급속 열처리 급속 가열 냉각을 위한 슬라이딩 플랜지 및 50mm 외경을 갖춘 1500℃ 고온 튜브로

제품 개요

이 고온 열처리 시스템은 기존 튜브로와 급속 열처리(RTP) 장치 간의 격차를 해소하기 위해 특별히 설계되었습니다. 수동 슬라이딩 레일 메커니즘과 고성능 1500°C 가열 챔버를 통합함으로써 연구자가 처리 튜브를 고온 구역에 즉시 넣고 빼낼 수 있습니다. 이 기능은 미세구조 제어가 정적 열 시스템의 능력을 초과하는 정밀한 가열 및 냉각 속도에 의존하는 재료과학 응용 분야에서 매우 중요합니다. 이 제품의 가치는 자동화 RTP 시스템보다 훨씬 저렴한 비용으로 극한 온도 구배를 구현할 수 있어 첨단 재료 합성을 위한 다용도 도구를 제공한다는 것입니다.

이 장비의 주요 사용 사례는 고체 전해질 개발, 반도체 어닐링, 첨단 세라믹의 상 변태 연구입니다. 목표 산업 분야는 항공우주, 에너지 저장부터 마이크로전자공학 및 산업 연구개발 실험실까지 다양합니다. 이 장치의 설계는 유연성을 우선시하여 다양한 분위기 및 온도 요구 사항을 수용하기 위해 뮬라이트와 석영 튜브를 모두 지원합니다. 예열된 챔버에 빠르게 삽입하거나 강제 공랭을 위해 즉시 추출할 수 있기 때문에 이 시스템은 반복적인 실험 워크플로우에 필요한 작동 유연성을 제공합니다.

이 장비는 견고한 구조와 고급 부품을 통해 신뢰성을 보장합니다. 1500°C 등급 탄화규소(SiC) 발열체와 이중 S형 열전대를 사용하여 까다로운 열 사이클 하에서도 일관된 성능을 보장합니다. 크롬 도금 강철로 제작된 이중 슬라이딩 레일은 장기간 작동에도 부드럽고 안정적인 움직임을 보장합니다. 고진공 또는 불활성 가스 환경에서 작동하더라도 이 퍼니스는 고위험 산업 연구와 품질 민감 재료 생산에 필요한 정밀도와 신뢰성을 제공합니다.

주요 특징

• 급속 열처리 기능: 통합 슬라이딩 레일을 통해 처리 튜브를 예열된 퍼니스에 수동으로 이동시켜 거의 순간적으로 가열하거나 후퇴시켜 냉각을 가속화할 수 있어 사이클 시간을 크게 단축시킵니다.
• 이중 컨트롤러 온도 관리: 30개의 프로그램 가능한 세그먼트를 갖춘 2개의 독립적인 디지털 온도 컨트롤러가 퍼니스 온도를 관리하고 샘플의 실시간 프로파일을 모니터링하여 최대 공정 투명성을 보장합니다.
• 정밀 SiC 발열체: 4개의 고급 1500°C 탄화규소 로드가 장착된 이 퍼니스는 1400°C까지 연속 작동하고 1500°C에서 간헐적으로 사용할 수 있도록 안정적이고 일정한 열에너지를 제공합니다.
• 첨단 진공 밀봉 기술: 디지털 게이지가 내장된 스테인리스 스틸 진공 플랜지를 특징으로 하며, 분자 펌프와 결합하면 10E-5 torr까지 낮은 진공도를 달성할 수 있어 산소에 민감한 공정에 이상적입니다.
• 교체 가능한 처리 튜브: 미국산 뮬라이트 튜브와 고순도 석영 튜브가 모두 포함되어 있어 사용자가 특정 온도 및 화학 적합성 요구 사항에 최적의 재료를 선택할 수 있습니다.
• 실시간 열 피드백: 내부 S형 열전대에 더해 튜브에 직접 삽입된 2차 프로브가 샘플의 실제 열 환경에 대한 정확한 1:1 판독값을 제공합니다.
• 산업 등급 슬라이딩 레일: 350mm 크롬 도금 강철 이중 레일 시스템은 고속 열 전이 과정에서 튜브를 수동으로 이동시킬 때 안정적이고 부드러운 기계 인터페이스를 제공합니다.
• 컴퓨터화 제어 인터페이스: 통합 RS485 포트를 통해 실험실 소프트웨어와 전체 시스템을 통합할 수 있으며 복잡한 열 레시피의 자동 데이터 로깅과 원격 관리를 가능하게 합니다.
• 향상된 안전 구조: 내장된 과온 알람과 자동 보호 회로를 통해 지속적인 감시 없이도 안전하게 작동할 수 있으며 장비와 샘플을 모두 보호합니다.
• 최적화된 항온 구역: 가열 구역 설계로 ±1°C 범위 내에서 100mm의 안정적인 영역을 제공하여 샘플 전체 길이에 걸쳐 균일한 열 분포를 보장합니다.

응용 분야

기술 사양

저희를 선택해야 하는 이유

• 타의 추종을 불허하는 열 민첩성: 수동 슬라이딩 설계는 고가의 자동화 RTP 시스템에 비해 비용 효율적인 대안을 제공하며 급속 재료 스크리닝을 위해 초당 16°C까지의 냉각 속도와 초당 30°C까지의 가열 속도를 제공합니다.
• 정밀 엔지니어링 및 모니터링: 이중 S형 열전대와 독립적인 컨트롤러를 갖춘 이 시스템은 퍼니스 환경과 내부 튜브 조건 모두에 대한 실시간 데이터를 제공하여 추측을 없앱니다.
• 고진공 및 청정 공정: 스테인리스 스틸 밀봉 기술과 디지털 모니터링을 통해 10E-5 torr까지의 초청정 공정을 가능하게 하며 이는 고순도 반도체 및 전해질 연구에 필수적입니다.
• 내구성 있는 산업용 구조: 크롬 도금 강철 레일과 고급 SiC 발열체로 제작된 이 시스템은 집약적인 24/7 연구개발 환경에서도 수명과 일관된 성능을 보장하도록 설계되었습니다.
• 다용도 재료 호환성: 고온 뮬라이트와 고순도 석영 튜브가 모두 포함되어 있어 박스에서 꺼낸 즉시 다양한 화학적 및 열적 요구 사항에 사용할 수 있습니다.

이 급속 열처리 시스템에 투자하면 차세대 재료 개발에 필요한 속도와 정밀도를 연구실이 갖출 수 있습니다. 특정 연구 매개변수에 맞춘 맞춤 구성에 대해 논의하거나 자세한 견적을 원하시면 오늘 기술 영업팀에 문의하십시오.