대형 웨이퍼 처리를 위한 8.5~11인치 외경 석영 튜브 및 진공 플랜지가 포함된 1100°C 3존 튜브 퍼니스

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대형 웨이퍼 처리를 위한 8.5~11인치 외경 석영 튜브 및 진공 플랜지가 포함된 1100°C 3존 튜브 퍼니스

품목 번호: TU-39

최대 연속 온도: 1100°C 가열 구성: 3존 (300mm + 300mm + 300mm) 표준 튜브 직경 범위: 8.5" ~ 11" 외경 석영
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제품 개요

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이 고용량 열처리 시스템은 대규모 반도체 웨이퍼 처리, 첨단 재료 연구 및 산업용 열처리를 위해 특별히 설계되었습니다. 대구경 석영 튜브와 결합된 대형 3존 가열 구성을 통해 민감한 화학 기상 증착(CVD)이나 어닐링 사이클에 필요한 열 정밀도를 유지하면서도 넓은 처리 용량을 제공합니다. 이 장비는 1100°C에서 연속 작동하도록 설계되어, 반복 가능한 결과와 고순도 분위기를 요구하는 고처리량 실험실 환경 및 파일럿 생산 라인에 강력한 플랫폼을 제공합니다.

반도체, 항공우주 및 에너지 저장 분야를 겨냥한 이 장비는 웨이퍼 확산부터 촉매 재료의 구조적 최적화에 이르기까지 다양한 응용 분야에서 탁월한 성능을 발휘합니다. 3존 설계는 정밀한 열 구배를 생성하거나 상당히 확장된 균일 가열 구역을 제공하며, 이는 더 큰 기판이나 여러 샘플을 동시에 처리하는 데 매우 중요합니다. 이러한 다재다능함 덕분에 이 시스템은 벤치탑 실험에서 산업용 프로토타입으로 재료 합성을 확장하려는 시설의 핵심 장비가 됩니다.

신뢰성을 최우선으로 설계된 이 퍼니스는 이중층 강철 케이싱과 첨단 섬유질 알루미나 단열재를 사용하여 작동 안전성과 에너지 효율성을 보장합니다. 수냉식 스테인리스 스틸 밀폐 플랜지를 포함하여 고진공 작동 및 제어된 분위기 처리가 가능하며, 가장 까다로운 야금 또는 화학 공정도 안정적이고 깨끗한 환경 내에서 수행할 수 있습니다. 이 시스템은 엄격한 R&D 일정 속에서도 장기적인 성능을 제공하는 내구성에 상당한 투자를 한 결과물입니다.

주요 특징

  • 독립적인 3존 열 제어: 이 시스템은 각각 300mm 길이의 3개 가열 구역을 갖추고 있으며, 개별 PID 프로그래밍 가능 컨트롤러로 제어됩니다. 이를 통해 총 900mm(약 35.4인치)의 가열 길이를 제공하며, 600mm의 정온 구역을 설정하거나 특수 증기 수송 공정에 필요한 복잡한 열 구배를 유연하게 구성할 수 있습니다.
  • 대형 석영 튜브 통합: 외경 8.5인치(216mm)에서 11인치(279mm)에 이르는 석영 튜브를 수용할 수 있어 대형 웨이퍼 보트와 대형 산업용 부품을 처리할 수 있습니다. 이러한 고용량은 실험실 규모의 튜브 퍼니스에서는 드문 사양으로, 소규모 연구와 본격적인 산업 생산 사이의 간극을 메워줍니다.
  • 고성능 FeCrAl 발열체: 고품질 철-크롬-알루미늄(FeCrAl) 저항선이 내화성 섬유질 알루미나 단열재 내부에 전략적으로 매립되어 있습니다. 이 발열체는 산화 및 열 피로에 대한 뛰어난 저항성 덕분에 최대 작동 온도까지 자주 사이클을 반복해도 긴 수명을 보장합니다.
  • 첨단 밀폐 진공 씰링: 퍼니스에는 힌지 스타일의 수냉식 스테인리스 스틸 플랜지 한 쌍이 장착되어 있습니다. 이 플랜지에는 진공 게이지, 니들 밸브, KF40 포트가 통합되어 있어 기계식 펌프로 최대 5e-2 torr의 진공도를 달성할 수 있으며, 옵션인 터보 펌핑 시스템을 사용하면 더 높은 진공도도 가능합니다.
  • 우수한 단열 및 안전성: 공랭식 통합 이중층 강철 케이싱은 최대 작동 중에도 외부 표면 온도를 70°C 미만으로 유지합니다. 고순도 알루미나 섬유 단열재는 열 손실을 최소화하고 전력 소비를 줄이는 동시에 최대 10°C/min의 빠른 가열 및 냉각 속도를 유지합니다.
  • 정밀 PID 계측: 각 구역은 듀얼 K-타입 열전대로 모니터링되며, +/- 1°C 정확도의 30세그먼트 프로그래밍 가능 컨트롤러로 관리됩니다. 이러한 제어 수준은 열 오버슈트를 방지하고 장시간 어닐링 또는 확산 단계에서 섬세한 기판의 무결성을 보장하는 데 필수적입니다.
  • 강력한 가스 처리 기능: 플랜지 어셈블리에는 스테인리스 스틸 니들 밸브와 퀵 커넥트 포트가 포함되어 있어 불활성 또는 반응성 가스를 쉽게 도입할 수 있습니다. 이는 가스 흐름과 압력을 엄격하게 유지해야 하는 분위기 제어 공정에 이상적입니다.
  • 웨이퍼 처리 최적화: 옵션인 석영 배플 블록과 특수 웨이퍼 보트(대형 튜브 변형의 경우 최대 8인치)를 지원하여 반도체 어닐링, 산화 및 확산 공정을 위한 턴키 솔루션을 제공합니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
반도체 웨이퍼 어닐링 결정 결함을 복구하고 도펀트를 활성화하기 위한 실리콘 또는 화합물 반도체 웨이퍼의 고온 처리. 대구경(최대 11인치)에 걸친 우수한 균일성으로 일관된 전기적 특성 보장.
촉매 재료 합성 1100°C에서 질소 도핑된 탄소 및 Co-N 클러스터 사이트의 구조적 정렬 및 흑연화 촉진. 향상된 안정성과 활성 사이트의 균일한 분포로 한계 전류 값 개선.
대기압 CVD 제어된 가스 흐름과 고온을 사용하여 다양한 기판에 박막을 증착하는 화학 기상 증착. 정밀한 3존 제어로 전구체 반응을 유도하는 데 필요한 온도 구배 형성 가능.
대규모 분말 하소 대량의 산업용 분말에서 재료의 열분해 또는 휘발성 성분 제거. 대용량 석영 튜브를 사용하여 표준 실험실 퍼니스 대비 배치당 처리량 대폭 향상.
전고체 배터리 연구 제어된 진공 또는 불활성 조건 하에서 세라믹 전해질 및 전극 재료 소결. 밀폐 씰링으로 오염을 방지하고 고순도 재료 개발 보장.
항공우주 재료 테스트 비행 조건을 시뮬레이션하기 위해 첨단 합금 및 복합재를 고온 산화 환경에 노출. 신뢰할 수 있는 1100°C 연속 작동으로 장기 피로 테스트에 필요한 내구성 제공.
탄소 나노튜브 성장 촉매 기판 위에서 탄화수소 가스의 열분해를 통한 대규모 CNT 합성. 확장된 균일 가열 구역(600mm)으로 실행당 고품질 나노튜브 수율 극대화.

