1200C 고온 수직 슬라이딩 퍼니스, 급속 열처리 및 진공 튜브 하이브리드 기능

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1200C 고온 수직 슬라이딩 퍼니스, 급속 열처리 및 진공 튜브 하이브리드 기능

품목 번호: TU-C04

최대 온도: 1200°C (연속) RTP 사이클 속도: ~1°C/초 (가열 및 냉각) 챔버 용량: 4.2 리터 (하이브리드 박스/튜브)
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제품 개요

제품 이미지 1

이 고성능 열처리 시스템은 기존 머플 박스 퍼니스의 견고한 부피와 진공 튜브 시스템의 정밀한 분위기 제어를 결합하여 실험실 퍼니스의 다용성에서 상당한 발전을 이루었습니다. 까다로운 재료 연구를 위해 설계된 이 장비는 소결, 어닐링 및 화학 기상 증착 공정을 위한 최적화된 환경을 제공합니다. 독특한 설계로 연구원들은 단일 통합 플랫폼 내에서 벌크 재료 처리와 특수 제어 분위기 실험 간의 격차를 해소할 수 있습니다.

이 시스템의 핵심 가치는 급속 열처리(RTP)를 용이하게 하는 능력에 있습니다. 수직 슬라이딩 메커니즘을 활용하여 이 장치는 표준 실험실 퍼니스보다 훨씬 뛰어난 가열 및 냉각 속도를 달성할 수 있어 상전이 및 급랭 동역학을 연구하는 재료 과학자에게 필수적인 도구입니다. 이 장비는 정밀성과 반복성이 가장 중요한 산업 R&D 센터, 반도체 실험실 및 첨단 야금 시설에서 사용하도록 설계되었습니다.

산업 등급 부품과 장기 작동 안정성에 중점을 두고 제작된 이 퍼니스는 엄격한 작업 주기 하에서도 일관된 성능을 보장합니다. 고순도 알루미나 섬유 단열재와 고급 발열체는 우수한 온도 균일성을 유지하면서 최대 에너지 효율을 제공하도록 선택되었습니다. 이 장치는 실험 무결성을 손상시킬 수 있는 사소한 온도 편차조차도 중요한 연구에 필요한 신뢰성과 기술적 정교함을 제공합니다.

주요 특징

  • 통합 급속 열처리(RTP) 메커니즘: 시스템에는 특수 후면 장착 이동 어셈블리가 있어 진공 밀봉된 처리 튜브를 예열된 가열 영역에 즉시 삽입하거나 제거할 수 있습니다. 이 엔지니어링을 통해 초당 약 1°C의 가열 및 냉각 속도를 달성할 수 있으며, 이는 급랭 응용 분야 및 준안정상 연구에 필수적입니다.

  • 듀얼 모드 작동 다용성: 이 장비는 4.2리터 박스 퍼니스와 고진공 튜브 퍼니스 역할을 모두 수행합니다. 상단 액세스 포트에는 교체 가능한 석영 튜브가 장착되어 있어 사용자가 별도의 열 장치 없이 벌크 세라믹의 공기 분위기 처리에서 박막의 고순도 가스 제어 처리로 전환할 수 있습니다.

  • 정밀 PID 온도 제어: 고급 디지털 컨트롤러는 자동 튜닝 기능이 있는 비례-적분-미분(PID) 로직을 사용하여 ±1.0°C의 안정성을 유지합니다. 램핑, 유지 및 냉각을 위한 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 통해 복잡한 열 프로파일을 완벽하게 제어할 수 있습니다.

  • 고순도 석영 진공 환경: 스테인리스 스틸 진공 플랜지가 있는 선택 사양 50mm 또는 80mm OD 석영 튜브를 사용하면 고진공 또는 제어된 불활성 가스 분위기에서 처리할 수 있습니다. 이는 고온 주기 동안 민감한 재료를 산화 및 오염으로부터 보호합니다.

  • 견고한 안전 및 모니터링 시스템: 퍼니스에는 과열 경보 및 열전대 고장 보호 기능이 내장되어 있습니다. K형 열전대는 최대 정격 온도인 1200°C에서 작동할 때에도 장기간의 정확성과 내구성을 보장하기 위해 세라믹 슬리브로 보호됩니다.

  • 향상된 분위기 제어: 진공 플랜지에는 디지털 진공 게이지 및 1/4" 니들 밸브용 KF16 포트가 내장되어 있어 정밀한 가스 유입 관리가 가능합니다. 이를 통해 내부 환경을 세심하게 제어하여 불활성 가스 퍼지 또는 반응 분위기 합성과 같은 공정을 지원할 수 있습니다.

  • 고효율 단열 및 가열: 프리미엄 알루미나 섬유 단열재와 고품질 발열체를 사용하여 표준 가열 속도 30°C/분으로 열 손실을 최소화하여 안전한 실험실 환경과 낮은 에너지 소비를 보장합니다.

