알루미나 튜브 및 수냉식 플랜지가 포함된 1700°C 고온 3존 튜브 퍼니스

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알루미나 튜브 및 수냉식 플랜지가 포함된 1700°C 고온 3존 튜브 퍼니스

품목 번호: TU-85

최대 온도: 1700 °C 가열 구역 구성: 3구역 (총 길이 610 mm) 온도 균일성: 300 mm @ 1600 °C
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제품 개요

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이 고온 3존 튜브 퍼니스는 재료 과학 및 산업 R&D를 위한 열처리 기술의 정점을 보여줍니다. 최대 1700°C의 작동 온도에 도달하도록 설계된 이 시스템은 연구원들에게 엄격하게 제어된 분위기에서 복잡한 열처리를 수행할 수 있는 능력을 제공합니다. 이 제품의 핵심 가치는 3존 가열 구조에 있으며, 이를 통해 열 구배를 전례 없이 정밀하게 제어할 수 있어 기존 단일 존 장치보다 훨씬 길고 안정적인 항온 구간을 보장합니다. 이러한 정밀도는 미세한 온도 변화가 실험의 무결성을 손상시킬 수 있는 중요한 공정에 필수적입니다.

이 장비는 첨단 반도체 나노와이어 성장, 특수 합금의 균질화, 기술 세라믹의 소결과 같은 고위험 응용 분야를 위해 특별히 설계되었습니다. 진공 및 다양한 가스 환경을 지원하는 다목적 플랫폼을 제공함으로써, 실험실에서 서로 다른 연구 프로토콜 간의 원활한 전환이 가능합니다. 주요 대상 산업으로는 항공우주, 마이크로일렉트로닉스, 재생 에너지 분야가 있으며, 이러한 분야에서는 현대적인 성능 기준을 충족하기 위해 극한 조건에서 재료를 테스트하고 개선해야 합니다.

지속적인 산업 및 실험실 사용의 엄격함을 견딜 수 있도록 설계된 이 시스템은 통합 공랭식 기술을 갖춘 견고한 이중 레이어 강철 케이스를 특징으로 합니다. 이러한 엔지니어링 선택은 내부 챔버가 극한 온도에 도달하더라도 외부 표면은 안전하게 유지되어 생산적이고 안전한 작업 환경을 보장합니다. 고순도 알루미나 단열재와 MoSi2 발열체를 사용하여 장기적인 작동 신뢰성과 일관된 성능을 제공하며, 모든 고온 연구 시설을 위한 기초적인 투자로서 자리매김하고 있습니다.

주요 특징

  • 독립적으로 제어되는 3존 가열: 이 시스템은 개별 PID 컨트롤러가 장착된 3개의 독립적인 가열 존(좌, 중, 우)을 활용합니다. 이 구성을 통해 맞춤형 열 프로파일을 생성하거나, 대량 배치 처리 또는 긴 형태의 결정 성장에 필수적인 300mm의 확장된 균일 온도 구간을 확보할 수 있습니다.
  • 고성능 MoSi2 발열체: 14개의 이규화 몰리브덴(MoSi2) 발열체가 장착되어 있어 빠른 가열 속도를 달성하고 1700°C까지 안정적인 온도를 유지합니다. 이 발열체는 고온 환경에서의 뛰어난 내산화성과 수명으로 선택되었습니다.
  • 정밀한 분위기 관리: 이 장치는 고품질 진공 씰링이 적용된 수냉식 스테인리스 스틸 플랜지를 특징으로 합니다. 통합된 1/4인치 가스 입/출구 및 KF25 진공 포트를 통해 사용자는 민감한 화학 기상 증착(CVD) 또는 어닐링 공정을 위한 밀폐 환경을 유지할 수 있습니다.
  • 탁월한 단열 성능: 고순도 섬유질 알루미나 단열재를 사용하여 열 손실을 최소화하고 에너지 효율을 극대화합니다. 이 첨단 단열 패키지는 빠른 승온 시간과 장시간 소킹(Soaking) 기간 동안 우수한 온도 안정성을 보장합니다.
  • 첨단 안전 및 냉각 시스템: 이중 벽 강철 하우징에는 외부 쉘을 70°C 이하로 유지하는 강제 공랭식 냉각 시스템이 포함되어 있습니다. 또한, 내장된 안전 인터락이 과열 및 열전대 고장으로부터 보호하여 장비와 작업자의 안전을 보장합니다.
  • 유연한 튜브 규격: 다양한 샘플 크기와 처리량 요구 사항을 수용하기 위해 외경 50mm, 60mm 또는 80mm의 고순도 알루미나 튜브를 지원합니다. 이러한 유연성을 통해 연구원은 특정 실험 형상에 맞춰 퍼니스를 최적화할 수 있습니다.
  • 프로그래밍 가능한 PID 컨트롤러: 3개의 존 각각은 정밀한 가열, 유지 및 냉각 사이클을 위해 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 제공하는 디지털 컨트롤러에 의해 관리됩니다. 이러한 자동화는 수동 개입을 줄이고 여러 실행에 걸쳐 반복 가능한 공정 결과를 보장합니다.
  • 정교한 진공 연결성: 푸시 투 커넥트(push-to-connect) 방식의 수냉 포트와 밸브 및 미터가 내장된 진공 씰링 플랜지를 포함하여, 진공 공정 중 빠른 설정과 내부 압력 상태의 정밀한 모니터링이 가능합니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
반도체 나노와이어 성장 3개 존에 걸쳐 특정 열 단계를 설정하여 산화갈륨(Ga2O3) 및 기타 나노와이어 성장을 촉진합니다. 우수한 형태 규칙성을 위해 촉매 합금화 및 축 방향 성장을 최적화합니다.
야금 어닐링 최대 1000°C 온도에서 Fe-Ni-Cu 합금의 균질화 및 확산 어닐링에 사용됩니다. 전체 샘플에 걸쳐 균일한 열 이력을 제공하여 확산 속도 편차를 제거합니다.
세라믹 소결 제어된 분위기에서 기술 세라믹 및 첨단 복합 재료를 고온 소성합니다. 정밀한 승온 및 유지 제어를 통해 일관된 밀도와 구조적 무결성을 보장합니다.
CVD / PECVD 공정 가스 흐름과 진공이 필요한 화학 기상 증착 실험을 위한 열 반응기로 사용됩니다. 오염을 방지하는 밀폐 씰링으로 안정적인 반응 환경을 제공합니다.
재료 열화 테스트 항공우주 또는 산업용 부품을 1650°C 이상의 환경에 지속적으로 노출합니다. 내구성 검증을 위해 높은 반복성으로 극한의 작동 조건을 시뮬레이션합니다.
결정 성장 고순도 결정을 합성하기 위한 기상 수송 및 방향성 응고 기술. 고품질 결정 형성에 필요한 온도 구배를 정밀하게 제어할 수 있습니다.

