고온 분말 가공 및 재료 연구용 3존 회전식 튜브 퍼니스

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고온 분말 가공 및 재료 연구용 3존 회전식 튜브 퍼니스

품목 번호: TU-X05

최대 온도: 1100°C (주변) / 1000°C (진공) 가열 구역: 3개 구역 (300mm + 300mm + 300mm) 회전 속도 및 기울기: 1-10 RPM / 0-15° 전동 기울기
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제품 개요

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이 고온 회전식 처리 시스템은 재료 과학에서 전통적인 정적 가열 방식이 지닌 고유한 한계를 해결하도록 설계되었습니다. 연속 회전 메커니즘과 정교한 3존 가열 구조를 통합하여, 이 장비는 벌크 분말 재료가 동적으로 교반되도록 보장합니다. 이러한 동작은 고정식 퍼니스 설계에서 흔히 발생하는 열 구배와 국부 과열의 위험을 제거합니다. 그 결과 얻어지는 일관성은 미세 수준의 균일성이 최종 제품의 성능을 좌우하는 고위험 연구 및 산업 규모의 첨단 소재 개발에 매우 중요합니다.

주로 배터리 연구, 야금, 화학 기상 증착(CVD)의 엄격한 요구 사항을 위해 설계된 이 시스템은 정밀한 분위기 제어와 반복 가능한 열 프로파일이 필요한 환경에서 탁월한 성능을 발휘합니다. 내부 혼합 블레이드가 장착된 석영 튜브의 통합으로 리튬 이온 양극 분말부터 복잡한 광물 구성에 이르기까지 다양한 시료를 처리할 수 있습니다. 탈수, 표면 개질 또는 다단계 화학 반응에 사용하더라도, 이 장치는 까다로운 실험실 및 파일럿 규모 산업 응용에서 고순도 결과를 달성하기 위한 안정적인 플랫폼을 제공합니다.

견고성과 신뢰성은 이 시스템의 핵심 엔지니어링을 정의합니다. 이중 외피 케이싱과 고효율 냉각 팬으로 제작되어, 장시간 동안 극한의 내부 열을 유지하면서도 외부 온도를 낮게 유지하도록 설계되었습니다. 고급 섬유질 알루미나 단열재와 고급 발열체의 사용은 빠른 열 응답 시간과 장기 내구성을 보장합니다. 구매팀과 연구실 관리자에게 이는 유지보수를 최소화하고 연속 운전 사이클에서도 뛰어난 운영 일관성을 제공함으로써 총소유비용(TCO)을 낮추는 것을 의미합니다.

주요 특징

  • 3존 정밀 가열: 이 시스템은 900mm의 가열 길이를 3개의 독립적으로 제어되는 300mm 구역으로 나누어 구성합니다. 이 구조는 사용자가 맞춤형 열 구배를 설정하거나 매우 넓고 균일한 가열 영역을 구현할 수 있게 하여, 복잡한 CVD 및 PVD 공정에 필요한 유연성을 제공합니다.
  • 내부 혼합 기능이 있는 동적 회전 동작: 가변 속도 DC 기어 모터가 석영 튜브를 1~10 RPM으로 구동합니다. 통합된 혼합 블레이드와 결합되어 분말의 지속적인 회전을 보장하며, 반응 속도 향상을 위해 대기 및 열원에 노출되는 표면적을 극대화합니다.
  • 전동 기울기 조절 메커니즘: 퍼니스 본체 전체를 0~15도 범위에서 전동으로 기울일 수 있습니다. 이 기능은 튜브 내 재료의 체류 시간과 유량을 정밀하게 제어할 수 있게 하여, 배치 처리와 연속 공급 시뮬레이션 모두에 이상적입니다.
  • 고급 분위기 관리: KF25 및 KF50 자기유체 동적 씰이 장착되어 있어 고무결성 진공 또는 제어된 분위기 환경을 유지합니다. 니들 밸브, 압력 게이지, 특수 가스 입/출구 포트의 포함으로 공정 환경을 정확하게 조절할 수 있습니다.
  • 정교한 PID 온도 제어: 50구간 프로그래밍 가능한 PID 컨트롤러가 ±1°C 이내의 정확도를 보장합니다. 이 시스템은 DB-9 및 RS485 MODBUS 통신을 지원하여 디지털 실험실 관리 환경 및 원격 모니터링 설정과의 원활한 통합이 가능합니다.
  • 견고한 안전 및 열 관리: 이중 케이싱 설계에 3개의 고성능 팬을 통한 능동 공랭이 포함되어 있습니다. 이러한 안전 우선 접근 방식은 외부 표면을 만져도 뜨겁지 않게 유지하고 장시간 운전 중 열로 인한 내부 전자 부품의 마모를 방지합니다.
  • 고순도 석영 튜브 구조: 이 시스템은 전용 700mm 텀블링 구역을 갖춘 특수 1600mm 석영 튜브를 사용합니다. 이 소재 선택은 화학적 불활성과 고온 저항성을 보장하여 중요한 재료 합성 동안 시료 오염을 방지합니다.
  • 확장 가능한 제어 옵션: 선택적 소프트웨어 통합을 통해 사용자는 전용 노트북 인터페이스에서 데이터를 모니터링하고 기록할 수 있습니다. LabVIEW 기반 시스템은 열 사이클의 종합적인 시각적 표현을 제공하여 산업 R&D 규정 준수에 필요한 문서화 작업을 지원합니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
리튬이온 배터리 소재 LFP 또는 NCM과 같은 양극 및 음극 분말의 소성 및 표면 처리. 균일한 입자 코팅과 결정성 향상을 통한 전기화학적 성능 강화.
광물 시료 탈수 지질 또는 산업용 광물에서 수분과 휘발성 성분을 고온에서 제거. 동적 회전을 통해 응집을 방지하고 수분을 완전히 제거.
CVD / PVD 공정 고순도 박막 또는 나노튜브 생산을 위한 제어된 화학 기상 증착. 3개 가열 구역 전반에 걸친 균일한 기체-고체 접촉으로 일정한 필름 두께를 보장.
촉매 제조 특정 가스 흐름(H2, Ar, N2) 하에서 촉매 분말의 활성화 및 환원. 공정 중 활성 사이트가 균일하게 노출되어 뛰어난 촉매 활성 확보.
환경 시험 환경 토양 또는 폐기물 시료의 열 분석 및 분해. 이질적인 시료 매트릭스를 충분히 혼합하여 대표성 있는 결과 도출.
세라믹 소결 특정 구조적 특성을 얻기 위한 세라믹 전구체의 열처리. 안정화된 다중 구역 온도 프로파일을 통해 결정립 성장 정밀 제어.

