1200°C 슬라이딩 튜브 퍼니스 (급속 열처리 및 100mm 외경 CVD 그래핀 성장용)

제품 개요

이 고성능 열처리 시스템은 첨단 소재 과학 연구를 위해 설계되었으며, 특히 급속 열처리(RTP) 및 화학 기상 증착(CVD)의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 제작되었습니다. 전동 슬라이딩 메커니즘과 고온 튜브 퍼니스를 통합하여 가열 구역과 냉각 구역 간의 즉각적인 전환이 가능합니다. 이 기능은 박막 성장, 반도체 도핑, 고순도 나노 구조 합성 등 재료의 최종 특성에 정밀한 열 이력이 중요한 연구 분야에서 필수적입니다.

다양성과 확장성에 최적화된 이 시스템은 그래핀, 탄소 나노튜브 및 기타 2차원 소재의 CVD 성장을 전문으로 하는 실험실을 위한 최고의 선택입니다. 슬라이딩 레일 설계는 고정식 퍼니스 구성에서는 달성하기 어려운 초고속 가열 및 급랭 속도를 가능하게 합니다. 이 장치는 진공 및 저압 환경을 포함한 다양한 대기 조건에서 새로운 재료 상을 탐색하고 높은 재현성으로 성장 매개변수를 최적화하는 데 필요한 민첩성을 제공합니다.

산업용 등급의 부품과 장기적인 신뢰성에 중점을 두고 제작된 이 장비는 까다로운 R&D 일정 속에서도 일관된 성능을 보장합니다. 견고한 기계적 구조와 고급 PLC 로직이 결합되어 복잡한 열 사이클을 위한 안정적인 플랫폼을 제공합니다. 학술 연구나 산업 제품 개발 등 어떤 환경에서도 이 시스템은 고온 재료 처리 및 반도체 공학 분야의 혁신을 주도하는 데 필요한 정밀도, 안전 기능 및 구조적 무결성을 제공합니다.

주요 특징

• 정밀 전동 슬라이딩 메커니즘: 이 시스템은 퍼니스 본체가 튜브 축을 따라 빠르게 이동할 수 있는 고정밀 슬라이딩 레일을 갖추고 있습니다. 이를 통해 시료는 고정된 상태에서 열 환경만 즉각적으로 변화시킬 수 있어, 초당 최대 3°C의 냉각 속도를 구현하고 산업용 급속 열처리 공정을 모사할 수 있습니다.
• 고급 PLC 및 터치스크린 인터페이스: 직관적인 터치스크린 인터페이스를 갖춘 정교한 프로그래머블 로직 컨트롤러(PLC)가 모든 작동 매개변수를 관리합니다. 사용자는 슬라이딩 속도를 쉽게 조정하고, 자동 이동 시퀀스를 설정하며, 퍼니스 동작을 특정 온도 프로그램 세그먼트와 동기화하여 완전한 자동 운전이 가능합니다.
• 최적화된 급속 열처리(RTP): RTP 응용 분야를 위해 특별히 설계된 이 장치는 최대 10°C/min의 가열 속도와 매우 빠른 급랭이 가능합니다. 가열 구역을 시료 영역에서 멀리 이동시킬 수 있어 500°C에서 100°C까지 초당 최대 3°C의 속도로 급속 냉각할 수 있으며, 이는 첨단 합금의 준안정 상을 보존하는 데 매우 중요합니다.
• 통합 CVD 성장 기능: 열 및 대기 제어 시스템은 그래핀 및 탄소 나노튜브의 CVD 성장을 위한 이상적인 플랫폼입니다. 가스 흐름, 400mm 가열 구역 내의 온도 균일성, 빠른 사이클 타임에 대한 정밀한 제어는 나노 소재 합성의 처리량과 품질을 크게 향상시킵니다.
• 강력한 진공 및 대기 밀봉: 이중 O-링 씰과 나사식 압축 기능을 갖춘 스테인리스 스틸 진공 플랜지를 통해 높은 진공 무결성을 유지합니다. 분자 펌프 사용 시 10^-5 torr 수준의 진공을 지원하여 산소에 민감한 공정 및 고순도 대기 제어에 적합합니다.
• 듀얼 PID 온도 제어: 열 관리 시스템은 50개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 갖춘 두 개의 자동 PID 컨트롤러를 사용합니다. 이를 통해 ±1°C의 정확도를 보장하고 온도 오버슈트를 방지하여 민감한 시료를 보호하며, 다양한 유지 시간과 램프 속도 전반에 걸쳐 실험 결과의 재현성을 보장합니다.
• 포괄적인 안전 보호 장치: 과열 방지 및 열전대 단선 경고를 포함한 내장된 안전 프로토콜에 엔지니어링 우수성이 반영되어 있습니다. 기계적 슬라이딩 범위는 정밀 리미트 스위치에 의해 제어되어 하드웨어 간섭을 방지하고 고속 이동 중에도 안전한 작동을 보장합니다.
• 유연한 튜브 구성 지원: 이 퍼니스는 25mm에서 100mm 외경까지 다양한 석영 튜브 직경을 수용하도록 설계되었습니다. 이러한 유연성 덕분에 연구자들은 핵심 열처리 장치를 변경하지 않고도 소규모 시료 타당성 테스트에서 대규모 배치 처리까지 실험 규모를 확장할 수 있습니다.
• 향상된 데이터 로깅 및 PC 연결: 상세한 공정 분석을 위해 DB9 PC 통신 포트와 MTS-02 제어 모듈이 포함되어 있습니다. 이를 통해 연결된 컴퓨터를 통해 원격 모니터링, 데이터 수집 및 복잡한 프로파일 프로그래밍이 가능하며, 이는 R&D 반복 과정을 기록하는 데 필수적입니다.

응용 분야

기술 사양

이 슬라이딩 튜브 퍼니스를 선택해야 하는 이유

• 입증된 엔지니어링 신뢰성: 가장 까다로운 R&D 환경을 위해 제작된 이 퍼니스는 프리미엄 등급의 가열 요소와 강화된 전동 레일 시스템을 사용하여 정밀도나 성능 저하 없이 수천 번의 사이클을 보장합니다.
• 탁월한 열 민첩성: 느린 자연 대류 냉각에 의존하는 표준 튜브 퍼니스와 달리, 이 시스템의 슬라이딩 설계는 최첨단 소재 공학 및 반도체 연구에 필요한 열충격 및 급속 급랭 기능을 제공합니다.
• 완벽하게 통합된 제어 로직: PID 온도 컨트롤러와 PLC 동작 시스템 간의 원활한 통합으로 수동 개입이 필요하고 인적 오류의 위험이 있는 복잡한 다단계 레시피를 자동화할 수 있습니다.
• 비교할 수 없는 다재다능함: CVD 그래핀 성장부터 급속 열처리에 이르기까지, 이 장비는 다양한 튜브 직경과 높은 진공 호환성을 통해 광범위한 실험 설정을 지원하므로 모든 실험실을 위한 미래 지향적인 투자입니다.
• 글로벌 규정 준수 및 지원: CE 인증 및 NRTL/CSA 업그레이드 옵션을 통해 당사의 장비는 국제 연구 기관 및 산업 시설의 가장 엄격한 안전 표준을 충족하며, 당사의 신속한 기술 지원 팀이 이를 뒷받침합니다.

포괄적인 견적을 받으시거나 귀하의 특정 연구 요구 사항에 맞는 맞춤형 열처리 솔루션에 대해 논의하시려면 지금 바로 당사 기술 영업 팀에 문의하십시오.