제품 개요
이 고성능 3구역 튜브로는 첨단 재료 과학 연구 및 산업 생산을 위한 최고의 열처리 유연성을 제공하도록 설계되었습니다. 독립적으로 제어되는 3개의 가열 섹션을 활용하여 훨씬 더 길고 안정적인 등온 구역을 생성하거나, 복잡한 화학 기상 증착(CVD) 및 승화 공정에 필요한 정밀한 온도 구배를 설정할 수 있습니다. 수평 구성과 정교한 이중 쉘 하우징이 결합되어 중앙 구역에서 최대 1700°C의 내부 온도를 유지하면서도 외부 표면은 만져도 안전한 온도를 유지합니다.
까다로운 실험실 및 산업 환경을 위해 설계된 이 시스템은 대학, 연구소 및 광업 기업을 위한 주요 선택지입니다. 고온 소결, 진공 어닐링 및 제어된 분위기 실험에 탁월합니다. 고순도 다결정 알루미나 섬유 단열재와 고급 가열 요소의 통합은 빠른 가열 및 냉각 속도를 제공하여 처리량과 에너지 효율성을 크게 향상시킵니다. 이 장치는 일관되고 반복 가능한 결과를 제공하도록 제작되어 중요한 연구 데이터와 생산 배치가 가장 엄격한 품질 표준을 충족하도록 보장합니다.
신뢰성은 이 열처리 시스템의 핵심입니다. 스테인리스 스틸 진공 플랜지부터 정밀 PID 컨트롤러에 이르기까지 모든 구성 요소는 지속적인 작동 하에서 장기적인 내구성을 위해 선택되었습니다. 견고한 설계는 10-3 Pa까지의 진공 수준을 처리하며 환원성 및 불활성 가스를 포함한 다양한 분위기를 지원합니다. 일상적인 열처리를 수행하든 복잡한 재료 합성을 수행하든, 이 장비는 고위험 연구 개발에 필요한 기술적 정밀도와 구조적 무결성을 제공합니다.
주요 특징
- 독립 제어형 3구역 가열: 이 장비는 서로 다른 온도로 설정할 수 있는 3개의 개별 가열 섹션을 특징으로 합니다. 이를 통해 사용자는 튜브 끝부분의 열 손실을 보상하여 초광폭 등온 필드나 증기 수송 응용 분야를 위한 맞춤형 열 구배를 생성할 수 있습니다.
- 고급 이중 요소 구성: 넓은 온도 범위에서 최적의 성능을 달성하기 위해, 이 시스템은 외부 구역(1구역 및 3구역)에는 고품질 탄화규소(SiC) 로드를, 중앙 구역(2구역)에는 고순도 규소 몰리브덴(MoSi2) 로드를 사용하여 최대 1700°C까지 안정적인 작동을 가능하게 합니다.
- 정밀 소프트웨어 제어 시스템: 일본 Shimaden FP93 프로그래밍 가능 온도 조절기가 장착되어 40단계의 온도 제어를 제공합니다. 통합 통신 인터페이스를 통해 실시간 PC 모니터링, 데이터 로깅 및 곡선 플로팅이 가능하여 열 사이클의 완벽한 추적성을 보장합니다.
- 고성능 진공 밀폐: 이 로는 이중층 실리콘 O-링 기술과 스테인리스 스틸 플랜지를 사용하여 뛰어난 기밀성을 유지합니다. 이 시스템은 12시간 이상 진공 압력을 유지하도록 설계되어 고진공 수준에서 민감한 공정을 지원합니다.
- 우수한 단열 성능: 챔버는 높은 반사율, 낮은 열 질량 및 수축 저항성으로 알려진 프리미엄 알루미나 다결정 섬유로 라이닝되어 있습니다. 이는 균형 잡힌 온도 필드를 보장하고 분말 날림을 방지하여 처리 환경의 순도를 유지합니다.
- 포괄적인 안전 보호 장치: 내장된 트래블 스위치는 로 덮개가 열리면 자동으로 전원을 차단합니다. 또한, 장치에는 작업자와 내부 구성 요소를 보호하기 위한 누전 보호, 과열 경보 및 자동 회로 차단 기능이 포함되어 있습니다.
