제품 개요
이 고용량 열처리 시스템은 재료 과학 실험실과 산업 연구개발 시설의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 하나의 소형 섀시에 4개의 독립 가열 채널을 통합함으로써 연구자들이 여러 고온 실험을 동시에 수행할 수 있도록 합니다. 이 다중 영역 기능은 재료 발견 및 공정 최적화 속도를 크게 높여 1700°C에 달하는 온도에서 합금, 세라믹 및 첨단 복합 재료의 고처리량 스크리닝에 필수적인 도구가 됩니다.
이 시스템은 실험실 공간이 부족한 환경에 특화되어 설계되었습니다. 4개의 퍼니스 모듈은 각각 독립적으로 작동하므로 교차 간섭 없이 병렬로 서로 다른 온도 프로필을 실행할 수 있습니다. 이러한 유연성은 비교 연구나 다양한 열 조건에서 여러 배치의 재료를 처리할 때 매우 중요합니다. 고순도 알루미나 튜브와 정밀 밀봉 플랜지가 포함되어 있어 제어된 분위기 또는 진공 환경에서 민감한 재료를 타협 없는 신뢰성으로 처리할 수 있습니다.
장기적인 작동 안정성을 위해 제작된 이 장치는 가동 중지 시간을 최소화하는 견고한 설계를 특징으로 합니다. 첨단 이규화몰리브덴(MoSi2) 가열 요소부터 포괄적인 안전 인터록 시스템에 이르기까지 모든 구성 요소는 고온 사이클의 응력을 견딜 수 있는 능력을 고려하여 선택되었습니다. 조달 팀과 실험실 관리자는 이 시스템이 일관되고 재현 가능한 결과를 제공한다고 신뢰할 수 있으며, 까다로운 산업 등급 부하 사이클에서도 중요한 연구 프로젝트가 일정에 맞고 기술 사양을 유지하도록 보장합니다.
주요 특징
- 4채널 병렬 처리: 시스템은 4개의 개별 퍼니스 모듈을 하나의 장치에 통합하여 독립 온도 제어로 4가지 실험을 동시에 수행할 수 있어 연구 처리량과 효율성을 극대화합니다.
- 정밀 MoSi2 가열 구조: 각 채널에는 4개의 고성능 이규화몰리브덴 가열 요소가 장착되어 시스템 전체에 총 16개가 있으며, 1700°C까지 빠른 가열 속도와 안정적인 열 환경을 보장합니다.
- 지능형 독립 제어: 중앙 집중식 터치스크린 인터페이스로 접근 가능한 4개의 개별 30세그먼트 PID 온도 컨트롤러가 ±1°C 범위 내에서 정밀한 조절을 제공하며, 각 개별 튜브에 복잡한 온도 승온 및 유지 프로필을 적용할 수 있습니다.
- 최적화된 실험실 풋프린트: 고용량 출력에도 불구하고 장비의 점유 면적은 단 1000 x 650 mm로, 하나의 공간에 4대의 표준 퍼니스에 해당하는 실험 용량을 제공하는 공간 절약형 솔루션입니다.
- 통합 가스 및 진공 관리: 각 채널에는 완전 밀폐형 플랜지, 독립 압력 게이지 및 유량계가 완비되어 있어 진공 처리와 제어된 분위기 어닐링 간에 원활한 전환이 가능합니다.
- 고급 안전 인터록 시스템: 장치는 열전대 고장 및 과열 상태에 대한 자동 차단을 포함한 포괄적인 보호 프로토콜을 특징으로 하여 고가 샘플과 실험실 환경을 모두 보호합니다.
- 원격 데이터 수집 및 제어: RS-485 직렬 포트와 LabVIEW 기반 소프트웨어가 장착되어 있어 원격 모니터링, 프로필 편집 및 상세 데이터 로깅이 가능하며, 이는 감사 추적과 재현 가능한 산업 연구개발에 필수적입니다.
- 고순도 알루미나 처리 튜브: 각 모듈은 뛰어난 내열충격성과 화학적 순도로 알려진 외경 25mm 알루미나 튜브를 사용하여 고온 합금 또는 세라믹 처리 중 샘플 오염을 방지합니다.
- 견고한 전력 분배: 산업용 전기 표준에 맞춰 설계된 이 시스템은 208-240VAC 단상 전원 공급 장치에 30A 회로를 사용하므로 피크 작동 중 모든 4개 가열 모듈에 안정적인 전력 공급을 보장합니다.
