제품 개요

이 고급 회전식 튜브 퍼니스 시스템은 제어된 분위기 또는 진공 조건에서 입상 재료 및 분말을 고정밀 열처리하도록 설계되었습니다. 대형 5인치 직경의 석영 처리 튜브와 자동 재료 처리 워크플로우를 통합하여, 차세대 에너지 저장 소재를 개발하는 연구원 및 제조업체에 턴키 솔루션을 제공합니다. 이 제품의 핵심 가치는 다중 존 가열 환경 전반에 걸쳐 엄격한 순도 표준과 열 균일성을 유지하면서 연속적인 화학 기상 증착(CVD) 및 하소(calcination) 공정을 원활하게 수행할 수 있다는 점입니다.
이 시스템은 리튬 인산철(LiFePO3), 리튬 망간 니켈 산화물(LiMnNiO3) 및 실리콘-탄소(Si/C) 복합체를 포함한 리튬 이온 배터리 양극 및 음극 소재 합성에 최적화되어 있습니다. 이러한 까다로운 응용 분야에서 회전 환경 내에서 분말을 처리하면 모든 입자가 열원 및 전구체 가스에 균일하게 노출되어, 고정식 베드 퍼니스에서 흔히 발생하는 국부적 과열이나 불일치 반응을 방지합니다. 이로 인해 본 장비는 확장 가능한 소재 합성에 중점을 둔 재료 과학 연구소 및 산업용 파일럿 라인에 필수적인 도구가 됩니다.
엄격한 산업용 R&D 환경에서 장기적인 신뢰성을 위해 제작된 이 장비는 외부 온도를 안전하게 유지하기 위한 통합 냉각 팬이 장착된 견고한 이중 쉘 구조를 특징으로 합니다. 기울기 조절이 가능한 퍼니스 본체와 고토크 구동 시스템으로 구성된 모듈식 설계는 고밀도 분말을 처리할 때도 일관된 성능을 보장합니다. 이 시스템은 24/7 운영에 필요한 내구성을 제공하며, 복잡한 화학 공정을 실험실 벤치에서 대규모 생산으로 자신 있게 전환하는 데 필요한 일관성과 정밀도를 제공합니다.
주요 특징
- 지능형 3존 열 아키텍처: 가열 챔버는 독립적으로 제어되는 3개의 존(150mm, 300mm, 150mm)으로 나뉘어 총 600mm의 가열 길이를 제공합니다. 이 구성을 통해 정확한 열 구배를 생성하거나 ±2ºC 이내에서 450mm의 확장된 항온 존을 유지하여 처리 주기 전반에 걸쳐 균일한 입자 처리를 보장합니다.
- 통합 자동 공급 및 수거: 정밀 용적식 분말 공급 장치와 밀폐된 1리터 수거 탱크를 갖추어 연속 작동이 가능합니다. 진공 밀폐형 스위블 어셈블리는 재료가 외부 공기에 노출되지 않고 고온 존으로 들어가고 나올 수 있도록 하여 화학적 순도와 습기에 민감한 특성을 보존합니다.
- 정밀 가변 속도 회전: 고토크 DC 기어 모터는 1~10 RPM의 회전 속도를 허용합니다. 이러한 텀블링 동작은 분말 응집을 방지하고 탄소 코팅이나 환원과 같은 기체-고체 반응이 재료의 전체 표면적에 걸쳐 균일하게 일어나도록 하는 데 매우 중요합니다.
- 전동식 틸팅 메커니즘: 퍼니스 본체는 전기 구동을 통해 -5°에서 +20°까지 기울일 수 있습니다. 회전 속도와 함께 기울기 각도를 조정함으로써 작업자는 가열된 석영 튜브를 통과하는 분말의 체류 시간(dwell time)을 정밀하게 제어할 수 있습니다.
- 고급 진공 및 분위기 제어: 진공 또는 제어된 가스 환경에서 작동하도록 설계된 이 시스템은 니들 밸브가 있는 스테인리스 스틸 밀폐 플랜지를 특징으로 합니다. 수거 시스템의 KF40 버터플라이 밸브는 밀폐 상태를 유지하면서 처리된 재료를 배출할 수 있게 하여 민감한 분말을 산화로부터 보호합니다.
- 신속 냉각을 위한 분할 커버 엔지니어링: 퍼니스는 쉽게 열 수 있는 분할 쉘 설계를 특징으로 합니다. 이를 통해 사이클 후 처리 튜브를 신속하게 냉각할 수 있어 처리량을 크게 늘리고 튜브 청소나 교체를 용이하게 합니다.
- 우수한 단열 성능: 고순도 알루미나 섬유 단열재를 사용하여 에너지 효율을 극대화하고 빠른 가열 속도를 보장합니다. 이 프리미엄 단열재는 열 손실을 최소화하고 민감한 소재 합성에 필요한 우수한 온도 안정성에 기여합니다.
- 안전 우선 구조: 이중 쉘 케이싱에는 외부 표면을 만져도 안전하도록 3개의 고효율 냉각 팬이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 저압(<3 psig)에서 안전하게 작동하도록 설계되었으며, 가스 공급 중 과압을 방지하기 위한 통합 안전 밸브가 포함되어 있습니다.
