제품 개요


이 고온 회전식 처리 시스템은 재료 과학에서 전통적인 정적 가열 방식이 지닌 고유한 한계를 해결하도록 설계되었습니다. 연속 회전 메커니즘과 정교한 3존 가열 구조를 통합하여, 이 장비는 벌크 분말 재료가 동적으로 교반되도록 보장합니다. 이러한 동작은 고정식 퍼니스 설계에서 흔히 발생하는 열 구배와 국부 과열의 위험을 제거합니다. 그 결과 얻어지는 일관성은 미세 수준의 균일성이 최종 제품의 성능을 좌우하는 고위험 연구 및 산업 규모의 첨단 소재 개발에 매우 중요합니다.
주로 배터리 연구, 야금, 화학 기상 증착(CVD)의 엄격한 요구 사항을 위해 설계된 이 시스템은 정밀한 분위기 제어와 반복 가능한 열 프로파일이 필요한 환경에서 탁월한 성능을 발휘합니다. 내부 혼합 블레이드가 장착된 석영 튜브의 통합으로 리튬 이온 양극 분말부터 복잡한 광물 구성에 이르기까지 다양한 시료를 처리할 수 있습니다. 탈수, 표면 개질 또는 다단계 화학 반응에 사용하더라도, 이 장치는 까다로운 실험실 및 파일럿 규모 산업 응용에서 고순도 결과를 달성하기 위한 안정적인 플랫폼을 제공합니다.
견고성과 신뢰성은 이 시스템의 핵심 엔지니어링을 정의합니다. 이중 외피 케이싱과 고효율 냉각 팬으로 제작되어, 장시간 동안 극한의 내부 열을 유지하면서도 외부 온도를 낮게 유지하도록 설계되었습니다. 고급 섬유질 알루미나 단열재와 고급 발열체의 사용은 빠른 열 응답 시간과 장기 내구성을 보장합니다. 구매팀과 연구실 관리자에게 이는 유지보수를 최소화하고 연속 운전 사이클에서도 뛰어난 운영 일관성을 제공함으로써 총소유비용(TCO)을 낮추는 것을 의미합니다.
주요 특징
- 3존 정밀 가열: 이 시스템은 900mm의 가열 길이를 3개의 독립적으로 제어되는 300mm 구역으로 나누어 구성합니다. 이 구조는 사용자가 맞춤형 열 구배를 설정하거나 매우 넓고 균일한 가열 영역을 구현할 수 있게 하여, 복잡한 CVD 및 PVD 공정에 필요한 유연성을 제공합니다.
- 내부 혼합 기능이 있는 동적 회전 동작: 가변 속도 DC 기어 모터가 석영 튜브를 1~10 RPM으로 구동합니다. 통합된 혼합 블레이드와 결합되어 분말의 지속적인 회전을 보장하며, 반응 속도 향상을 위해 대기 및 열원에 노출되는 표면적을 극대화합니다.
- 전동 기울기 조절 메커니즘: 퍼니스 본체 전체를 0~15도 범위에서 전동으로 기울일 수 있습니다. 이 기능은 튜브 내 재료의 체류 시간과 유량을 정밀하게 제어할 수 있게 하여, 배치 처리와 연속 공급 시뮬레이션 모두에 이상적입니다.
- 고급 분위기 관리: KF25 및 KF50 자기유체 동적 씰이 장착되어 있어 고무결성 진공 또는 제어된 분위기 환경을 유지합니다. 니들 밸브, 압력 게이지, 특수 가스 입/출구 포트의 포함으로 공정 환경을 정확하게 조절할 수 있습니다.
- 정교한 PID 온도 제어: 50구간 프로그래밍 가능한 PID 컨트롤러가 ±1°C 이내의 정확도를 보장합니다. 이 시스템은 DB-9 및 RS485 MODBUS 통신을 지원하여 디지털 실험실 관리 환경 및 원격 모니터링 설정과의 원활한 통합이 가능합니다.
- 견고한 안전 및 열 관리: 이중 케이싱 설계에 3개의 고성능 팬을 통한 능동 공랭이 포함되어 있습니다. 이러한 안전 우선 접근 방식은 외부 표면을 만져도 뜨겁지 않게 유지하고 장시간 운전 중 열로 인한 내부 전자 부품의 마모를 방지합니다.
- 고순도 석영 튜브 구조: 이 시스템은 전용 700mm 텀블링 구역을 갖춘 특수 1600mm 석영 튜브를 사용합니다. 이 소재 선택은 화학적 불활성과 고온 저항성을 보장하여 중요한 재료 합성 동안 시료 오염을 방지합니다.
