제품 개요
이 고성능 슬라이딩형 급속 열처리(RTP) 튜브로는 극단적인 승온 및 냉각 속도가 필요한 재료과학 연구자를 위해 특수 설계된 실험실 규모 열처리 기술의 상당한 발전을 보여줍니다. 정교한 적외선(IR) 램프 어레이와 정밀 가공된 슬라이딩 메커니즘을 활용하여 이 시스템은 현대 2차원 소재, 반도체 웨이퍼, 고급 박막 합성에 필수적인 빠른 열 사이클을 구현합니다. 이 장비의 핵심 가치는 뛰어난 열 구배 관리를 통해 정확한 상전이와 제어된 결정 성장을 구현할 수 있다는 점입니다.
가장 까다로운 산업 연구개발 환경에 맞춰 설계된 이 장치는 특히 화학기상증착(CVD)을 통한 그래핀 및 탄소나노튜브(CNT) 성장과 페로브스카이트 태양전지 특수 제작에 매우 효과적입니다. 다용도 설계로 진공 또는 제어된 대기 조건에서 작동할 수 있어 다양한 열처리 공정에 유연한 플랫폼을 제공합니다. 고순도 석영 부품과 스테인리스 스틸 진공 하드웨어의 통합으로 민감한 전자 및 광학 소재에 대한 깨끗하고 오염 없는 공정 환경을 보장합니다.
신뢰성과 일관성은 이 시스템 설계의 최우선 순위입니다. 이중층 강철 케이싱과 능동 공냉식 시스템은 고온 작동 중에도 구조적 무결성과 외부 안전성을 유지하도록 설계되었습니다. 할로겐 라이트 튜브부터 DC 모터 구동 슬라이딩 레일까지 모든 부품은 반복 열응력 하에서의 내구성과 성능을 고려해 선정되었습니다. 이를 통해 수천 시간의 작동 시간 동안 반복 가능한 결과를 제공하여 조달팀과 수석 연구자가 실험 데이터와 공정 확장성에 완전한 신뢰를 가질 수 있습니다.
주요 특징
- 고강도 IR 램프 가열: 시스템은 8개의 1kW 할로겐 라이트 튜브 어레이를 활용하여 최대 50ºC/s의 초고속 승온 속도를 구현합니다. 이를 통해 연구자는 몇 초 만에 공정 온도에 도달할 수 있어 열 예산을 최소화하고 민감한 반도체 층에서 원치 않는 확산을 방지합니다.
- 자동 슬라이딩 냉각 메커니즘: 통합된 이중 슬라이딩 레일을 통해 프로그램 완료 시 로 본체가 시료 영역에서 자동으로 이동합니다. 통합 냉각 팬과 결합하여 8ºC/s를 초과하는 빠른 냉각 속도를 구현하며, 이는 상 퀀칭이나 화학 반응을 즉시 중지하는 데 매우 중요합니다.
- 정밀 PID 열 제어: 고급 디지털 컨트롤러는 30개의 프로그래밍 가능 세그먼트를 지원하여 복잡한 승온, 유지 및 냉각 프로파일을 구현할 수 있습니다. ±1ºC의 정확도로 모든 공정 실행이 정의된 열 매개변수를 엄격히 준수하도록 보장합니다.
- 최적화된 진공 및 가스 처리: 스테인리스 스틸 진공 플랜지와 내장 니들 밸브가 장착되어 있어 분자 펌프 사용 시 10^-4 torr까지의 진공 레벨을 지원합니다. 힌지 타입 오른쪽 플랜지 설계로 시료 로딩 및 언로딩이 쉽고, 통합 디지털 진공 게이지로 챔버 조건을 실시간 모니터링할 수 있습니다.
- 견고한 이중층 구조: 로는 공냉 채널이 있는 이중층 강철 케이싱을 특징으로 합니다. 이 설계는 장시간 가열 중 내부 부품을 보호할 뿐만 아니라 외부 쉘이 안전한 온도를 유지하여 현대 실험실 안전 표준을 준수합니다.
- 이중 열전대 모니터링: 장치에는 2개의 K형 열전대가 포함되어 있습니다. 하나는 로 온도 조절을 위한 PID 컨트롤러 전용이고, 두 번째는 시료 구역에 직접 삽입하여 빠른 승온 및 냉각 사이클 중 실제 소재 온도를 정밀하게 모니터링합니다.
- 확장 가능한 PC 인터페이스: 내장 RS485 통신 포트와 포함된 MTS-02 제어 모듈을 통해 PC를 통한 원격 작동 및 데이터 로깅이 가능합니다. 이를 통해 연구자는 문서화 및 품질 관리를 위해 열 프로파일을 내보낼 수 있습니다.