- CE 및 NRTL 준수 표준: 전기 안전 및 전자기 호환성에 대한 엄격한 국제 표준을 충족하도록 제조되어 글로벌 연구 기관의 규정 준수 요구 사항을 만족합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 합금 개발 | 상 안정성을 결정하기 위해 4가지 다른 합금 조성을 동시 어닐링 | 고성능 구조 재료의 발견 속도를 가속화합니다. |
| 세라믹 소결 | 고밀도를 달성하기 위해 제어된 분위기에서 공업용 세라믹을 고온 소결 | 독립 채널 프로필을 통해 결정 성장을 정밀하게 제어할 수 있습니다. |
| 배터리 재료 연구 | 다양한 대기 조건에서 양극 또는 음극 재료를 병렬 열처리 | 전기화학 성능 매개변수의 빠른 최적화를 가능하게 합니다. |
| 확산 접합 연구 | 1700°C까지 온도에서 이종 재료 간의 원자 확산 조사 | 고정밀 열 안정성이 일관된 접합 계면을 보장합니다. |
| 다중 샘플 CVD | 다른 전구체 농도를 테스트하기 위해 4개 채널에서 화학 기상 증착 실험 수행 | 박막 및 코팅 개발에 대한 연구개발 주기를 단축합니다. |
| 촉매 테스트 | 진공 또는 불활성 가스 흐름 하에서 촉매 분말의 열 활성화 및 안정성 테스트 | 고처리량 기능으로 촉매 후보의 더 빠른 스크리닝이 가능합니다. |
| 반도체 어닐링 | 실리콘 또는 화합물 반도체에서 고온 도펀트 활성화 및 결정 결함 제거 | 여러 독립 배치에서 균일한 열처리를 보장합니다. |
기술 사양
| 사양 | TU-61 모델 세부 정보 |
|---|---|
| 퍼니스 구조 | 공통 프레임이 있는 통합 4채널 모듈 시스템 |
| 튜브 재질 | 고순도 알루미나 (튜브 4개 포함) |
| 튜브 치수 | 외경 25 mm x 내경 22 mm x 길이 460 mm |
| 최고 온도 | 1700°C (대기압에서 1시간 미만 지속) |
| 연속 작동 온도 | 1600°C (대기압) |
| 가열 속도 | ≤ 10°C / 분 |
| 가열 영역 길이 | 채널당 150 mm |
| 정온 영역 | 60 mm (1400°C에서 ± 5°C) |
| 가열 요소 | 이규화몰리브덴 (MoSi2), 총 16개 (채널당 4개) |
| 온도 제어 | 터치스크린 인터페이스가 있는 4개의 30세그먼트 PID 컨트롤러 |
| 온도 안정성 | < ± 1°C |
| 열전대 | B형 (알루미나 피복 포함) |
| 가스 및 진공 통합 | 밀폐형 플랜지, 기계식 압력 게이지 2개, 채널당 유량계 1개 |
| 진공 레벨 | 상온에서 < 5e-2 Torr (외장 156 L/min 회전날개 펌프 사용 시) |
| 작동 압력 | < 3 psig |
| 입력 전원 | 208 - 240VAC, 단상, 50/60Hz, 30 A (총 6 kVA) |
| 통신 인터페이스 | MTS-03 LabVIEW 소프트웨어가 포함된 RS-485 포트 |
| 치수 (점유 면적) | 길이 1000 mm x 너비 650 mm |
| 규정 준수 | CE 인증 (요청 시 NRTL/UL61010/CSA 제공 가능) |
저희를 선택해야 하는 이유
이 4채널 시스템에 투자하는 것은 실험실 생산성과 기술적 우수성에 대한 약속을 나타냅니다. 표준 단일 튜브 솔루션과 달리 이 장비는 실제 병렬 실험을 가능하게 하여 시설의 공간을 늘리지 않고도 연구 출력을 효과적으로 4배로 늘립니다. 각 채널은 당사의 주력 산업용 퍼니스와 동일한 정밀도와 고부하 부품으로 설계되어 결과가 빠를 뿐만 아니라 매우 정확하도록 보장합니다.
시스템의 내구성은 설계의 특징입니다. 고등급 MoSi2 가열 요소와 B형 열전대를 사용함으로써 1700°C까지 반복적인 사이클을 거쳐도 장치가 안정적이고 신뢰성을 유지합니다. 원격 제어 및 데이터 로깅을 위한 고급 소프트웨어가 통합되어 있어 팀이 엄격한 공정 제어를 유지하고 열 주기의 모든 변수를 문서화할 수 있으며, 항공우주, 자동차 및 반도체 연구개발에서 흔히 요구되는 추적성 요구 사항을 충족합니다.
또한, 독립 제어 시스템의 모듈식 특성은 작동 안정성 계층을 제공합니다. 한 채널을 유지보수하거나 장시간 테스트에 사용하는 동안 나머지 3개 채널은 전체 용량으로 계속 작동합니다. 이는 공유 실험실 환경에서 흔히 발생하는 병목 현상을 방지합니다. 업계를 선도하는 기술 지원과 사용자 정의 옵션과 결합된 이 시스템는 타협 없는 정밀도로 고처리량 열처리가 필요한 기관에 최고의 선택입니다.
특정 재료 연구 요구 사항에 맞춘 견적 요청 또는 맞춤형 열 솔루션에 대해 논의하려면 오늘 저희 기술 영업 팀에 문의하세요.
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