- 강력한 가스 처리: 이 시스템에는 정밀한 가스 공급을 위한 표준 플로트 유량계가 포함되어 있습니다. 사용자는 CVD 또는 환원 공정 중에 자동화되고 더 정확한 분위기 관리를 위해 디지털 질량 유량 컨트롤러(양성자 유량계)로 업그레이드할 수 있습니다.
- 위상 변이 트리거 사이리스터 제어: 이 고급 전력 조절 방식은 가열 요소에 원활한 전력을 공급하여 수명을 연장하고, 표준 온/오프 스위칭 방식보다 더 안정적인 온도 전환을 제공합니다.
- 구조적 내구성: 특수 플랜지 브래킷을 포함하여 진공 하드웨어의 무게로 인한 커런덤 공정 튜브의 기계적 응력을 제거함으로써 소모품의 수명을 크게 연장합니다.
- 다양한 플랜지 인터페이스: 표준 스테인리스 스틸 플랜지에는 진공 게이지, KF25 벨로우즈 및 가스 밸브용 포트가 장착되어 있어 다양한 실험 요구 사항에 맞는 모듈식 시스템 구성이 가능합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 화학 기상 증착 (CVD) | 가스상 전구체를 사용한 탄소 나노튜브, 그래핀 및 박막 합성. | 기판 전반에 걸친 가스 분해 및 증착 속도에 대한 정밀 제어. |
| 확산 어닐링 | 내부 응력을 제거하기 위한 Fe-Ni-Cu 및 기타 고급 합금의 1000°C 균질화. | 탁월한 균일성으로 확산 속도 편차를 방지하고 구조적 일관성 보장. |
| 탄소 나노튜브 접목 | 복합 재료 강화를 위해 대규모 탄소 섬유 다발에 나노튜브 성장. | 섬유 다발 전체 길이에 걸쳐 최적의 촉매 온도 유지. |
| 질소 도핑 | 반도체 재료나 탄소 구조체에 질소 원자를 정밀하게 도입. | 독립적인 구역 제어로 맞춤형 도핑 비율 및 반응 속도론 구현 가능. |
| 진공 소결 | 고순도, 무공기 환경에서 세라믹 또는 금속 분말의 고형화. | 산화를 방지하고 최종 소결 부품의 밀도와 순도 향상. |
| 분위기 열처리 | 환원성(예: 수소) 또는 불활성(예: 아르곤) 가스 환경에서 재료 처리. | 안전한 밀폐 및 유량 제어로 안전하고 안정적인 분위기 조건 유지. |
| 고온 등온 테스트 | 일정한 온도에서 재료의 장기 열 안정성 테스트. | 3구역 설정으로 끝부분 냉각 손실을 제거하여 더 긴 유효 로 중심부 제공. |
| 결정 성장 | 증기 수송 또는 브리지먼 방식 결정 성장을 위한 온도 구배 활용. | 매우 안정적이고 조절 가능한 열 구배로 고품질 결정 형성 촉진. |
기술 사양
| 매개변수 | TU-GS06-I | TU-GS06-II | TU-GS06-III |
|---|---|---|---|
| 최대 온도 | 1구역: 1400°C / 2구역: 1700°C / 3구역: 1400°C | 1구역: 1400°C / 2구역: 1700°C / 3구역: 1400°C | 1구역: 1400°C / 2구역: 1700°C / 3구역: 1400°C |
| 정격 온도 | 1구역: 1350°C / 2구역: 1700°C / 3구역: 1350°C | 1구역: 1350°C / 2구역: 1700°C / 3구역: 1350°C | 1구역: 1350°C / 2구역: 1700°C / 3구역: 1350°C |
| 튜브 치수 (외경x길이) | 직경 60mm x 1500mm | 직경 80mm x 1500mm | 직경 100mm x 1500mm |