적용 분야
| 적용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 그래핀 합성 | 금속 포일 위에 단층 및 다층 그래핀을 성장시키기 위한 고온 CVD 공정 | 빠른 승온 속도가 제어된 핵생성과 큰 결정립 크기를 촉진합니다 |
| 탄소나노튜브 합성 | 기상 증착을 이용한 제어된 탄소나노튜브 성장 | 정밀 온도 제어가 균일한 직경과 높은 순도를 보장합니다 |
| 페로브스카이트 태양전지 | 광전지 연구를 위한 페로브스카이트 박막의 열 어닐링 및 결정화 | 빠른 냉각이 막 열화를 방지하고 결정 구조를 최적화합니다 |
| 웨이퍼 어닐링 | 직경 최대 3인치 반도체 웨이퍼에 대한 급속 열 어닐링(RTA) | 이온 주입된 종을 활성화하면서 도펀트 확산을 최소화합니다 |
| 2차원 소재 연구 | MoS2, WS2 및 기타 전이금속 칼코겐화물 처리 | 고속 열 순환으로 준안정 상 탐색이 가능합니다 |
| CVD 박막 | 진공 또는 저압 가스 흐름 하에서 특수 코팅 증착 | 통합 유량계와 진공 플랜지가 턴키 CVD 솔루션을 제공합니다 |
기술 사양
| 매개변수 | TU-RT26의 사양 세부정보 |
|---|---|
| 모델 번호 | TU-RT26 |
| 로 구조 | 공냉식 이중층 강철 케이싱; 통합 자동 슬라이딩 레일 |
| 최고 온도 | 900°C (1시간 미만 사용 시) |
| 표준 작동 온도 | 800ºC (120분 미만); 600ºC (연속 작동) |
| 승온 속도 | 최대 50 ºC/s |
| 냉각 속도 | 최대 8 ºC/s (슬라이딩 방식 1000 - 600ºC 범위) |
| 가열 요소 | 1Kw 할로겐 라이트 튜브 8개 (수명 2000시간; 가열 길이 200mm) |
| 공정 튜브 | 고순도 용융 석영; 외경 100mm x 내경 94mm x 길이 1400mm |
| 전원 요구사항 | AC 208-240V 단상, 50/60 Hz; 총 전력 9KW |
| 슬라이딩 시스템 | DC 모터 구동; 레일 길이 1200mm; 슬라이딩 범위 340mm |
| 슬라이딩 속도 | 0-70 mm/s (제어 노브 또는 자동 프로그램으로 조정 가능) |
| 온도 제어 | PID 자동 컨트롤러; 30개의 프로그래밍 가능 세그먼트; ±1 ºC 정확도 |
| 열전대 | 이중 K형 (직경 1/4인치 x 길이 24인치); 제어 및 시료 모니터링 |
| 진공 시스템 | 스테인리스 스틸 플랜지; 힌지 타입 오른쪽 플랜지; KF25 직각 밸브 |
| 진공 레벨 | 10^-2 torr (기계식 펌프); 10^-4 torr (분자 펌프) |
| 가스 관리 | 내장 유량계 (16-160 ml/min); 니들 밸브 가스 피팅 |
| 통신 | RS485 포트; MTS-02 제어 모듈 포함 |
| 인증 준수 | CE 인증 완료; 요청 시 NRTL(UL61010) 또는 CSA 인증 가능 |
저희 제품을 선택해야 하는 이유
- 뛰어난 열 민첩성: 기존 튜브로와 달리 이 장치의 IR 가열 기술과 자동 슬라이딩 냉각은 비교할 수 없는 열 구배를 구현하여 공정 주기를 크게 단축하고 고급 소재 합성을 가능하게 합니다.
- 산업 등급 신뢰성: 고순도 석영과 크롬 도금 강철 레일을 포함한 프리미엄 부품으로 제작된 이 시스템은 바쁜 연구 및 생산 환경에서 높은 부하 사이클에 맞게 설계되었습니다.
- 정밀 엔지니어링: 힌지 타입 진공 플랜지부터 이중 열전대 모니터링까지 설계의 모든 측면이 기술 성능을 손상시키지 않으면서 사용 편의성을 위해 최적화되었습니다.
- 턴키 통합: 내장 진공 게이지, 유량계 및 PC 제어 모듈을 갖춘 이 시스템은 CVD 및 RTA 응용 분야에 즉시 배포할 수 있는 상태로 제공됩니다.
- 글로벌 규정 준수 및 지원: CE 인증으로 국제 안전 기준을 충족하며, 맞춤화 및 장기 유지보수 지원을 위해 응답 빠른 기술팀이 뒷받침합니다.
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