진공 분위기 열처리를 위한 11인치 또는 15인치 석영 튜브와 힌지 플랜지가 적용된 3구역 튜브로

제품 개요

이 고성능 3구역 분할 튜브로는 열처리 공학의 정점을 보여주며, 재료과학 연구 및 산업 R&D의 엄격한 요구사항을 충족하기 위해 특별히 설계되었습니다. 대구경 석영 공정 챔버와 정밀 제어 가열 구역을 통합하여 이 장비는 복잡한 열처리를 위한 안정적이고 다재다능한 플랫폼을 제공합니다. 이 시스템의 핵심 가치는 상당한 길이에 걸쳐 뛰어난 열 균일성을 유지하는 능력에 있으며, 이는 정교한 화학 기상 증착(CVD) 및 어닐링 공정의 성공에 매우 중요합니다.

이 장치의 주요 사용 사례는 반도체 제조, 에너지 저장 연구, 고급 세라믹을 포함한 다양한 하이테크 분야에 걸쳐 있습니다. 특히 대면적 웨이퍼 어닐링(최대 12인치), 확산 공정, 엄격하게 제어된 진공 또는 가스 분위기 환경에서 벌크 샘플 합성에 매우 효과적입니다. 이 장비는 최대 1100°C 온도에서 연속 작동을 처리하도록 설계되어 질소 도핑 탄소 구조 정렬 또는 차세대 촉매 개발에 집중하는 연구실의 필수품입니다.

고부하 산업용 부품으로 제작된 이 시스템은 고처리량 환경에서 비교할 수 없는 신뢰성을 제공합니다. 전동식 리드 액추에이터가 포함되어 가열 챔버에 부드럽고 반복적인 접근을 보장하며, 석영 튜브에 대한 기계적 충격 위험을 줄이고 작업자 안전성을 개선합니다. 학술적 재료 합성이든 산업적 규모 확장 연구에 사용되든, 이 장치는 가장 까다로운 열 사이클 하에서도 일관되고 재현 가능한 결과를 제공하여 처리된 재료의 무결성에 대한 완전한 신뢰를 심어줍니다.

주요 특징

• 정밀 3구역 온도 관리: 이 시스템은 3개의 독립적인 프로그래밍 가능 PID 컨트롤러를 사용하여 별도의 300mm 가열 구역을 관리합니다. 이 구성을 통해 최대 600mm의 특정 열 구배 또는 넓고 매우 균일한 정온 구역을 생성할 수 있어 대용량 배치 또는 긴 기판 전체에서 일관된 결과를 보장합니다.
• 대면적 석영 공정 챔버: 구매자는 11인치와 15인치 외경 석영 튜브 중에서 선택할 수 있습니다. 이러한 고순융 석영 튜브는 우수한 화학적 불활성성과 내열충격성을 제공하며, 진공 무결성을 손상시키지 않으면서 고온 반응 중 샘플 상태를 명확하게 시각적으로 모니터링할 수 있습니다.
• 자동화 전동식 리드 구동: 로는 분할 리드 어셈블리를 여닫는 한 쌍의 고토크 전동 액추에이터를 특징으로 합니다. 이 설계 선택은 수동 작동의 신체적 부담을 없애고 무거운 로 뚜껑이 정밀하게 위치하도록 보장하여 내부 세라믹 섬유 단열재와 석영 튜브를 예기치 않은 충격으로부터 보호합니다.
• 고급 SiC 가열 기술: 42개의 고성능 탄화규소(SiC) 가열 요소가 장착된 이 장치는 최대 10°C/min의 빠른 가열 속도를 달성합니다. 이러한 요소는 균형 잡힌 복사열을 제공하도록 전략적으로 배치되어 단시간 작업에서 최대 작동 온도 1200°C에 도달하는 시스템의 능력에 기여합니다.
• 분위기 제어를 위한 밀폐형 힌지 플랜지: 로에는 한 쌍의 스테인리스 스틸, 엘라스토머 밀봉 힌지 플랜지가 장착되어 있습니다. 이 설계는 고용량 터보 펌프 및 적절한 열 블록과 함께 사용할 경우 10^-4 torr 깊이의 진공 수준에 대한 견고한 밀봉을 유지하면서 샘플의 빠른 로딩 및 언로딩을 용이하게 합니다.
• 견고한 안전 및 냉각 구조: 강제 공기 냉각과 통합된 이중층 강철 케이싱은 최대 부하 작동 중에도 외부 표면 온도를 70°C 미만으로 유지합니다. 이는 연구실 인력과 주변 장비를 보호하는 동시에 내부 내화성 섬유 알루미나 단열재의 효율성을 유지합니다.
• 사용자 정의 가능한 제어 옵션: 표준 모델은 ±1°C 정확도의 30세그먼트 PID 제어를 특징으로 하지만, 장비는 유로써모 3000 시리즈 컨트롤러로 업그레이드할 수 있습니다. 이러한 옵션 장치는 산업 4.0 환경에서 복잡한 데이터 로깅 및 원격 공정 모니터링을 위해 ±0.1°C 정밀도와 고급 RS-485 통신 프로토콜을 제공합니다.
• 통합 가스 및 진공 포트: 스테인리스 스틸 플랜지에는 니들 밸브, 압력 게이지, KF40 진공 연결을 포함한 포괄적인 배열의 포트가 포함되어 있습니다. 이를 통해 가스 공급 시스템 및 진공 펌프와 원활하게 통합할 수 있으며, 인시츄 온도 측정과 정밀한 분위기 조작을 용이하게 합니다.

적용 분야

기술 사양

3구역 튜브로를 선택해야 하는 이유

• 산업 등급 열 정밀도: 다구역 PID 아키텍처는 고위험 R&D에 필요한 세밀한 제어를 제공합니다. 예열, 공정 및 냉각 구역의 독립적인 조정을 허용함으로써 이 시스템은 재료 합성이 재현 가능하고 과학적으로 타당하게 유지되도록 보장합니다.
• 고처리량을 위해 설계됨: 거대한 11인치 또는 15인치 공정 챔버를 갖춘 이 로는 표준 실험실 장비의 한계를 뛰어넘습니다. 소규모 실험과 파일럿 생산 사이의 격차를 메우고 8~12인치 웨이퍼 처리에 필요한 용량을 제공합니다.
• 우수한 제작 및 안전 표준: 기계적 마모를 방지하는 전동식 리드부터 작업자를 보호하는 이중 케이스 냉각 시스템에 이르기까지 모든 요소는 수명을 위해 설계되었습니다. 프리미엄 내화 알루미나 단열재와 고밀도 SiC 요소의 사용은 산업 등급 내구성에 대한 약속을 반영합니다.
• 다재다능한 분위기 무결성: 공정에 고순도 불활성 가스가 필요하든 고진공 환경이 필요하든, 힌지형 밀폐 플랜지는 신뢰할 수 있고 사용자 친화적인 솔루션을 제공합니다. 하드웨어를 변경하지 않고 진공과 분위기 사이를 전환할 수 있는 유연성은 모든 재료과학 연구실에 다재다능한 자산이 됩니다.
• 비교할 수 없는 맞춤화 및 지원: 우리는 모든 연구 프로젝트에 고유한 요구사항이 있음을 인식합니다. 옵션인 석영 웨이퍼 보트부터 업그레이드된 유로써모 제어 시스템 및 맞춤형 전원 구성에 이르기까지, 이 시스템을 특정 작업 흐름에 맞춤화하는 데 필요한 기술 지원을 제공합니다.

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