제품 개요


이 고처리량 열처리 시스템은 여러 시료의 동시 열처리를 위해 특별히 설계된 재료과학 연구 분야의 상당한 발전을 보여주는 제품입니다. 하나의 컴팩트한 공간에 6개의 독립적인 퍼니스 모듈을 통합함으로써, 연구자들이 병렬 실험을 수행할 수 있게 하여 합금 개발 및 세라믹 특성 분석에 필요한 시간을 획기적으로 단축합니다. 이 시스템은 여러 열구배 또는 동일한 공정 조건을 여러 배치에 걸쳐 유지할 수 있는 다용도 플랫폼을 제공하도록 설계되었아며, 고효율 생산성을 추구하는 연구실에 필수적인 장비입니다.
야금, 반도체 제조, 고기능 세라믹 등의 산업을 목표로 개발된 이 제품은 복잡한 상 다이어그램 연구와 차세대 재료 합성을 용이하게 합니다. 어닐링, 소결 또는 분위기 제어 합성에 사용되더라도 6개의 모든 공정 채널이 최고 수준의 열 안정성으로 작동합니다. 고순도 석영 용기와 정밀 진공 플랜지를 통합하여 고진공 또는 특정 분위기 조건에서 실험을 수행할 수 있으며, 이는 현대 산업 연구개발의 엄격한 요구 사항을 충족합니다.
까다로운 연구실 환경에 맞춰 제작된 이 시스템은 신뢰성과 성능 일관성을 최우선으로 합니다. 각 가열 모듈은 견고한 소재와 고급 단열재로 제작되어 채널 간 열 간섭을 최소화하여, 한 실험의 매개변수가 다른 실험의 결과에 영향을 미치지 않도록 보장합니다. 최대 작동 온도가 1200℃이고 정교한 디지털 제어 인터페이스를 갖춘 이 시스템은 전문 연구 환경에서 필요한 장시간 열 사이클 및 반복 테스트 프로토콜에 필요한 신뢰성을 제공합니다.
주요 특징
- 6채널 독립 아키텍처: 시스템은 각각 고유한 열 프로파일로 프로그래밍할 수 있는 6개의 개별 퍼니스 모듈로 구성됩니다. 이를 통해 하나의 로컬 워크스테이션 내에서 서로 다른 온도나 유지 시간과 같은 다양한 변수를 동시에 테스트할 수 있으며, 여러 개의 개별 퍼니스를 필요로 하지 않고도 연구실 처리량을 최대화합니다.
- 고순도 석영 열 챔버: 각 채널에는 뛰어난 화학적 안정성과 열충격 저항성으로 선택된 프리미엄 외경 50mm 석영 튜브가 장착되어 있습니다. 이 튜브는 격리된 반응 용기로 작동하여 교차 오염을 방지하고, 섬세한 재료 합성과 고순도 어닐링 공정에 필수적인 깨끗한 환경을 제공합니다.
- 정밀 PID 온도 제어: 모든 개별 모듈은 24세그먼트 디지털 프로그래밍 가능 컨트롤러로 제어되며 ±1.0℃의 높은 온도 정확도를 제공합니다. 이러한 세밀한 제어를 통해 복잡한 가열 및 냉각 램프를 구현할 수 있으며, 이는 민감한 합금 및 상전이 세라믹 재료 개발에 매우 중요합니다.
- 통합 분위기 및 진공 관리: 이 장비는 단일 진공 펌프가 KF25 포트를 통해 6개 채널 모두에 서비스를 제공할 수 있는 중앙 집중식 진공 아키텍처를 특징으로 합니다. 고정밀 기계식 진공 게이지와 니들 밸브가 장착된 이 시스템은 가스 유량과 압력 수준을 미세 조정할 수 있으며, �보 펌프와 결합하면 10^-5 torr까지 낮은 진공을 구현할 수 있습니다.
- 고급 Ni-Cr-Al 가열 요소: 특수 Ni-Cr-Al 저항 와이어를 활용하여 퍼니스는 분당 최대 20℃의 빠른 가열 속도를 달성합니다. 이 가열 요소는 고온에서 장기간 내구성을 갖도록 설계되어 일관된 복사 열전달을 보장하고 다사용 사이클 중 유지보수 다운타임을 최소화합니다.
- 통합 디지털 통신 및 PC 제어: RS485 통신 포트와 전용 PC 소프트웨어가 포함되어 있어 단일 노트북에서 6개 채널 모두를 중앙에서 모니터링하고 기록할 수 있습니다. 이 기능은 산업 연구개발 환경에서 추적성, 데이터 로깅 및 복잡한 열 레시피의 원격 관리에 필수적입니다.
- 고속 밀봉 플랜지 기술: 각 석영 튜브는 퀵 클램프 KF25 플랜지로 고정되어 빠른 시료 로딩 및 언로딩이 가능합니다. 이 기능은 실험 실행 간 대기 시간을 최소화하고 질소, 아르곤 또는 수소와 같은 보호 분위기가 필요한 실험을 위해 안정적이고 기밀한 밀봉을 보장합니다.
