제품 개요
이 고성능 열처리 시스템은 대구경 반응 챔버와 길고 균일한 가열 존이 필요한 첨단 재료 연구 및 산업용 열처리 응용 분야를 위해 설계되었습니다. 분할형 단일 존 퍼니스로 설계되어 처리 튜브에 쉽게 접근할 수 있으며, 샘플의 신속한 로딩 및 언로딩이 가능하고 유지보수 절차를 간소화합니다. 이 제품의 핵심 가치는 최대 1200°C까지 매우 안정적인 열 환경을 유지하는 능력에 있으며, 반도체 공정, 야금 및 세라믹 공학에 중점을 둔 연구소와 생산 시설에 필수적인 도구입니다.
이 장비는 진공 어닐링, 기상 확산 및 고상 소결을 포함한 고순도 공정에 최적화되어 있습니다. 5인치 직경의 용융 석영 튜브를 사용하여 표준 실험실 퍼니스보다 더 큰 기판이나 더 많은 양의 소형 샘플을 처리할 수 있습니다. 특히 4인치 웨이퍼 처리에 적합하며, 전자 산업의 정밀한 산화 및 도핑 절차에 필요한 열 균일성과 분위기 제어를 제공합니다.
신뢰성은 이 장치 설계의 핵심입니다. 산업용 등급의 부품과 견고한 이중 레이어 강철 케이싱으로 제작되어 까다로운 환경에서도 연속 작동이 가능합니다. 고급 공랭식 기술이 통합되어 고온 사이클 중에도 외부 쉘을 안전하게 만질 수 있어 작업자와 주변 실험실 인프라를 모두 보호합니다. 이 장치는 기술적 정밀도와 장기적인 운영 일관성을 우선시하는 조직을 위한 확실한 투자입니다.
주요 특징
- 정밀 온도 관리: 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 제공하는 MET 인증 디지털 컨트롤러를 사용합니다. 이를 통해 가열 속도, 냉각 속도 및 유지 시간을 세밀하게 제어하여 복잡한 열 사이클 전반에 걸쳐 반복 가능한 결과를 보장합니다.
- 대용량 석영 처리 챔버: 130mm 외경의 용융 석영 튜브를 사용하여 대규모 실험을 위한 넓은 환경을 제공합니다. 고품질 석영은 뛰어난 내열 충격성과 화학적 불활성을 제공하여 고순도 분위기 제어를 가능하게 합니다.
- 고급 단열재: 에너지 효율을 극대화하기 위해 고순도 섬유질 알루미나 단열재를 사용합니다. 이 고급 내화 재료는 열 손실을 최소화하여 시스템이 더 낮은 전력 소비로 최고 온도에 도달하고 유지할 수 있게 합니다.
- 견고한 진공 밀봉 시스템: 이중 고온 실리콘 O-링이 장착된 한 쌍의 스테인리스 스틸 304 진공 플랜지가 포함되어 있습니다. 이 어셈블리는 분자 펌프와 결합 시 10^-5 torr 수준의 진공도를 달성할 수 있는 기밀 밀봉을 보장합니다.
- 고성능 가열 요소: 몰리브덴이 도핑된 Fe-Cr-Al 합금 가열 요소로 구동됩니다. 이 요소들은 잦은 고온 사이클링에도 긴 수명과 일관된 열 복사를 제공하도록 설계되었습니다.
- 통합 안전 및 모니터링: PID 자동 튜닝 기능과 과열 방지 및 열전대 단선 경보가 내장되어 있어 안전한 무인 작동이 가능합니다. 통합 압력 게이지는 내부 튜브 환경을 실시간으로 모니터링합니다.
- 분할형 퍼니스 엔지니어링: 케이싱의 분할 힌지 설계로 퍼니스 상단을 열 수 있어 가열 존과 석영 튜브에 즉시 접근할 수 있습니다. 이 기능은 급속 냉각이나 내부 부품의 정밀한 위치 조정에 매우 중요합니다.
- 확장 가능한 통신 포트: RS485 통신 포트가 장착되어 있어 원격 모니터링 및 데이터 로깅을 위해 실험실 네트워크에 통합할 수 있으며, 디지털 추적성에 대한 최신 산업 4.0 표준을 지원합니다.
- 효율적인 외부 냉각: 능동형 공랭식 이중 레이어 강철 케이싱은 외부 표면 온도를 60°C 이하로 유지하여 쾌적한 작업 환경을 제공하고 내부 전자 장치를 열 피로로부터 보호합니다.
