연속 재료 합성을 위한 자동 분말 공급 및 수신 시스템 장착 1500C 3존 회전식 관로로

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연속 재료 합성을 위한 자동 분말 공급 및 수신 시스템 장착 1500C 3존 회전식 관로로

품목 번호: TU-X08

최고 온도: 1500°C 가열 구역 구성: 3 구역 (총 600mm) 튜브 회전 및 기울기: 0-10 RPM / -5° ~ 20° 기울기
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제품 개요

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이 고온 회전 열처리 시스템은 연속 재료 합성 및 화학 기상 증착(CVD) 기술에서 중요한 발전을 나타냅니다. 고처리량 실험실 및 산업 R&D를 위해 설계된 이 장비는 정밀한 3존 가열 구조와 자동화된 분말 처리 메커니즘을 통합합니다. 이 장치는 회전 반응관을 통해 재료의 연속 흐름을 제공함으로써 기존 배치식 로의 한계를 극복하도록 설계되어, 모든 입자가 균일한 열 이력과 대기 노출을 경험하도록 보장합니다. 이는 일관성이 가장 중요한 첨단 분말 개발에 필수적인 도구입니다.

이 시스템의 주요 용도는 특수 에너지 재료, 특히 리튬이온 배터리 양극 및 음극 분말의 생산에 있습니다. 무기 화합물의 소성 및 전도성 코팅 적용을 용이하게 함으로써, 이 장비는 LiFePO3 및 LiMnNiO3 합성을 포함한 배터리 화학 연구에서 중요한 역할을 합니다. 또한, 회전 동작은 회전 CVD를 통한 실리콘/탄소(Si/C) 복합 음극 개발에 이상적입니다. 목표 산업에는 입자 형상 및 표면 화학에 대한 정밀한 제어가 필요한 에너지 저장 장치 제조, 첨단 세라믹, 반도체 전구체 개발 등이 포함됩니다.

고성능 신뢰성을 위해 제작된 이 시스템은 이중 케이싱과 강제 공기 냉각 팬을 통합하여 1500°C 작동 중에도 안전한 외부 온도를 유지합니다. 고순도 알루미나 섬유 단열재를 사용하여 빠른 열 응답성을 보장하면서 에너지 효율을 극대화합니다. B2B 구매 팀은 진공 또는 제어된 대기 조건 하에서 장기간 사용과 반복 가능한 성능을 위해 설계된 내구성 부품으로 제작되어 까다로운 24/7 연구 사이클에 이 장비를 신뢰할 수 있습니다. 파일럿 규모 생산 또는 기초 재료 과학에 사용되든, 이 시스템은 중요한 열 공정에 필요한 엔지니어링 견고성을 제공합니다.

주요 특징

  • 첨단 3존 열 관리: 이 로는 각각 200mm 길이의 3개의 독립적인 가열 존을 갖추고 있어 총 600mm의 가열 길이를 제공합니다. 이 구성은 사용자가 맞춤형 열 구배를 생성하거나 ±1°C 이내의 예외적으로 안정된 200mm 등온 영역을 유지할 수 있게 하여, 복잡한 다단계 화학 반응에 필수적입니다.

  • 통합 자동 공급 및 수신 루프: 컴팩트하고 진공 밀폐형 자동 분말 공급기가 특수 스위블 어셈블리를 통해 장착됩니다. 최대 97 cm³/min의 연속적이고 조절 가능한 공급 속도를 허용합니다. 배출 끝에는 2리터 스테인리스 스틸 탱크가 처리된 재료를 주변 공기에 노출시키지 않고 수집하여 산소 또는 수분에 민감한 화합물의 무결성을 보존합니다.

  • 가변 속도 회전 구동 및 전동 틸트: 이 시스템은 고토크 기어 DC 모터를 사용하여 처리관을 0~10 RPM으로 회전시킵니다. -5°에서 20°까지 로 각도를 조절하는 전동 틸팅 메커니즘과 결합되어, 사용자는 핫 존을 통한 재료의 체류 시간과 이동 속도를 정밀하게 제어하여 최적의 처리 효율을 보장할 수 있습니다.

  • 고성능 탄화규소(SiC) 발열체: 24개의 고급 탄화규소(SiC) 로드로 장착된 이 로는 1500°C의 최고 온도에 도달할 수 있습니다. 이러한 발열체는 특히 공기 또는 불활성 분위기에서 장기간 고온 사이클 동안 안정적인 성능을 유지하는 우수한 내구성과 능력 때문에 선택되었습니다.

  • 진공 및 대기 제어 기능: 반응 챔버는 스테인리스 스틸 플랜지와 회전 가능한 가스 커넥터로 밀봉되어 4.5x10-2 torr의 진공 수준을 달성합니다. 이는 0.1 mtorr/s 미만의 누출율로 제어된 가스 환경(질소, 아르곤 또는 수소 혼합물 등)에서 고순도 처리를 가능하게 합니다.

  • 정밀 PID 프로그래밍: 3개의 독립적인 디지털 컨트롤러는 가열, 유지 및 냉각을 위한 30개의 프로그래밍 가능한 세그먼트를 제공합니다. 이 수준의 제어는 고정밀 S형 열전쌍과 결합되어, 복잡한 열 프로파일이 3개 존 모두에서 절대적인 반복성을 가지고 실행될 수 있도록 보장합니다.

