매 응용 분야를 위한 이황화 몰리브덴의 가장자리 구조 조정과 같은 2D 재료 합성에 특히 효과적입니다. 분할 가능한 설계와 힌지형 플랜지 메커니즘은 공정 챔버에 대한 빠른 접근을 가능하게 하여 샘플 로딩 및 언로딩 시 가동 중지 시간을 크게 줄여줍니다. 이는 운영 효율성이 열 정밀도만큼 중요한 고처리량 환경에 이상적인 선택입니다.
까다로운 조건에서도 신뢰성을 발휘하도록 설계된 이 시스템은 견고한 이중 레이어 강철 하우징과 고급 공랭식 기술을 특징으로 합니다. 이러한 구조는 내부 온도가 최대 1200°C에 도달하더라도 외부 표면은 안전하게 유지되어 안정적인 실험실 환경을 보장합니다. 고순도 섬유질 알루미나 단열재와 정교한 PID 마이크로프로세서 제어의 통합은 산업 등급의 내구성과 과학 등급의 정확도를 갖춘 도구를 제공하겠다는 당사의 약속을 강조합니다.
주요 특징
- 독립적인 3존 가열: 총 24인치의 가열 길이는 3개의 별도 세그먼트(6"+12"+6")로 나뉘며, 각 세그먼트는 전용 열전대와 PID 컨트롤러에 의해 제어됩니다. 이 구성을 통해 정밀한 온도 구배를 생성하거나 최대 480mm까지 확장되는 초균일 정온 구역을 만들 수 있습니다.
- 힌지형 플랜지 빠른 접근: 장비 양쪽 끝에는 특수 힌지형 스테인리스 스틸 플랜지가 장착되어 있습니다. 이 설계는 샘플 회수 시 복잡한 분해 과정을 없애주며, 작업자가 플랜지를 빠르게 열어 효율적으로 로딩할 수 있게 하고 닫았을 때는 고진공 상태를 유지하는 밀폐력을 제공합니다.
- 고급 PID 마이크로프로세서 제어: 각 구역은 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 갖춘 마이크로프로세서 기반의 자가 튜닝 PID 컨트롤러를 사용합니다. 이는 승온 중 오버슈팅을 방지하고 ±1°C의 정상 상태 정확도를 유지하여 민감한 소결 및 확산 공정에 필수적입니다.
- 고진공 호환성: KF25D 어댑터와 정밀 디지털 진공 게이지가 장착된 이 시스템은 기계식 펌프로 10^-2 Torr, 분자 펌프로 10^-5 Torr까지 진공 수준에 도달할 수 있어 깨끗한 무산소 공정 환경을 제공합니다.
- 향상된 단열 성능: 내부는 에너지 절약형 고순도 알루미나 섬유 단열재로 라이닝되어 있습니다. 이 소재는 전력 소비를 줄일 뿐만 아니라 열 질량을 최소화하여 최대 20°C/min의 빠른 가열 속도와 컨트롤러 조정에 대한 향상된 반응성을 제공합니다.
- 통합 안전 및 냉각: 이중 레이어 강철 케이스는 2개의 고효율 팬으로 구동되는 공랭식 갭을 생성합니다. 이 능동 냉각 시스템은 퍼니스 외부의 열 축적을 방지하여 작업자와 주변의 민감한 전자 장치를 열 손상으로부터 보호합니다.
- 다양한 분위기 대응: 다양한 불활성 및 환원 가스와 함께 사용하도록 설계되었으며, 니들 밸브와 1/4" 파이프 커넥터가 포함되어 있습니다. 이를 통해 압력이 0.12 MPa 미만으로 유지되는 한 어닐링 또는 대기 합성 중 정밀한 가스 흐름 관리가 가능합니다.