- 맞춤형 처리 환경: 플랜지의 니들 밸브를 통해 다양한 가스 유입 및 배출을 지원하여 연구자가 가열 과정에서 질소, 아르곤 또는 포밍 가스와 같은 보호 또는 반응 가스를 주입할 수 있습니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 반도체 산화 | 고온의 제어된 산소 환경에서 4인치 실리콘 웨이퍼 위에 산화막 성장. | 높은 열 균일성으로 웨이퍼 전체 표면에서 일관된 산화막 두께 보장. |
| 진공 어닐링 | 산화를 방지하기 위해 고진공 환경에서 가열하여 금속 합금 또는 유리 부품의 내부 응력 완화. | 우수한 기밀 밀봉으로 표면 변색을 방지하고 재료 순도 유지. |
| CVD 연구 | 그래핀, 탄소 나노튜브 또는 박막 코팅의 화학 기상 증착(CVD)을 위한 반응 챔버로 사용. | 5인치 튜브 직경으로 전구체 가스 흐름의 안정성이 높고 더 큰 기판 처리 가능. |
| 세라믹 소결 | 최대 1100°C 온도에서 세라믹 분말 압축체를 밀도 높고 강도가 높은 부품으로 통합. | 정밀한 30단계 프로그래밍으로 중요한 냉각 단계에서 열 충격 및 균열 방지. |
| 확산 도핑 | 기상 또는 고체 소스 확산을 통해 반도체 재료에 도펀트 불순물 주입. | 분할형 퍼니스 설계로 급속 냉각 또는 확산 공정의 정밀한 타이밍 제어 가능. |
| 재료 하소 | 원료의 열분해를 통해 휘발성 성분을 제거하거나 상 변화 유도. | 섬유질 알루미나 단열재가 장시간 하소 사이클에 필요한 열 안정성 제공. |
| 배터리 재료 R&D | 불활성 가스 분위기에서 양극 또는 음극 분말의 합성 및 열처리. | 통합 가스 처리 및 압력 모니터링으로 민감한 배터리 화학 물질의 안전한 처리 보장. |
| 분위기 소결 | 특정 야금 특성을 얻기 위해 질소 또는 아르곤 환경에서 특수 합금 열처리. | 신뢰할 수 있는 가스 유입/배출 밸브와 SS304 플랜지로 순수하고 누출 없는 분위기 보장. |
기술 사양
| 사양 분류 | 매개변수 세부 정보 (모델: TU-26) |
|---|---|
| 가열 존 구성 | 단일 존 분할형 퍼니스 설계 |
| 최대 작동 온도 | 1200°C (불활성 분위기에서 5시간 미만) |
| 연속 작동 온도 | 1100°C |
| 가열 존 길이 | 880 mm (약 34.6인치) |
| 항온 존 | 240 mm (±1°C) |
| 가열 속도 | ≤ 20°C/분 |
| 가열 요소 | 몰리브덴 도핑 Fe-Cr-Al 합금 |
| 표준 처리 튜브 | 용융 석영: 130 mm OD x 120 mm ID x 1400 mm L |
| 옵션 튜브 크기 | 80 mm 및 100 mm 직경 사용 가능 |
| 온도 제어 | MET 인증 PID 컨트롤러, 30단계 프로그래밍 가능 |
| 온도 정확도 | ± 1°C |
| 열전대 | K-타입 |
| 전력 출력 | 7.0 KW |
| 입력 전압 | AC 208-240V 단상, 50/60 Hz |
| 진공도 | 10^-2 torr (기계식 펌프); 최대 10^-5 torr (분자 펌프) |
| 진공 플랜지 | 이중 실리콘 O-링 및 니들 밸브가 포함된 SS304 한 쌍 |
| 케이싱 구조 | 공랭식 이중 레이어 강철 (표면 온도 ≤ 60°C) |
| 단열재 | 내화 코팅이 된 고순도 섬유질 알루미나 |
| 통신 | RS485 포트 (옵션 MTS02-Y 소프트웨어 및 노트북 패키지) |
| 안전 기능 | 과열 방지, 열전대 단선 경보, PID 자동 튜닝 |
TU-26을 선택해야 하는 이유
- 입증된 열 안정성: 이 시스템은 240mm의 매우 일관된 항온 존을 제공하도록 설계되어 전체 처리 주기 동안 샘플이 균일한 열 조건을 경험하도록 보장합니다.
- 프리미엄 빌드 품질: 고순도 알루미나 단열재부터 스테인리스 스틸 304 진공 플랜지에 이르기까지, 모든 부품은 고온 산업 R&D의 가혹함을 견딜 수 있도록 선택되었습니다.
- 다양한 통합성: 슬라이딩 플랜지, 고급 Eurotherm 컨트롤러(±0.1°C 정확도) 및 특수 진공 펌프 키트 옵션을 통해 모든 재료 과학 연구소의 특정 요구 사항을 충족하도록 맞춤화할 수 있습니다.
- 안전 우선 엔지니어링: 이중 레이어 강철 케이싱과 고급 경보 시스템은 안심할 수 있는 환경을 제공하여 지속적인 감독 없이도 장시간 처리가 가능하며, 시설의 운영 처리량을 증가시킵니다.
- 산업용 확장성: 대형 5인치 석영 튜브와 강력한 전력 공급의 조합으로 이 퍼니스는 초기 학술 연구와 소규모 산업 생산 모두에 적합합니다.
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