  • 인체공학적 스플릿 커버 설계: 로 본체는 관 교체 또는 청소를 쉽게 할 수 있도록 하는 스플릿 커버로 설계되었습니다. 이 기능은 필요할 때 챔버의 급속 냉각도 가능하게 하여 연속적인 연구 시험의 처리율을 높입니다.

  • 견고한 안전 및 규정 준수 엔지니어링: 이 장치는 CE 인증을 받았으며 내부 냉각 팬 및 보호 차폐물을 포함한 산업 등급 안전 기능으로 제작되었습니다. 선택적 NRTL(UL61010) 또는 CSA 인증을 사용할 수 있어, 이 시스템이 글로벌 실험실 환경의 엄격한 안전 기준을 충족하도록 보장합니다.

응용 분야

응용 분야 설명 주요 이점
리튬이온 배터리 양극재 합성 특정 상 순도를 달성하기 위한 LiFePO3 및 LiMnNiO3 재료의 연속 소성. 균일한 열처리를 통해 전기화학적 성능을 향상시킵니다.
Si/C 음극 개발 회전 화학 기상 증착을 통해 흑연 또는 실리콘 입자에 나노층 코팅 적용. 고에너지 밀도 배터리 셀을 위한 향상된 사이클 안정성.
무기물 소성 균일한 기체-고체 상호작환이 필요한 세라믹 분말 및 금속 산화물 처리. 응집을 방지하고 일관된 입자 형상을 보장합니다.
분말 표면 개질 고온에서 제어된 대기 노출을 통해 분말의 표면 특성 수정. 회전으로 인한 모든 입자 표면의 균일한 코팅 적용.
탄소 나노튜브 성장 회전 CVD 방법을 사용하여 촉매 기판에 특수 탄소 구조 성장. 최소 결함으로 고순도 나노튜브의 확장 가능한 생산.
대기 열처리 산화를 방지하기 위한 환원성 또는 불활성 분위기에서의 야금 분말 처리. 높은 진공 무결성은 산업 R&D에 필요한 순도 수준을 보장합니다.

기술 사양

특징 모델 TU-X08에 대한 사양 상세
제품 모델 TU-X08
최고 온도 1500°C (< 1 시간)
연속 작동 온도 1400°C
가열 존 구성 3개의 독립적인 존: 200 mm + 200 mm + 200 mm (총 600 mm)
등온 영역 ±1°C 이내 200 mm (인접한 두 존이 동기화되었을 때)
발열체 24개 탄화규소(SiC) 로드 (직경 14mm, 가열 길이 150mm)
처리관 재질 알루미나 세라믹(표준) 또는 용융 석영(선택 사항)
관 치수 외경(OD) 60 mm
관 회전 속도 0 - 10 RPM (DC 모터를 통한 가변)
로 틸트 각도 전동 액추에이터를 통해 -5° ~ 20° 조절 가능
진공 수준 4.5x10-2 torr (모든 밸브가 닫혔을 때)
기밀성 < 0.1 mtorr/s 누출율
온도 제어 3개의 PID 디지털 컨트롤러; 30-세그먼트 프로그래밍 가능; ±1°C 정확도
열전쌍 고온 내성 커넥터가 있는 3개의 S형
자동 공급 속도 최대 97 cm³/min까지 조절 가능
수신 탱크 용량 2리터 스테인리스 스틸 (기밀)
로 구조 3개의 통합 냉각 팬이 있는 이중 케이싱
전원 공급 로: 최대 11 KW, 208-240V 단상; 공급기: 최대 200W
선택적 제어 인터페이스 PC 소프트웨어/WiFi 제어 (노트북과 함께, MTS01 시스템)
인증 CE 인증 (요청 시 NRTL/UL61010/CSA 사용 가능)

1500C 3존 회전식 관로로를 선택하는 이유

  • 우수한 열 균일성: 정적 로와 달리, 이 시스템의 회전 동작은 정교한 3존 PID 제어와 결합되어 콜드 스폿을 제거하고 모든 재료가 동일한 열 조건 하에서 처리되도록 보장합니다.
  • 산업 R&D를 위한 확장성: 배치 처리에서 연속 처리로의 전환은 재료 합성 규모 확장에서 가장 중요한 단계입니다. 이 시스템은 실험실 규모 발견과 산업 생산 사이의 격차를 메우는 데 필요한 데이터와 성능을 제공합니다.
  • 뛰어난 대기 무결성: 0.1 mtorr/s 미만의 누출율과 특수 기밀 공급/수신 루프로, 이 장치는 산소 또는 수분 오염을 허용할 수 없는 가장 민감한 화학 공정을 위해 설계되었습니다.
  • 장기간 운영 신뢰성: 1500°C 등급 SiC 발열체와 고순도 알루미나 단열재를 사용함으로써, 귀하의 투자가 고온 연속 작동의 엄격한 조건 하에서도 정밀도와 성능을 유지하도록 보장합니다.
  • 맞춤형 구성: 관 재질(알루미나 또는 석영)부터 원격 데이터 로깅을 위한 고급 소프트웨어 통합에 이르기까지, 이 장비는 귀하의 연구 시설의 특정 요구 사항을 충족하도록 맞춤 설정될 수 있습니다.

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