- 디지털 명령 및 제어: 각 가열 존은 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 갖춘 개별 PID 디지털 온도 컨트롤러에 의해 관리됩니다. 옵션인 RS485 포트와 Labview 기반 소프트웨어를 통해 워크스테이션에서 원격 모니터링, 데이터 로깅 및 복잡한 레시피 관리가 가능합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 배터리 소재 합성 | LiFePO3, LiMnNiO3 및 기타 양극/음극 분말의 하소 및 코팅. | 화학량론적 정밀도 및 균일한 전도성 탄소 코팅 보장. |
| Si/C 복합체 생산 | 고에너지 음극용 실리콘 나노입자에 대한 탄소 나노층의 화학 기상 증착(CVD). | 일관된 나노층 두께와 형태를 보장하여 사이클 수명 향상. |
| 탄소 나노튜브(CNT) 성장 | 금속 촉매와 탄화수소 가스를 이용한 CNT의 대규모 합성. | 높은 처리량과 우수한 기체-고체 접촉으로 일관된 섬유 품질 제공. |
| 분말 표면 개질 | 반응성 가스(질화, 침탄)를 이용한 세라믹 또는 금속 분말의 개질. | 입자 소결을 방지하면서 균일한 표면 화학 특성 달성. |
| 첨단 세라믹 하소 | 기술 세라믹 및 형광체용 전구체 분말의 고온 처리. | 분말 베드 내의 열 구배를 제거하여 우수한 상 순도 달성. |
| 귀금속 회수 | 촉매 분말 및 귀금속 스크랩의 열처리 및 환원. | 정밀한 분위기 제어로 회수율 극대화 및 산화 손실 최소화. |
| 고체 반응 | 다성분 산화물 합성을 위한 혼합 분말 전구체의 제어된 가열. | 텀블링 동작으로 더 나은 물질 전달 및 빠른 반응 속도 촉진. |
기술 사양
| 구성 요소 | 사양 상세 (모델: TU-X06) |
|---|---|
| 모델 식별자 | TU-X06 시리즈 |
| 작동 전압 | 208 - 240 VAC, 단상, 5 kW (30A 차단기 필요) |
| 최대 작동 온도 | 1200°C (단기 < 30분); 1100°C (연속) |
| 가열 존 길이 | 총: 600mm (존 1: 150mm / 존 2: 300mm / 존 3: 150mm) |
| 항온 존 | 450mm (±2ºC 이내, 존 동기화 시) |
| 튜브 치수 | 용융 석영: Ø130mm 외경 x 1200mm 길이 (5" 외경) |
| 튜브 재질 옵션 | 용융 석영 (표준); SS310 (< 900°C용 옵션) |
| 회전 속도 | 1 - 10 RPM (1:150 기어 감속, 10Nm 토크를 통한 가변) |
| 틸트 각도 | -5° ~ +20° (전동식) |
| 공급 시스템 | 용적식 분말 공급기; 최대 97 cm³/min; 1L 호퍼 |
| 수거 시스템 | KF40 버터플라이 밸브가 있는 1L 스테인리스 스틸 탱크 |
| 진공 무결성 | < 3 psig (저압 등급); KF25 진공 포트 |
| 온도 제어 | 3x PID 컨트롤러; 30 세그먼트; ±1°C 정확도 |
| 열전대 | 3x Omega K-타입 (3mm 외경 x 6" 길이) |
| 치수 (닫힘) | 60" L x 24" W x 58" H (0° 틸트 시) |
| 치수 (틸트/열림) | 60" L x 35" W x 74" H (뚜껑 열림 및 34° 최대 틸트 시) |
| 인증 | CE 인증 (요청 시 NRTL/UL61010/CSA 제공 가능) |
TU-X06을 선택해야 하는 이유
- 비교할 수 없는 공정 균일성: 정적 퍼니스와 달리 TU-X06의 회전 동작은 모든 재료가 동일한 열 및 화학적 노출을 받도록 보장하며, 이는 고성능 배터리 분말의 재현성에 매우 중요합니다.
- 우수한 자동 워크플로우: 통합된 진공 밀폐형 공급 및 수거 시스템은 불활성 분위기를 손상시키거나 샘플의 환경 오염 위험 없이 연속적인 파일럿 규모 생산을 가능하게 합니다.
- 정밀 다중 존 제어: 3개의 개별 가열 존을 독립적으로 제어하여 단일 패스 내에서 예열, 반응, 제어 냉각 존과 같은 복잡한 온도 프로파일을 구현할 수 있습니다.
- 높은 처리량을 위한 견고한 설계: 5인치 직경의 대형 튜브와 10Nm의 토크를 갖춘 이 시스템은 표준 실험실용 회전 장비보다 더 많은 양의 재료를 처리하여 R&D와 상업적 규모 확대 사이의 간극을 메워줍니다.
- 전문적인 맞춤화 및 지원: 특정 화학 물질을 위한 대체 튜브 재질 및 고급 CVD 응용 분야를 위한 통합 다채널 가스 공급 시스템을 포함한 포괄적인 구성 옵션을 제공합니다.
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