기술 사양

매개변수 그룹 사양 상세 TU-85 시리즈 값
최대 온도 일시적 (<1시간) 1700 °C
연속 온도 지속 작동 1650 °C
진공 온도 진공 조건 하 1500 °C
가열 존 구성 3개 존: 195mm (좌) / 220mm (중) / 195mm (우)
총 가열 길이 결합 존 610 mm
균일 구간 @ 1600 °C 300 mm
발열체 유형 및 수량 14개 MoSi2 발열체
처리 튜브 재질 및 크기 99.8% 알루미나; 외경 Ø 50, 60, 또는 80 mm x 1200 mm
온도 제어 정밀도 및 세그먼트 ± 1 ºC; 존당 30개 프로그래밍 가능 세그먼트
열전대 센서 유형 B형 (Pt-Rh)
전원 요구 사항 전압 및 위상 208-240 VAC, 3상 (380-415 VAC 옵션)
전력 정격 최대 소비 전력 15 kVA / 50 A
진공 인터페이스 포트 유형 수냉식 스테인리스 스틸 플랜지가 포함된 KF25
가스 인터페이스 연결부 1/4" 압축 튜브 피팅
냉각 시스템 냉각 포트 물 입/출구를 위한 Ø12 mm 푸시 투 커넥트
안전 기능 보호 시스템 과열 방지; 열전대 단선 인터락; 공랭식 쉘
업그레이드 옵션 1800 °C 모델 Kanthal 1900°C 발열체 및 1900°C 알루미나 단열재로 제공 가능

고온 3존 튜브 퍼니스를 선택해야 하는 이유

  • 비교할 수 없는 열 정밀도: 3존 구조는 단부 열 손실을 보정하여 고정밀 재료 연구 및 산업적 확장에 필수적인 균일한 온도 필드를 제공합니다.
  • 프리미엄 엔지니어링 표준: 이규화 몰리브덴 발열체부터 수냉식 스테인리스 스틸 플랜지에 이르기까지, 모든 구성 요소는 극한의 열 및 화학적 스트레스를 견딜 수 있는 능력에 따라 선택되었습니다.
  • 설계에 의한 다재다능함: 공정에 고진공, 불활성 가스 블랭킷 또는 결정 성장을 위한 특정 열 구배가 필요한 경우, 이 시스템은 귀하의 기술적 요구 사항에 쉽게 적응합니다.
  • 입증된 장기 신뢰성: 고등급 알루미나 단열재와 이중 쉘 구조를 사용하여 구조적 피로를 방지하고 민감한 전자 부품을 보호함으로써 수년간의 서비스 동안 높은 투자 수익을 보장합니다.
  • 전문적인 맞춤화 및 지원: ± 0.1ºC 정밀도의 Eurotherm 컨트롤러와 원격 데이터 로깅 및 레시피 관리를 위한 Labview 기반 소프트웨어를 포함한 옵션 업그레이드를 제공합니다.

가장 까다로운 R&D 프로젝트에 일관성과 정밀도를 보장하는 열 솔루션에 투자하십시오. 상세 견적을 원하시거나 특정 공정 요구 사항에 맞춘 맞춤형 구성을 논의하려면 지금 기술 영업팀에 문의하십시오.

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