- 확장 가능한 제어 옵션: 선택적 소프트웨어 통합을 통해 사용자는 전용 노트북 인터페이스에서 데이터를 모니터링하고 기록할 수 있습니다. LabVIEW 기반 시스템은 열 사이클의 종합적인 시각적 표현을 제공하여 산업 R&D 규정 준수에 필요한 문서화 작업을 지원합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 리튬이온 배터리 소재 | LFP 또는 NCM과 같은 양극 및 음극 분말의 소성 및 표면 처리. | 균일한 입자 코팅과 결정성 향상을 통한 전기화학적 성능 강화. |
| 광물 시료 탈수 | 지질 또는 산업용 광물에서 수분과 휘발성 성분을 고온에서 제거. | 동적 회전을 통해 응집을 방지하고 수분을 완전히 제거. |
| CVD / PVD 공정 | 고순도 박막 또는 나노튜브 생산을 위한 제어된 화학 기상 증착. | 3개 가열 구역 전반에 걸친 균일한 기체-고체 접촉으로 일정한 필름 두께를 보장. |
| 촉매 제조 | 특정 가스 흐름(H2, Ar, N2) 하에서 촉매 분말의 활성화 및 환원. | 공정 중 활성 사이트가 균일하게 노출되어 뛰어난 촉매 활성 확보. |
| 환경 시험 | 환경 토양 또는 폐기물 시료의 열 분석 및 분해. | 이질적인 시료 매트릭스를 충분히 혼합하여 대표성 있는 결과 도출. |
| 세라믹 소결 | 특정 구조적 특성을 얻기 위한 세라믹 전구체의 열처리. | 안정화된 다중 구역 온도 프로파일을 통해 결정립 성장 정밀 제어. |
기술 사양
| 항목 | 사양 상세 (TU-X05) |
|---|---|
| 모델 번호 | TU-X05 |
| 최대 작동 온도 | ≤1100°C(대기압); ≤1000°C(진공) |
| 가열 속도 | ≤10°C/분 |
| 가열 구역 | 총 900 mm(구역 1: 300 mm, 구역 2: 300 mm, 구역 3: 300 mm) |
| 튜브 재질 / 크기 | 고순도 석영 튜브; Ø60 × Ø130 × 1600 mm |
| 텀블링 구역 | Ø130 × 700 mm(총 부피 약 9000 ml) |
| 유효 작업 부피 | 1800 - 2250 ml |
| 회전 속도 | 1 - 10 RPM(가변 속도 제어) |
| 기울기 각도 | 0 - 15°(전동 기울기) |
| 발열체 | NiCrAl:Mo |
| 제어 시스템 | 50구간 프로그래밍 가능 PID; ±1°C 정확도 |
| 분위기 제어 | KF25/KF50 자기유체 씰; 가스 입/출구 Ø1/4" 압축 피팅 |
| 진공 성능 | 2단 로터리 베인 펌프와 함께 사용하기에 적합 |
| 전원 요구 사항 | AC 208-240V, 단상, 50Hz, 7.0KW(30A 차단기 필요) |
| 치수 | 3개의 냉각 팬이 있는 이중 외피 케이싱 |
| 인증 | CE 인증; 요청 시 NRTL(UL61010) 또는 CSA 제공 가능 |
이 고온 회전식 시스템을 선택해야 하는 이유
- 탁월한 열 균일성: 3존 제어와 회전 동작의 결합으로 온도 사각지대를 제거하여, 재료의 모든 밀리그램이 동일한 열처리를 받도록 보장합니다.
- 산업용 수준의 구조: 고밀도 섬유질 알루미나와 이중 외피 냉각 시스템으로 설계되어, 신뢰성이 절대적으로 중요한 24/7 연구 환경에 적합합니다.
- 공정 다재다능성: 진공 기반 표면 처리부터 대기 중 화학 반응까지, 유연한 씰링 및 기울기 조절 기능으로 다양한 R&D 부서에서 활용할 수 있는 다목적 장비입니다.
- 정밀성과 추적성: 디지털 통신 프로토콜과 선택적 데이터 로깅 소프트웨어를 통해 현대 산업 제조 및 품질 관리에 요구되는 엄격한 문서화 기준을 충족할 수 있습니다.
- 프리미엄 엔지니어링 지원: 모든 시스템은 광범위한 기술 전문 지식으로 지원되며, 특정 진공 시스템 또는 소프트웨어 통합에 맞춘 맞춤화 옵션을 제공하여 작업 흐름 요구 사항에 부합합니다.
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