기술 사양

매개변수 TU-39-8.5 TU-39-11
석영 튜브 치수 216 외경 x 206 내경 x 1300mm 길이 (8.5" x 8.1" x 51") 279 외경 x 269 내경 x 1300mm 길이 (11" x 10.6" x 51")
최대 웨이퍼 보트 크기 6인치 웨이퍼 보트 8인치 웨이퍼 보트
전력 요구 사항 208-240VAC, 1상, 50/60 Hz, 40 A 208-240VAC, 1상, 50/60 Hz, 40 A
최대 온도 1200°C (1시간 미만) 1200°C (1시간 미만)
연속 작동 온도 1100°C 1100°C
가열 길이 900 mm (총합) / 300mm + 300mm + 300mm 900 mm (총합) / 300mm + 300mm + 300mm
균일 구역 길이 600 mm (+/- 3°C @ 800°C) 600 mm (+/- 3°C @ 800°C)
가열/냉각 속도 최대 10°C/min 최대 10°C/min
온도 제어 3개 PID 컨트롤러, 30 세그먼트 3개 PID 컨트롤러, 30 세그먼트
제어 정확도 +/- 1°C +/- 1°C
열전대 유형 구역당 듀얼 K-타입 구역당 듀얼 K-타입
진공 플랜지 수냉식 스테인리스 스틸 (힌지형) 수냉식 스테인리스 스틸 (힌지형)
진공도 < 5e-2 torr (기계식 펌프) < 5e-2 torr (기계식 펌프)
최대 압력 ≤ 3 psig ≤ 3 psig
쉘 구조 공랭식 이중층 강철 공랭식 이중층 강철
냉각수 요구 사항 >16 L/min, 5-30 °C, <80 psig >16 L/min, 5-30 °C, <80 psig

이 3존 튜브 퍼니스를 선택해야 하는 이유

  • 산업용 처리량: 11인치 외경 튜브 용량과 900mm 가열 길이의 드문 조합으로, 일반적으로 산업용 장비가 필요한 대형 기판이나 대량의 재료를 처리할 수 있습니다.
  • 정밀 엔지니어링: 3존 PID 제어와 +/- 1°C의 정확도로 재현 가능한 재료 과학 및 반도체 제조에 필요한 열 안정성을 제공합니다.
  • 첨단 안전성 및 안정성: 이중벽 케이싱 설계와 수냉식 플랜지는 안전한 실험실 환경을 보장하며 고온 장시간 사이클 동안 시스템의 내부 씰을 보호합니다.
  • 고진공 무결성: 힌지형 밀폐 플랜지와 KF40 포트로 설계되어 5e-2 torr 수준의 진공도를 요구하는 고순도 공정에 적합하며, 클린룸 환경에서도 사용할 수 있습니다.
  • 맞춤형 제어 옵션: 표준 PID 구성 외에도 고급 레시피 편집 및 자동 데이터 로깅을 위해 Eurotherm 3000 시리즈 컨트롤러와 Labview 기반 소프트웨어로 업그레이드할 수 있습니다.

저희 기술 팀은 귀하의 R&D 또는 생산 요구 사항에 정확히 부합하도록 맞춤형 구성이나 특정 공정 요구 사항을 지원할 준비가 되어 있습니다. 상세 견적을 원하시거나 열처리 사양에 대해 논의하시려면 지금 바로 문의해 주십시오.

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