제품 개요
이 고온 수직형 진공 밀폐 시스템은 재료 과학 및 반도체 연구를 위한 열 처리 공정의 정점을 보여줍니다. 정밀한 어닐링 및 하소 공정을 용이하게 하도록 설계된 이 장치는 수직 방향을 채택하여 공간을 최적화하는 동시에 대형 기판에 균일한 열 환경을 제공합니다. 이 장비는 상압에서 최대 1100°C의 작동 온도에 도달할 수 있는 고내구성 석영 챔버를 중심으로 구축되어, 고순도 재료 개발 및 첨단 전자 부품에 집중하는 실험실에 필수적인 도구입니다.
이 시스템은 최대 8인치 직경의 반도체 웨이퍼를 수용하도록 특별히 설계되었으며, 진공 환경 공정과 제어된 가스 분위기 실험 모두를 위한 다목적 플랫폼을 제공합니다. 수냉식 기능이 통합된 정교한 스테인리스 스틸 밀폐 플랜지를 통합함으로써, 이 시스템은 장시간의 고열 사이클 중에도 구조적 무결성과 밀폐 수명을 유지합니다. 이 장비는 섬세한 기판을 위해 신뢰할 수 있고 반복 가능하며 대용량인 열 처리 솔루션이 필요한 산업 R&D 센터 및 학술 기관에서 선호하는 선택입니다.
까다로운 산업 환경에서의 신뢰성을 위해 제작된 이 열 처리 장치는 고품질 저항선과 첨단 내화 재료를 사용하여 일관된 성능을 보장합니다. NRTL 인증 디지털 컨트롤러부터 이중 실리콘 O-링 밀폐 메커니즘에 이르기까지 모든 구성 요소는 조달 팀과 수석 엔지니어에게 시스템의 장기적인 작동 안정성에 대한 확신을 제공하도록 선택되었습니다. 이 장치는 정밀도와 가동 시간이 성공의 핵심 지표인 24/7 연구 환경에 필요한 견고함을 제공합니다.
주요 특징
- 대용량 석영 챔버: 이 시스템은 8인치 외경의 대구경 GE214 석영 튜브를 특징으로 하며, 반도체 웨이퍼 및 대량 재료 샘플을 탁월한 투명도와 순도로 처리할 수 있도록 특별히 설계되었습니다.
- 첨단 수냉식 밀폐 플랜지: 내장된 수냉식 재킷이 진공 밀폐 어셈블리를 열화로부터 보호하여, 스테인리스 스틸 플랜지가 실리콘 O-링을 녹이지 않고 1100°C 이상의 온도에서도 기밀을 유지할 수 있게 합니다.
- 정밀 PID 온도 제어: NRTL 인증 디지털 컨트롤러는 램핑, 냉각 및 유지를 위한 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 제공하여 반도체 제조에 필요한 민감한 열 프로필에 대해 ±1°C의 정확도를 보장합니다.
- 우수한 진공 성능: 고진공 펌프 스테이션과 원활하게 작동하도록 설계된 이 장치는 터보 펌프 사용 시 10^-5 Torr 수준의 진공에 도달할 수 있으며, 이는 산소에 민감한 하소 및 어닐링 작업에 필수적입니다.
- 견고한 가열 요소 설계: 고급 Ni-Cr-Al 저항선을 사용하여 분당 최대 20°C의 빠른 가열 속도를 제공하며 반복적인 열 사이클 전반에 걸쳐 뛰어난 내구성을 유지합니다.
- 통합 안전 및 경보: 이 장비에는 내장된 과열 및 열전대 고장 경보가 포함되어 있어, 퍼니스와 내부에서 처리되는 귀중한 재료 모두를 위한 자동 보호 기능을 제공합니다.
- 유연한 분위기 관리: 고정밀 니들 밸브와 다중 가스 유입/배출 포트를 갖추고 있어 가열 과정 중에 불활성 또는 반응성 가스를 정밀하게 주입할 수 있습니다.
- 확장 가능한 모니터링 옵션: 기계식 진공 게이지가 기본으로 포함되어 있으며, 가스 독립형 디지털 진공 게이지와 실시간 데이터 로깅 및 원격 모니터링을 위한 PC 통신 포트를 옵션으로 선택할 수 있습니다.