- 원격 모니터링 기능: 이 시스템은 RS485 통신 포트를 기본으로 포함하며, 선택 사항으로 LabView 기반 소프트웨어 모듈을 사용할 수 있습니다. 이를 통해 PC 기반 데이터 로깅, 레시피 관리 및 원격 작동이 가능하여 품질 관리 산업 공정에 대한 완벽한 추적성을 보장합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 2D 재료 합성 | Ta 및 Nb 도핑된 MoS2 및 기타 전이 금속 디칼코게나이드 합성. | 최적의 결정 성장을 위한 정밀한 구배 제어. |
| 반도체 어닐링 | 최대 4인치 직경의 실리콘 웨이퍼 고온 처리. | 우수한 균일성(±1°C)으로 열 응력 결함 방지. |
| CVD / PECVD | 박막 및 나노튜브 생산을 위한 화학 기상 증착. | 일관된 화학 반응을 위한 안정적인 핫존. |
| 배터리 재료 R&D | 제어된 분위기 하에서 양극 및 음극 분말 소결. | 고순도 환경으로 재료 오염 방지. |
| 촉매 테스트 | 흐르는 가스 환경에서 산업용 촉매의 열 활성화. | 성능 벤치마킹을 위한 재현 가능한 램프/드웰 사이클. |
| 진공 야금 | 진공 상태에서 고순도 금속 합금의 용해 및 열처리. | 산화 방지 및 재료 무결성 보장. |
| 세라믹 소결 | 최대 1200°C 온도에서 기술 세라믹 부품 통합. | 빠른 가열 및 냉각 사이클로 처리량 향상. |
기술 사양
| 매개변수 | 품목 번호: TU-35 상세 정보 |
|---|---|
| 퍼니스 구조 | 냉각 팬이 있는 이중 레이어 강철 케이스; 에너지 절약형 고순도 섬유질 알루미나 단열재 |
| 정격 전압 | AC 208-240V 단상, 50/60 Hz (40A 차단기 필요) |
| 최대 소비 전력 | 6.0 KW |
| 가열 요소 | Mo 도핑된 Fe-Cr-Al 합금 |
| 총 가열 구역 길이 | 총 610mm (24") |
| 구역 구성 | Z1: 152.4mm (6") / Z2: 304.8mm (12") / Z3: 152.4mm (6") |
| 균일 온도 구역 (±1ºC) | 260 mm |
| 균일 온도 구역 (±2ºC) | 480 mm |
| 최대 온도 (가스 흐름 시) | 1200°C |
| 연속 온도 (가스 흐름 시) | 1100°C |
| 최대 온도 (진공 시) | 1000°C |
| 최대 가열 속도 | 20°C / min |
| 온도 정확도 | ± 1ºC |
| 온도 컨트롤러 | 자가 튜닝 기능이 있는 3개의 30세그먼트 프로그래밍 가능 PID 컨트롤러 |
| 열전대 | 3개의 K-타입 열전대 |
| 진공 수준 | 10^-2 Torr (기계식 펌프); 10^-5 Torr (분자 펌프) |
| 진공 플랜지 | 힌지형; 좌측: 디지털 게이지 포함 KF25D; 우측: SS 니들 밸브 |
| 변형 모델: TU-35-80 | 튜브 크기: 80mm O.D x 72mm I.D x 1200mm L (최대 2" 웨이퍼) |
| 변형 모델: TU-35-4 | 튜브 크기: 101mm O.D x 92mm I.D x 1200mm L (최대 3" 웨이퍼) |
| 변형 모델: TU-35-5 | 튜브 크기: 130mm O.D x 122mm I.D x 1200mm L (최대 4" 웨이퍼) |
| 규정 준수 | CE 인증; 요청 시 NRTL 또는 CSA 가능 |
이 3존 튜브 퍼니스를 선택해야 하는 이유
- 우수한 열 관리: 3존 아키텍처는 정밀한 열 프로파일을 생성할 수 있는 유연성을 제공하며, 이는 첨단 재료 합성 및 섬세한 기판의 열충격 방지에 필수적입니다.
- 운영 수명을 고려한 설계: 몰리브덴이 도핑된 고등급 Fe-Cr-Al 가열 요소와 프리미엄 섬유질 알루미나로 제작되어 최소한의 유지 보수 요구 사항으로 지속적인 산업용 사용이 가능합니다.
- 정밀도 및 안전성: UL 표준 준수 및 과열 및 열전대 단선에 대한 내장 보호 기능을 갖추어 무인 야간 작업 및 고위험 연구에서도 안심할 수 있습니다.
- 턴키 진공 통합: 표준 퍼니스와 달리 이 장치는 힌지형 플랜지와 디지털 진공 모니터링 기능이 장착되어 있어 추가 엔지니어링 없이 진공 기반 워크플로우에 즉시 통합할 수 있습니다.
- 확장 가능한 맞춤화: PC 제어 모듈 및 LabView 호환성부터 다양한 튜브 크기 옵션 및 분자 펌프 업그레이드에 이르기까지, 귀하의 실험실의 특정 처리량 및 정밀도 요구 사항을 충족하도록 시스템을 맞춤화할 수 있습니다.
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