기술 사양

항목 사양 상세 (TU-X05)
모델 번호 TU-X05
최대 작동 온도 ≤1100°C(대기압); ≤1000°C(진공)
가열 속도 ≤10°C/분
가열 구역 총 900 mm(구역 1: 300 mm, 구역 2: 300 mm, 구역 3: 300 mm)
튜브 재질 / 크기 고순도 석영 튜브; Ø60 × Ø130 × 1600 mm
텀블링 구역 Ø130 × 700 mm(총 부피 약 9000 ml)
유효 작업 부피 1800 - 2250 ml
회전 속도 1 - 10 RPM(가변 속도 제어)
기울기 각도 0 - 15°(전동 기울기)
발열체 NiCrAl:Mo
제어 시스템 50구간 프로그래밍 가능 PID; ±1°C 정확도
분위기 제어 KF25/KF50 자기유체 씰; 가스 입/출구 Ø1/4" 압축 피팅
진공 성능 2단 로터리 베인 펌프와 함께 사용하기에 적합
전원 요구 사항 AC 208-240V, 단상, 50Hz, 7.0KW(30A 차단기 필요)
치수 3개의 냉각 팬이 있는 이중 외피 케이싱
인증 CE 인증; 요청 시 NRTL(UL61010) 또는 CSA 제공 가능

이 고온 회전식 시스템을 선택해야 하는 이유

  • 탁월한 열 균일성: 3존 제어와 회전 동작의 결합으로 온도 사각지대를 제거하여, 재료의 모든 밀리그램이 동일한 열처리를 받도록 보장합니다.
  • 산업용 수준의 구조: 고밀도 섬유질 알루미나와 이중 외피 냉각 시스템으로 설계되어, 신뢰성이 절대적으로 중요한 24/7 연구 환경에 적합합니다.
  • 공정 다재다능성: 진공 기반 표면 처리부터 대기 중 화학 반응까지, 유연한 씰링 및 기울기 조절 기능으로 다양한 R&D 부서에서 활용할 수 있는 다목적 장비입니다.
  • 정밀성과 추적성: 디지털 통신 프로토콜과 선택적 데이터 로깅 소프트웨어를 통해 현대 산업 제조 및 품질 관리에 요구되는 엄격한 문서화 기준을 충족할 수 있습니다.
  • 프리미엄 엔지니어링 지원: 모든 시스템은 광범위한 기술 전문 지식으로 지원되며, 특정 진공 시스템 또는 소프트웨어 통합에 맞춘 맞춤화 옵션을 제공하여 작업 흐름 요구 사항에 부합합니다.

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