| 가열 요소 | Z1/Z3: SiC 로드; Z2: MoSi2 로드 | Z1/Z3: SiC 로드; Z2: MoSi2 로드 | Z1/Z3: SiC 로드; Z2: MoSi2 로드 |
| 열전대 유형 | S-타입 (Z1/Z3) / B-타입 (Z2) | S-타입 (Z1/Z3) / B-타입 (Z2) | S-타입 (Z1/Z3) / B-타입 (Z2) |
| 정격 전력 | 10 KW | 10 KW | 10 KW |
| 전압 / 상 | 380V / 3상 | 380V / 3상 | 380V / 3상 |
| 가열 속도 | 권장 ≤10°C/분 (최대 ≤20°C/분) | 권장 ≤10°C/분 (최대 ≤20°C/분) | 권장 ≤10°C/분 (최대 ≤20°C/분) |
| 제어 정밀도 | ± 1 ℃ | ± 1 ℃ | ± 1 ℃ |
| 가열 길이 | 구역당 210mm | 구역당 210mm | 구역당 210mm |
| 등온 길이 | 구역당 80-100mm | 구역당 80-100mm | 구역당 80-100mm |
| 챔버 재질 | 다결정 알루미나 섬유 | 다결정 알루미나 섬유 | 다결정 알루미나 섬유 |
| 트리거 유형 | 위상 변이 트리거 | 위상 변이 트리거 | 위상 변이 트리거 |
| 진공 수준 (표준) | 약 10 Pa (2XZ-2 펌프) | 약 10 Pa (2XZ-2 펌프) | 약 10 Pa (2XZ-2 펌프) |
| 진공 수준 (고진공) | 최대 10-3 Pa (분자 시스템) | 최대 10-3 Pa (분자 시스템) | 최대 10-3 Pa (분자 시스템) |
| 컨트롤러 | Shimaden FP93 (40개 프로그램) | Shimaden FP93 (40개 프로그램) | Shimaden FP93 (40개 프로그램) |
| 표면 온도 | ≤ 45℃ | ≤ 45℃ | ≤ 45℃ |
이 3구역 로를 선택해야 하는 이유
- 우수한 열 균일성: 3개의 개별 가열 구역을 독립적으로 조정할 수 있어 튜브 끝부분의 자연적인 열 방출을 보상하며, 단일 구역 대안보다 훨씬 더 넓고 정확한 등온 처리 영역을 제공합니다.
- 정밀 엔지니어링 및 빌드 품질: SEMIKRON 사이리스터부터 일본 Shimaden 컨트롤러에 이르기까지, 모든 주요 전기 구성 요소는 장기적인 작동 신뢰성과 정밀도를 보장하기 위해 업계 최고의 제조업체에서 조달합니다.
- 통합 안전 및 모니터링: 기계적 안전 스위치, 누전 보호 및 실시간 PC 소프트웨어 모니터링의 조합은 고온 실험을 위한 안전한 환경을 조성하여 장비 고장이나 샘플 손실의 위험을 줄입니다.
- 맞춤형 분위기 및 진공 옵션: 일상적인 진공을 위한 기계식 펌프가 필요하든 고순도 환경을 위한 독일 수입 분자 펌프가 필요하든, 이 시스템은 귀하의 정확한 사양을 충족하도록 특정 진공 시스템 및 가스 유량 컨트롤러로 맞춤화할 수 있습니다.
- 향상된 소모품 수명: 당사의 고유한 플랜지 지지 브래킷 시스템은 스테인리스 스틸 밀폐 하드웨어의 무게를 지탱하여 커런덤 튜브 손상을 방지합니다. 이는 저품질 설계에서 흔히 발생하는 고장 원인입니다.
이 장비는 귀하의 시설 열처리 역량에 대한 프리미엄 투자이며, 산업용 R&D의 가혹한 환경을 견디면서도 타의 추종을 불허하는 정밀도를 제공하도록 설계되었습니다. 공식 견적을 받거나 특정 재료 과학 응용 분야를 위한 맞춤형 구성을 논의하려면 지금 당사 엔지니어링 팀에 문의하십시오.
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