- 통합 안전 경보 시스템: 장비와 연구원 또는 산업 작업자 모두를 보호하기 위해 각 컨트롤러에는 과온 조건 및 열전대 고장에 대한 내장 알람이 포함되어 있습니다. 이러한 사전 모니터링은 무인 작동 중에도 시료의 무결성과 연구실 시설의 안전을 보장합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 상 다이어그램 측정 | 새 합금 조성의 상 변화를 매핑하기 위해 서로 다른 온도점에서 여러 실험을 동시에 수행 | 단일 튜브 시스템 대비 재료 발견 기간을 600% 단축 |
| 세라믹 소결 연구 | 최적 조밀화 온도와 분위기 요구 사항을 결정하기 위해 다양한 세라믹 분말 성형체를 병렬 처리 | 배치 간 비교 연구에서 절대적인 일관성 보장 |
| 반도체 웨이퍼 어닐링 | 제어된 가스 환경에서 소형 반도체 부품 또는 박막의 고순도 열처리 수행 | 고순도 석영 격리를 통해 산화와 금속 오염 최소화 |
| 박막 CVD 개질 | 필름 성장 실험을 위해 특수 가스 공급 시스템을 통합하여 화학 기상 증착에 시스템을 적용할 수 있음 | 기본 어닐링부터 복잡한 기상 증착 연구까지 확장 가능 |
| 금속 합금 시효 처리 | 6가지 다른 합금 시료의 장기 열 시효 처리를 통해 시간에 따른 기계적 특성 변화 관찰 | 대규모 야금 특성 분석 프로젝트를 위한 고처리량 데이터 수집 |
| 촉매 테스트 | 여러 독립 온도 구역에 걸쳐 화학 촉매의 열 안정성과 활성화 에너지 평가 | 고정밀 열 프로파일링을 통해 활성화 임계값을 정확하게 측정 가능 |
| 고체 전해질 합성 | 제어된 질소 또는 아르곤 흐름 내에서 여러 변형 고체 배터리 재료를 열처리 | 재료 제형의 고빈도 반복을 허용하면서도 높은 순도를 유지 |
기술 사양
| 매개변수 | TU-68의 사양 |
|---|---|
| 제품 식별자 | TU-68 |
| 퍼니스 구조 | 단일 섀시에 통합된 6개의 독립적인 튜브 퍼니스 모듈 |
| 튜브 치수 | 6개의 고순도 석영 튜브: 외경 Φ50mm x 내경 Φ46mm x 길이 460mm |
| 최대 온도 | 1200 °C |
| 온도 정확도 | ± 1.0 ℃ |
| 가열 속도 | 분당 최대 20 °C |
| 가열 요소 | Ni-Cr-Al 저항 와이어 |
| 열전대 유형 | 6개의 S형 열전대 |
| 온도 제어 | 과온 보호 기능이 탑재된 6개의 24세그먼트 디지털 프로그래밍 가능 PID 컨트롤러 |
| 진공 성능 | 최대 10^-5 torr (펌프 유형에 따라 다름); 기계식 게이지 포함 |
| 진공 연결부 | 니들 밸브와 4개의 유량계가 장착된 KF25 퀵 클램프 플랜지 |
| 통신 인터페이스 | 중앙 기록 및 제어를 위한 PC 소프트웨어가 포함된 RS485 포트 |
| 분위기 제어 | 진공 또는 유동 가스에 적합 (최대 압력: 7.5 PSI / 0.5 기압) |
| 전원 공급 | 10 KW, 208 - 240V 단상, 50/60Hz (6개 모듈이 모두 작동하는 경우) |
| 인증 | CE 인증 (요청 시 NRTL/UL61010 또는 CSA 인증 제공 가능) |
저희 제품을 선택해야 하는 이유
- 비교할 수 없는 연구 속도: 6개의 동시 실험을 가능하게 함으로써, 이 시스템은 연구실이 기존 단일 영역 퍼니스에 필요한 시간의 일부분으로 연구 프로젝트를 완료할 수 있게 하여, 신소재의 시장 출시 기간에서 상당한 경쟁 우위를 제공합니다.
- 정밀 엔지니어링과 안정성: 고품위 석영, S형 열전대 및 독립 PID 제어의 조합은 각 채널이 전문가 수준의 재현성을 제공하도록 보장하며, 이는 동료 평가 연구와 산업 품질 관리에 필수적입니다.
- 견고한 다채널 신뢰성: 임시로 만든 장치와 달리, 이 제품의 통합 아키텍처는 고온 작동을 위해 안정적이고 전기적으로 안전하며 인증된 환경을 제공하며, 수천 시간의 서비스를 위해 설계된 프리미엄 가열 요소가 뒷받침합니다.
- 사용자 정의 가능한 분위기 제어: 고진공 또는 유동 불활성 가스 환경에서 작동할 수 있는 유연성을 통해 연구자들이 시료의 특정 화학적 특성에 맞춰 환경을 조정할 수 있으며, 산화를 방지하고 고가치 실험 결과의 순도를 보장합니다.
- 확장 가능하고 통합이 용이함: PC 기반 제어와 CVD 응용 분야로 변경할 수 있는 기능을 통해 이 투자는 연구실의 요구에 맞춰 확장되며, 기본 어닐링에서 고급 재료 합성까지 원활하게 전환됩니다.
저희 엔지니어 팀이 귀하의 고처리량 연구 요구 사항에 맞는 최적의 열 솔루션 구성을 도울 준비가 되어 있습니다. 귀하의 연구실 사양에 맞춘 기술 상담 또는 공식 견적을 원하시면 지금 바로 문의하세요.
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