  • PC 연결 및 데이터 로깅: 기본 DB9 통신 포트와 특수 소프트웨어를 통해 원격 PC 작동 및 실시간 데이터 수집이 가능하여 연구원이 규정 준수 및 품질 관리를 위해 열 주기를 문서화하고 분석할 수 있습니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
반도체 어닐링 실리콘 웨이퍼 및 박막 전자 장치의 급속 열처리를 통해 도펀트를 활성화합니다. 빠른 램프 속도는 원치 않는 확산을 방지하면서 결정 무결성을 보장합니다.
급랭 연구 금속 합금 또는 고급 세라믹을 고온에서 실온으로 빠르게 냉각합니다. 수직 리프트 메커니즘을 통해 초당 1°C의 냉각 속도로 준안정 미세 구조를 동결할 수 있습니다.
화학 기상 증착 (CVD) 진공 튜브 모드를 사용하여 기판에 고순도 코팅을 증착합니다. 정밀한 분위기 제어 및 진공 안정성은 균일한 필름 두께를 보장합니다.
첨단 세라믹 소결 박스 퍼니스 챔버에서 기술 세라믹 부품의 고온 처리. 우수한 온도 균일성은 일관된 재료 밀도와 강도를 제공합니다.
배터리 재료 합성 산화를 방지하기 위해 제어된 불활성 가스 하에서 양극 또는 음극 분말을 하소합니다. 듀얼 모드 기능을 통해 분말 합성에서 튜브 기반 테스트로 전환할 수 있습니다.
야금 연구 새로운 합금 조성물의 열 응력 및 상 변태 테스트. 30세그먼트 프로그래밍 가능한 제어를 통해 복잡한 다단계 열처리 주기를 수행할 수 있습니다.
치과 재료 처리 깨끗한 환경에서 지르코니아 및 기타 치과용 세라믹의 고온 소성. 고순도 챔버 재료는 심미적 요소의 오염 및 변색을 방지합니다.

기술 사양

매개변수 TU-C04-2 (2" 튜브 변형) TU-C04-3 (3" 튜브 변형)
최대 온도 1200°C (공기/불활성), 1000°C (진공) 1200°C (공기/불활성), 1000°C (진공)
연속 작동 온도 100°C - 1200°C 100°C - 1200°C
챔버 치수 150mm(D) x 155mm(W) x 180mm(H) 150mm(D) x 155mm(W) x 180mm(H)
챔버 용량 4.2리터 (0.44 입방피트) 4.2리터 (0.44 입방피트)
가열 속도 (표준) 30°C / 분 30°C / 분
RTP 가열/냉각 속도 ~ 1°C / 초 ~ 1°C / 초
온도 안정성 ± 1.0°C ± 1.0°C
열전대 유형 세라믹 슬리브가 있는 K형 세라믹 슬리브가 있는 K형
석영 튜브 치수 50 OD x 44 ID x 263 L (mm) 80 OD x 73 ID x 263 L (mm)
진공 연결 KF16 포트 KF16 포트
가스 연결 1/4" 니들 밸브 1/4" 니들 밸브
전원 공급 장치 208-240V 단상, 50/60 Hz 208-240V 단상, 50/60 Hz
최대 전력 2.5 KW 2.5 KW
온도 컨트롤러 자동 튜닝 기능이 있는 30세그먼트 PID 자동 튜닝 기능이 있는 30세그먼트 PID
규정 준수 CE 인증 (NRTL/CSA 선택 사항) CE 인증 (NRTL/CSA 선택 사항)

왜 우리를 선택해야 하는가

  • 비교할 수 없는 공정 유연성: 몇 분 안에 대용량 박스 퍼니스와 고진공 튜브 퍼니스 간을 전환할 수 있는 능력은 다학제 연구 실험실에 비교할 수 없는 가치를 제공합니다.
  • 우수한 열 관리: 당사의 급속 열처리 메커니즘은 정밀도와 속도를 위해 설계되어 표준 퍼니스로는 처리할 수 없는 복잡한 급랭 및 고속 가열 프로토콜을 수행할 수 있습니다.
  • 정밀 엔지니어링 및 제작 품질: 고순도 알루미나 단열재부터 스테인리스 스틸 진공 플랜지까지 모든 구성 요소는 극한의 열 응력을 견디고 수년간 안정적인 서비스를 제공할 수 있도록 선택되었습니다.
  • 포괄적인 제어 및 안전: 30세그먼트 PID 컨트롤러와 통합 안전 경보의 조합은 실험이 정확할 뿐만 아니라 하드웨어 고장 또는 온도 과잉으로부터 안전하도록 보장합니다.
  • 전문 기술 지원: THERMUNITS는 이 장비가 산업 또는 학술 연구의 특정 요구 사항을 충족하도록 심층적인 기술 전문 지식과 사용자 정의 옵션을 제공합니다.

자세한 견적을 받거나 특정 재료 요구 사항에 맞는 맞춤형 열처리 솔루션을 논의하려면 지금 기술 영업팀에 문의하십시오.

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