- 고하중 적재 능력: 최대 40kg의 재료 무게를 지탱하도록 설계되었으며, 수직 챔버 구조는 구조적 무결성을 저해하지 않으면서 산업 등급의 샘플 부하를 처리할 수 있도록 보강되었습니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 반도체 웨이퍼 어닐링 | 이온 주입 후 격자 손상을 복구하기 위해 최대 8인치 웨이퍼 처리. | 정밀한 ±1°C 제어로 웨이퍼 표면 전체에 균일한 전기적 특성 보장. |
| 항공우주 재료 하소 | 진공 상태에서 세라믹 매트릭스 복합재의 고온 산화 및 하소. | 무산소 환경을 통해 고순도를 유지하여 핵심 합금의 오염 방지. |
| 박막 증착 연구 | 첨단 태양전지를 위한 기판 준비 및 증착 후 열처리. | 대형 190mm 내경 챔버로 여러 기판을 동시에 수용하여 높은 처리량 테스트 가능. |
| 전고체 배터리 R&D | 제어된 가스 분위기에서 세라믹 전해질 및 양극 재료 소결. | 신뢰할 수 있는 가스 유입/배출 시스템으로 소결 중 정확한 화학 조성 제어 가능. |
| 전자 부품 노화 테스트 | 극한의 열 조건에서 센서 및 고전력 전자 모듈의 스트레스 테스트. | 수직 방향으로 부품 변형을 최소화하는 특수 지그 및 고정 장치 설정 가능. |
| 진공 탈가스 | 주조 전 특수 유리나 금속 분말에서 갇힌 가스 제거. | 고진공 성능(10^-5 Torr)으로 휘발성 물질을 완전히 제거하여 우수한 재료 밀도 확보. |
기술 사양
| 사양 | TU-QF02 상세 정보 |
|---|---|
| 전압 | 단상 208 - 240 VAC / 50/60Hz |
| 최대 전력 | 3 KW (25 A 차단기 설치됨) |
| 최대 작동 온도 (상압) | < 1100°C |
| 최대 작동 온도 (진공) | < 1000°C |
| 옵션 최대 온도 | 1150°C (업그레이드된 GE214 석영 튜브 사용 시) |
| 가열 속도 | 권장: 10°C/분; 최대: < 20°C/분 |
| 가열 요소 | Ni-Cr-Al 저항선 |
| 석영 튜브 치수 | Ø200 × Ø190 × H425 mm |
| 최대 적재 용량 | 40 Kg |
| 유효 가열 영역 | Ø240 × H245 mm |
| 플랜지 어셈블리 | 이중 고온 실리콘 O-링 및 수냉식 재킷이 포함된 스테인리스 스틸 |
| 가스 관리 | 니들 밸브가 있는 1/4" 가스 유입구 1개 및 배출구 1개 |
| 진공 포트 | 펌프 연결을 위한 내장형 KF25 포트 |
| 진공 수준 (기계식 펌프) | 30분 이내 10^-2 Torr (열 차단 블록 제외) |
| 진공 수준 (터보 펌프) | 30분 이내 10^-5 Torr (900°C에서 석영 열 차단 블록 사용 시) |
| 온도 컨트롤러 | 30개 세그먼트 PID 디지털 컨트롤러, NRTL 인증 |
| 온도 정확도 | ± 1 ºC (표준); ± 0.1 ºC (Eurotherm 옵션) |
| 진공 게이지 | 기계식 게이지 (-0.1 ~ 0.15 Mpa); 디지털 압력 게이지 옵션 |
| 표준 준수 | CE 인증 (요청 시 NRTL/CSA 가능) |
| 냉각 요구 사항 | 플랜지 보호를 위한 16 L/min 수류 |
| 통신 | 기본 DB9 PC 통신 포트 포함 |
TU-QF02를 선택해야 하는 이유
- 규모를 고려한 정밀 설계: 표준 실험실용 퍼니스와 달리, 이 시스템은 8인치 직경의 대규모 처리 영역을 제공하여 열 매개변수를 변경하지 않고도 소규모 샘플 R&D에서 파일럿 규모 생산으로 직접 전환할 수 있습니다.
- 우수한 열 관리: 수냉식 플랜지 시스템의 통합으로 최대 온도에서도 밀폐 무결성이 저하되지 않아 소모품의 수명을 연장하고 유지보수 비용을 크게 절감합니다.
- 적응형 진공 아키텍처: 기본적인 기계식 진공 수준이 필요하든 터보 분자 펌프를 통한 초고진공 환경이 필요하든, 시스템의 유연한 KF25 인터페이스와 고급 스테인리스 스틸 밸브가 귀하의 특정 공정 요구 사항을 지원합니다.
- 인증된 안전성 및 신뢰성: NRTL 인증 컨트롤러와 CE 준수를 통해 이 장비는 현대 산업 제조 및 고위험 연구 시설에서 요구하는 엄격한 안전 및 품질 표준을 충족합니다.
- 맞춤형 제어 옵션: Eurotherm 고정밀 컨트롤러부터 디지털 가스 혼합 스테이션에 이르기까지, 시스템을 특수 재료 처리 프로토콜에 맞게 조정하는 데 필요한 하드웨어 모듈성을 제공합니다.
저희 기술 팀은 귀하의 시설을 위한 맞춤형 구성이나 공식 견적을 도와드릴 준비가 되어 있습니다. 이 수직형 진공 시스템이 귀하의 열 처리 역량을 어떻게 향상시킬 수 있는지 지금 바로 문의하십시오.
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